專利名稱：用于處理微型零件工件的濕化學處理室的制作方法
技術領域：
本發明的目的在于用于對微型零件工件(microfeatureworkpieces)進行處理的設備和方法，該微型零件工件具有多個集成在工件中和/或上的微型器件。這些微型器件可包括亞微米零件(submicron features)。本發明的特殊方面目的在于一種濕化學處理室，其具有固定單元(fixed unit)和為了維修該室內部件而可快速拆除的可拆卸單元(detachable unit)。本發明另外方面的目的在于一種具有固定單元和可拆卸電極單元的電化學沉積室。
背景技術：
微型器件是通過在單個基底(substrate)上沉積并加工若干材料層制造的，從而生產出的大量單獨的器件。例如，對光致抗蝕劑，導電材料和電介質材料的層進行沉積，形成圖案，顯影，蝕刻，平面化，以及其他處理，從而在基底中和/或上形成零件。布置這些零件以便形成集成電路，微流體系統，和其他結構。
通常采用濕化學處理在微型零件工件上形成零件。一般在濕化學處理設備(tools)中進行濕化學處理，該化學處理設備中具有多個獨立的處理室，用于進行清潔，蝕刻，電化學沉積材料，或進行這些處理的組合。圖1概略示出綜合設備10，其可進行一種或多種濕化學處理。設備10包括具有平臺(platform)22的殼體或箱20，多個位于箱20內的濕化學處理室30，以及傳送系統40。該設備10還包括與相應處理室30連接的升降-旋轉單元(lift-rotate units)32，用于裝/卸工件W。處理室30可以是清洗/干燥室，清潔盒，蝕刻盒，電化學沉積室，或其他類型的濕化學處理容器(vessels)。傳送系統40包括線性軌道42和機械手44，該機械手44沿軌道42移動，以便在設備10內傳送各個工件W。綜合設備10進一步包括工件存儲單元60，其具有多個用于保存工件W的貯器(containers)62。在運轉中，機械手44根據預定的工作流程(workflow)，在設備10內向/從貯器62以及處理室30傳送工件。
操作綜合濕化學處理設備的一個問題是修理和/或維護這些處理室。在電化學沉積室中，例如，自耗電極隨時間而退化，因為電極與電解溶液之間的反應會分解電極。因此，自耗電極形狀變化會使電場發生變化。結果，必須定期地更換自耗電極，以便在工件上保持預期的沉積參數。還需要定期地對那些接觸工件的電觸點進行清潔或更換。為了維護或修理電化學沉積室，可將它們從設備10中拆下，并用備用室替換它們，或者可在設備內就地維修。
修理或維護現有濕化學處理室的一個問題是，設備必須長時間脫機(offline)，以便更換電極或維修處理室30內的其他部件。當從設備上拆下處理室30時，把預先維修過的處理室30安裝到平臺22的空位置上。當在平臺上就地維修處理室30時，通常要將升降-旋轉單元32移開，操作者再從上面進入處理室30中，以修理或更換室30內的部件。例如，為了更換自耗電極，要斷開舊電極與室30的連接，然后安裝上新電極。這是非常麻煩的處理過程，因為在設備10內只有有限量的空間進入到電極所處的室30的下部分。在對室30修理過或更換之后，要對機械手44和升降-旋轉單元32重新校準，以使其與處理室一起工作。
為更換舊電極，在設備內就地維修其他部件，或進行室的更換所用的處理過程需要相當長的時間，在這期間設備無法處理工件。此外，通常在每次修理后，要相對于已修理過的室對機械手44和升降-旋轉單元32重新校準；這是一個耗時的處理過程，其增加了修理或維護處理室的停機時間。因此，當設備10內只有一個處理室30沒有達到規格要求時，經常更為有效的是繼續運轉該設備10，而不停工對那個處理室30進行修理，直到有更多的處理室沒有達到性能規格要求。所以，單個處理室30的產量損失沒有象為修理或維護單獨一個處理室30而使設備10脫機所造成的產量損失那么嚴重。
