專利名稱：尤其電解式的金屬構件表面的處理設備的制作方法
技術領域：
本發明的其它特征和優越性，將由下面參照僅作為非限制性實施 例給出的附圖所作的說明顯示出來。圖4類似于
圖1，但沒有鼓筒。
具體實施例方式
根據本發明的處理設備的實施方法，將每個構件浸入池中，并使 之至少進行旋轉運動，這樣，電解池內可能形成的氣泡從所述構件的內壁 排出。 每個進行接觸的接觸墊9與聯接于電源13的纜線或銅絲編織物 12相連接。
[391 石墨觸點在鼓筒的傳動環的側面10a、 10b上摩擦，從而實際上 將電流傳輸至齒輪的整個結構，其中，導向裝置3用作盒體的支承件。
[40導向裝置3有利地配有固定至所述導向裝置的柔性接觸片，用以 將導向裝置的電接觸傳輸至相應的盒體4,并因而傳輸至固定在其上的構 件，從而因此在構件和電極8a、 8b之間進行電解，其中所述構件在該實 施例中連接并被正極極化。
[41應明確指出，根據優選實施方式，電極8a、 8b有利地由負極極 化的鋁板構成。
[42另外考慮到，構成電極的鋁板例如布置在鼓筒的兩側，位于電解 池的壁附近，并且鋁板平行于鼓筒的旋轉軸延伸。
43如此配置的電解池l被充注入電解溶液，例如硫酸，用以鋁的陽 極處理，所述電解池可對固定在盒體上的鋁制構件進行陽極處理。通過該 系統對固定于盒體的構件進行電解，所述盒體在齒輪上進行橫向的及轉動 的運動，從而可對在處理池中移動的構件進行連續電解。[44顯然，本發明不局限于作為例子所述的和所示出的實施方式，而 且也包括所有技術等同件及其組合。
權利要求
1. 金屬構件表面的處理設備(100)，其具有電解池(1)，所述電解池容納處理液體(20)，待處理構件被浸入到所述處理液體中，其特征在于，所述待處理構件固定在樞轉的鼓筒(2)上，以使在所述電解池中的每個構件至少進行旋轉運動；并且，所述電解池(1)具有至少兩個電極(8a，8b)，而所述鼓筒借助至少一個接觸墊(9)被供以極性與所述電極的極性相反的電流，所述接觸墊被帶至與驅動所述鼓筒的傳動環(10)接觸。
2. 根據權利要求l所述的處理設備(100)，其特征在于，所述電解 池具有一組接觸墊(9)，例如二乘十五個接觸墊(9a， 9b, 9c, ...9o)。
3. 根據權利要求2所述的處理設備(100)，其特征在于，與所述鼓 筒的電接觸通過使所述傳動環(10 )夾置在兩個系列的接觸墊之間來進行， 其中每系列包括十五個接觸墊。
4. 根據權利要求3所述的處理設備(100),其特征在于，所述接觸 墊(9)是石墨制的，這些接觸墊安裝成朝所述傳動環的側面(10a， 10b) 平移地活動，并且它們由彈性系統例如彈簧促動而支靠在相應側面的相應 面上。
5. 根據權利要求4所述的處理設備(100),其特征在于，在側向的 所述兩個系列的接觸墊按以所述鼓筒的樞轉中心為圓心的圓弧的形式加以 布置。
6. 根據權利要求5所迷的處理設備(100)，其特征在于，每個進行 接觸的接觸墊(9 )與聯接于電源(13 )的纜線或銅絲編織物(12 )相連接。
7. 根據前述權利要求中任一項所述的處理設備(100)，其特征在于， 所述鼓筒的外周邊具有一系列導向裝置(3),這些導向裝置用于滑動地接 納用作所述待處理構件的支承件的盒體(4)。
8. 根據權利要求7所述的處理設備(100),其特征在于，所述導向 裝置(3)配設有固定于這些導向裝置的柔性的接觸片(14)，以便將所述 導向裝置的電接觸傳輸至相應的盒體U)、并因而傳輸至固定在其上的構件，從而因此進行電解。
9. 根據前述權利要求中任一項所述的處理設備(100)，其特征在于， 所述電解池(1)具有馬達，該馬達用于借助齒輪(6)與一系列桿(7)的 配合來使樞轉的所述鼓筒(2 )轉動，所述桿彼此平行地安裝在所述鼓筒的 側面(10)之一的兩凸緣(10a， 10b)之間。
10. 根據前述權利要求中任一項所述的處理設備(100)，其特征在于， 所述電解池(1)具有兩電極(8a， 8b),所述兩電極連接于負極性或正 極性，而所述鼓筒(2)被供以相反的極性。
11. 根據權利要求10所述的處理設備(100)，其特征在于，所述電 極(8a, 8b)由鋁板構成。
全文摘要
金屬構件表面的處理設備(100)，其具有一電解池(1)，所述電解池裝有處理液體(20)，待處理構件浸入在所述處理液體中，其特征在于，待處理構件固定在樞轉的鼓筒(2)上，以使電解池中的每個構件至少進行旋轉運動，并且，電解池(1)具有至少兩個電極(8a，8b)，而鼓筒由至少一個接觸墊供給極性與電極的極性相反的電流，所述接觸墊被帶至與驅動鼓筒的傳動環相接觸。
文檔編號C25D17/02GK101426963SQ200780014344
公開日2009年5月6日 申請日期2007年4月19日 優先權日2006年4月21日
發明者F·瓦謝龍 申請人:金鷹貿易有限公司