設備10操作實踐證明，直到至少兩個處理室30沒有達到規格要求才嚴重地影響設備10的產量。例如，如果設備10沒有修理或維護，直到至少兩個或三個處理室30不符合規格要求，那時設備要有一段時間運轉只是其全部工作能力的一部分然后才脫機維護。這增加了設備10的運轉成本，因為其產量不僅由于設備10脫機更換濕化學處理室30和重新校準機械手44時受到損失，而且在設備聯機(online)時，由于運轉僅是其全部工作能力的一部分，也降低了產量。此外，當零件尺寸縮小時，電化學沉積室30也必須始終如一地達到更高的性能規格要求。這就造成處理室30很快脫離其規格要求，從而導致設備頻繁地停機。因此，與修理和/或維護電化學沉積室或其他類型濕化學處理室相關的停機時間大大地增加了濕化學處理設備的運轉成本。
發明概述本發明的目的在于具有速卸的可拆卸單元的濕化學處理室，與現有的濕化學處理室相比，其減少了用于修理或維護該室內處理部件所需的停機時間。在發明的濕化學處理室的幾個實施例中，由可拆卸單元容納或其他方式安裝那些需要定期維護或修理的處理部件。例如，電極可以是容納在可拆卸單元內的一種類型的處理部件。可通過將可拆卸單元從室中簡單地拆下并裝上替換的可拆卸單元，快速地更換這些處理部件。通常，不必移動升降-旋轉單元或拆下這些室的頭部組件(head assembly)，就可接近該可拆卸單元。還可利用易于接近的速卸機構，將可拆卸單元連接到室上。象這樣，與在現有濕化學處理室上用于進行相同工作所需的幾個小時相比，通過將這些部件設置在可拆卸單元中只要幾分鐘便可拆卸和更換，這就縮短了修理或維護電極或室內其他處理部件所需的停機時間。
在一個實施例中，根據本發明的濕化學處理室包括固定單元，可分離地連接到固定單元上的可拆卸單元，與固定單元和可拆卸單元接觸的密封，以及位于固定單元和/或可拆卸單元內的處理部件。固定單元可具有構造為引導處理流體流過該固定單元的第一流動系統，和用于將該固定單元固定連接到綜合處理設備的平臺或蓋板(deck)上的安裝夾具(mounting-fixture)。可拆卸單元可包括構造為引導處理流體流向固定單元第一流動系統和/或使處理流體從固定單元第一流動系統流出的第二流動系統。密封具有孔，處理流體可通過該孔在第一流動系統和第二流動系統之間流動，并且處理部件可將特性(property)傳給處理流體，以便對具有亞微米微型零件的微型零件工件的表面進行處理。
本發明的另一方面是一種用于對微型零件工件進行濕化學處理的綜合設備。在一個實施例中，該設備包括具有多個定位元件和連接元件的安裝模塊(mounting moolule)。在這個實施例中，濕化學處理室可具有包含安裝夾具的固定單元，安裝夾具具有與安裝模塊中一個定位元件相接合的第一接口構件(interface member)，以及與安裝模塊中一個連接元件相接合的第一緊固件。安裝模塊構造為保持定位元件之間的相對位置，以便當用另一個處理室替換該處理室時，或用另一個可拆卸單元替換某一可拆卸單元時，不必對從/向濕化學處理室傳送工件的傳送系統進行重新校準。
本發明的目的還在于具有至少一個在速卸可拆卸單元內的電極的電化學沉積室，其縮短了用于更換舊電極的停機時間。在發明的電化學沉積室的幾個實施例中，將一個或更多個自耗電極安裝在可拆卸單元內，該可拆卸單元可快速地拆除，并可用另一個可拆卸單元進行替換。因此，通過簡單地拆除具有舊電極的可拆卸單元，并裝上具有新電極的替換可拆卸單元，可迅速地用新電極更換舊電極。通常，可拆卸單元是室的下部，不必移動升降-旋轉單元或從上面打開該室，就可接近該部位。利用可易于接近的速卸機構，同樣將可拆卸單元連接到室上。象這樣，與通常用于更換現有電化學沉積室內電極所花費的幾個小時相比，通過將這些電極設置在只要幾分鐘便可拆除和更換的速卸可拆卸單元中，這就大大地縮短了修理或維護電極所需的停機時間。
在一個實施例中，電化學沉積室包括頭部組件和位于頭部組件下面的容器。頭部組件包括構造為將微型零件工件定位在處理位置的工件夾(holder)，以及設置成向工件上的層提供電流的電觸點。容器具有固定單元，該固定單元包括用于將該固定單元連接到設備蓋板上的安裝夾具，可拆卸單元，其可分離地在安裝夾具下面與固定單元連接，從而將其定位在設備蓋板的下面，接口元件，其位于固定單元與可拆卸單元之間，以便控制處理流體在固定單元與可拆卸單元件的流動，以及連接系統，其可分離地將可拆卸單元連接到固定單元上。電化學沉積室還包括位于可拆卸單元內的電極。在幾個特殊實施例中，可拆卸單元進一步還包括用于向容器提供處理流體的流體入口，和用于從容器排放處理流體的液體出口。
圖1是根據現有技術的濕化學處理設備俯視平面示意圖。
圖2是表示根據本發明一個實施例的濕化學處理室示意圖。
圖3是表示根據本發明實施例濕化學處理室的操作示意圖。
圖4A是截面圖，概略表示根據本發明實施例在拆卸構造中的濕化學處理室。
圖4B是截面圖，概略表示根據本發明實施例在裝配好構造中的濕化學處理室。
圖5是截面圖，概略表示根據本發明實施例在拆卸構造中的電化學沉積室。
圖6是截面圖，概略表示根據本發明實施例在裝配好構造中的電化學沉積室。
圖7是表示根據本發明實施例的電化學沉積室截面圖。
圖8是表示沿與圖7中不同截面的電化學沉積室截面圖。
圖9是表示根據本發明另一實施例的電化學沉積室所用容器的截面圖。
圖10是根據本發明實施例的電化學沉積室底部立體圖。
圖11是表示根據本發明另一實施例的電化學沉積室截面圖。
圖12A是根據本發明實施例用于從濕化學處理室上裝/卸可拆卸單元的支架(carriage)上部立體圖。
圖12B是根據本發明實施例用于裝/卸濕化學處理室可拆卸單元的支架下部立體圖。
圖13是根據本發明另一方面包括濕化學處理室的濕化學處理設備的俯視平面圖。
圖14是根據本發明實施例用于在濕化學處理設備中保持濕化學處理室的安裝模塊立體圖。
圖15是根據本發明實施例用于支承濕化學處理室的安裝模塊沿圖14中線15-15剖取的截面圖。
圖16是詳細表示安裝模塊蓋板部分的截面圖。
圖17是截面立體圖，概略表示根據本發明實施例由濕化學處理設備中安裝模塊支承的濕化學處理室。
詳細描述本文所使用的術語“微型零件工件”或“工件”指的是在其上和/或其中形成微型器件的基底。典型的微型器件包括微電子電路或部件，薄膜記錄頭，數據存儲元件，微流體器件(microfluidic devices)和其他制品。微型電機或微型機械器件也包括在該定義中，因為它們是以與集成電路相同的方式制造的。基底可以是半導體片(例如，摻雜的硅晶片或砷化鎵晶片)，不導電片(例如，各種陶瓷基底)或導電片。
在用于在工件結構中或其上電解或無電解沉積金屬或者電泳抗蝕劑的電化學沉積室內容中描述了幾個用于處理微型零件工件的濕化學處理室的實施例。然而，根據本發明的濕化學處理室也可用于蝕刻，清洗，或者在半導體基底或其他類型工件中和/或其上進行微型零件制造的其他類型的濕化學處理。在圖2-17中以及相關文字中陳述了幾個根據本發明濕化學處理室和綜合設備的實施例，以提供對本發明特殊實施例的全面理解。然而，本領域普通技術人員將理解，本發明可以具有附加實施例，或者沒有圖2-17中所示實施例的若干細節也可實施本發明。
A.濕化學處理室的實施例圖2概略示出濕化學處理室100，其可快速地修理或更換部件，以縮短維護處理室所用的停機時間。處理室100包括濕化學容器102和頭部104。由設備蓋板106支承容器102，該設備可包括其他幾個處理室(未示出)和用于自動裝卸工件的工件傳送系統(未示出)。容器102內裝有處理流體和若干部件，用于引導處理流體或以其他方式將特性傳給處理流體，以便處理工件。由升降-旋轉單元108支承頭部104，該升降-旋轉108移動頭部104，以裝/卸工件，并將工件定位在容器102內的處理位置109上。當處理室100是用于將材料電鍍到工件上的電化學沉積地點時，容器102一般具有流體流動系統和至少一個電極，并且頭部104一般包括具有觸點組件的工件夾，該觸點組件具有多個構造為與工件上導電層接合的電觸點。當處理室100是清潔室或其他類型的盒時，容器102則包括用于使流體流過工件的多個流體分配器(dispensers)，并且頭部104一般包括工件夾。在(a)美國專利號6,569,297，和6,660,137，以及(b)美國出版物號2003/0068837；2003/0079989；2003/0057093；2003/0070918；2002/0032499；2002/0139678；2002/0125141；2001/0032788；2003/0127337；和2004/0013808的文獻中公開了適合的電化學沉積室，本文包含它們的全部內容作為參考。此外，在美國專利號6,309,524和美國申請號6,527,925；以及2002/0000372的文獻中公開了適合的工件夾，本文同樣包含其全部內容作為參考。
容器102包括安裝在蓋板106上的固定單元110和由固定單元110支承的可拆卸單元120。固定單元110可包括底架(chassis)112，第一流動系統114(概略示出)，和安裝夾具116(概略示出)。底架112可以是絕緣殼體(dielectric housing)，其可與處理流體在化學性質上相兼容。例如，底架112可以是高密度聚合物和其他適合的材料。可將第一流動系統114構造為向處理位置109提供預定的流量。在電化學沉積室中，可將第一流動系統114構造為提供具有基本均勻速度、垂直于工件的方向、遍布整個處理位置109的流量。安裝夾具116可以是凸緣或從底架112向外凸出的環，以便與蓋板106的頂面相接合。可將安裝夾具116構造為如下面更加詳述的那樣，相對于蓋板106精確地設置固定單元110。固定單元110可進一步包括處理部件118(概略示出)，以將特性傳給流過該固定單元110的處理流體。例如，處理部件118可以是在處理位置109成形電場的電場成形元件，過濾器，薄膜，噴嘴，或其他類型的流體分配器。處理部件118也可以是這些類型結構的任何組合。在上面作為參考所包含的美國申請號09/872,151和09/804,697的文獻中公開了用于固定單元110中第一流動系統114，安裝夾具116和處理部件118的合適結構。
容器102中的可拆卸單元120包括貯器122，構造為引導處理流體流向固定單元110第一流動系統114和/或引導處理流體從固定單元110第一流動系統114流出的第二流動系統124(概略示出)，以及將特性傳給處理流體的處理部件126(概略示出)。第二流動系統124可包括入口和出口，用于向第一流動系統114輸送處理流體和接收來自第一流動系統114的處理流體。第一和第二流動系統114和124共同運行，以在處理位置提供處理流體預定流量。也可將第一和第二流動系統114和124構造為提供相對于處理部件126的正向流(forwardflow)。在正向流系統中，在處理流體到達處理位置109之前，處理流體流過可拆卸單元120內的處理部件126。也可將第一和第二流動系統114和124構造為提供流過處理部件126的反向流(reverse flow)。在反向流構造中，在處理流體已流過處理位置109之后，處理流體流過處理部件126。
將處理部件126設置在可拆卸單元102中。處理部件126可以是過濾器，薄膜或電極。另外，處理部件126可以是電極組件，其具有多個以同心構造或其他適用于將材料電鍍到工件上的構造所布置的電極。還有其他的實施例中，處理部件126可以是下述各件的組合過濾器，薄膜，電極，位于電極間限定各個電極間隔的電介質隔板，具有多個噴嘴的噴桿(spray bars)，槳葉涂鍍裝置(paddle platers)，或其他用于處理微型零件工件的部件。通常，處理部件126是自耗部件(例如，自耗電極)，一種收集處理流體中微粒物質或其他不良組分以保護工件表面的部件(例如，薄膜過濾器)、或者是其他可能沒有清潔或需要清潔的部件。因此，要對可拆卸單元120內的處理部件126進行定期維護或更換，以便將處理室100的性能保持在預定規格要求內。所以，不必移動頭部104，升降-旋轉單元108或固定單元110，只要簡單地用替換可拆卸單元更換某一可拆卸單元120，就可用新的或整修過的部件快速地更換這些處理部件。
容器102還包括密封130，以防止固定單元110與可拆卸單元120之間泄漏。密封130一般設置在固定單元110和可拆卸單元120之間。密封130可包括至少一個孔，以使處理流體能在固定單元110中第一流動系統114與可拆卸單元120中第二流動系統124之間流動。在許多實施例中，密封130是具有孔型式的襯墊，以使流體能在第一流動系統114和第二流動系統124之間流動。密封130或襯墊一般是可壓縮件，以防止液體在流動系統的各個流動通道間發生泄漏。密封130也可由電介質材料制成，當流體在第一流動系統114和第二流動系統124之間流動時，這種密封130將不同的液流電氣隔離。適于密封130的材料包括VITON的閉孔泡沫塑料，閉孔硅，彈性體，聚合物，橡膠和其他材料。
容器102還包括連接組件140，用于將可拆卸單元120連接到固定單元110上。連接組件140可以是速卸單元，例如一個夾子(clamp)或多個夾子，其將可拆卸單元120引導到相對于固定單元110的預定方位上，并將可拆卸單元120牢固地保持在固定單元110上。連接組件140可以構造為從第一位置和第二位置移動，在第一位置可拆卸單元120固定到固定單元110上，在第二位置可拆卸單元120可從固定單元110移開。在若干實施例中，當連接組件140從第二位置移動到第一位置時，連接組件140便驅動可拆卸單元120朝向固定單元110。這種運動壓縮密封130，并將可拆卸單元120定位在相對于固定單元110的預定位置。連接組件140可以是夾緊環，多個卡鎖(latches)，多個螺栓，或其他類型的緊固件。
圖3概略示出為修理或維護可拆卸單元中處理部件進行的濕化學處理室100的操作。在圖2和3中，相同的附圖標記表示相同的部件。在第一可拆卸單元120a中的流動系統124a和/或處理部件126a不再達到規格要求之后，將第一可拆卸單元120a從固定單元110上拆下。也可拆下密封130，但這是任選的。然后，通過將第二可拆卸單元120b與固定單元110對準，再將連接組件140與第二可拆卸單元120b相接合，將第二可拆卸單元120b安裝起來。第二可拆卸單元120b可包括流動系統124b和處理部件126b，它們是新的或是已整修過的，以便使處理室100可達到處理微型零件工件所需的規格要求。
在圖2和3中所示的處理室100的一個優點是，可用新的或已整修過的部件快速地替換需要修理或維護的部件，而無需相當長時間地停止處理室100的運轉。可從固定單元110上快速拆下某一可拆卸單元120，然后僅用幾分鐘的時間就可裝上替換可拆卸單元120。與需要在設備上就地修理部件或需要將整個室從設備中拆下的常規系統相比，這大大縮短了為修理電極或其他處理部件所用的停機時間。
該處理室100的另一個優點是，可從蓋板106下面易于接近的位置對可拆卸單元120內的處理部件126進行更換。結果，即無需移動固定單元110，頭部104，也無需移動升降-旋轉單元108，就可更換舊的處理部件。這進一步縮短了為維護處理部件所用的停機時間，因為無需相對于固定單元110對頭部104和升降-旋轉單元108重新定位。此外，無需相對于處理室100對向頭部104輸送工件以及從頭部104取回工件的工件傳送系統重新校準，因為頭部104與該工件傳送系統之間的位置沒有改變。由處理室100提供的大大減少為更換處理部件所用的停機時間這一優點，與現有設備相比，可預計大大提高濕化學處理設備的生產能力。
圖4A是表示根據本發明容器102實施例的截面圖。在這個實施例中，固定單元110可進一步包括多個相對于固定單元110中心線以公共半徑或其他型式布置的掛鉤(hangers)180。掛鉤180可包括保持連接組件的凸肩(shoulders)182。例如，連接組件140可以是環，其徑向向外彈出，以與掛鉤180接觸，并在打開位置使連接組件140倚靠在凸肩182上。固定單元110進一步包括傾斜的導軌面183，在傾斜導軌面183上面的軸承環184，以及密封面185。導軌面183可以是環形面或是一系列以遞增半徑向上傾斜的弓形體。軸承環184可以是金屬環，其具有以遞減半徑向上傾斜的軸承面。軸承環184還可由其他材料制成，這種材料一般硬于底架112的材料。
可拆卸單元120可包括具有下表面192和上表面194的邊緣(rim)190。下表面192和上表面194可以遞增半徑向上傾斜。更準確地說，上表面194可傾斜一定角度，以與固定單元110的導軌面183相配合。可拆卸單元120可進一步包括構造為夾持密封130的密封面195，滑動槽196a和196b以及底面197。
連接組件140可包括構造為與可拆卸單元120下表面192相接合的第一邊緣172，以及構造為與軸承環184軸承面相接合的第二邊緣174。連接組件140可包括卡鎖(未示出)或杠桿，其徑向向內移動環，并將環鎖定在固定位置上。
圖4B示出已將可拆卸單元120連接到固定單元110上之后的容器102。在操作中，連接組件140徑向向內移動，從而使第一邊緣172與可拆卸單元120的下表面192相接合，而第二邊緣174則與軸承環184的軸承面相接合。第一邊緣172沿著下表面192的徑向向內運動使可拆卸單元120向上升起朝向固定部件110。當可拆卸單元120向上移動時，上表面194便與導軌面183相接合，從而將可拆卸單元120相對于固定單元110定位在預定位置上。連接組件140的第二邊緣174沿著軸承環184的傾斜面徑向向內移動，以將密封130夾緊在密封面185與195之間。連接組件140上的杠桿(未示出)可從打開位置移動到關閉位置，以在連接組件140中產生圓周應力，將可拆卸單元120牢固地保持在固定單元110上。
B.電化學沉積容器的一般實施例圖5概略示出電化學沉積室100a的截面圖，該電化學沉積室100a可快速地更換電極和其他部件，以縮短為維護處理室所用的停機時間。電化學沉積室100a的若干方面都與參照圖2-4B所述的濕化學處理室100相似。因此在圖2-5中相同的附圖標記表示相同的部件。例如，處理室100a包括濕化學容器102和頭部104(概略示出)。
在本實施例中，室100a中的處理部件118是電場成形元件或場成形模塊(概略示出)，其在處理位置109內成形電場。場成形元件可以是靜態電介質插入件，用來控制處理位置109處的電流密度。場成形元件還可以是動態部件，在電鍍工作循環期間，該動態部件移動，以便改變或以其他方式控制處理位置109處的電場。本實施例中的處理部件118還可以是過濾器，薄膜，或這些類型結構的任意組合。
在圖5中所示室100a的實施例中，可拆卸單元120內的處理部件126包括一個或多個電極(概略示出)以及任選的處理部件150(概略示出)。任選的處理部件150可以是過濾器和/或薄膜。下面描述幾個電極，過濾器，和薄膜的實施例。在正向流系統中，在處理流體到達處理位置109之前，至少一部分處理流體流過可拆卸單元120內的電極。也可將第一和第二流動系統構造為提供反向流，在反向流中在處理流體已流過處理位置109之后，至少一部分處理流體流過電極。
圖6表示可拆卸單元120已連接到固定單元110上之后室100a的容器102。在操作中，根據上面圖4B中所示室100的描述，將可拆卸單元120連接到固定單元110上。
圖5和6中所示處理室100a的一個優點是，無需相當長的時間停止處理室100的運轉，就可用新的或已整修過的電極迅速地替換舊電極。可從固定單元110上迅速地拆下具有舊電極130的可拆卸單元120，然后僅用幾分鐘的時間就可裝上具有新電極130的替換可拆卸單元120。與需要在設備上就地修理部件或需要將整個室從設備中拆下的常規系統相比，這大大縮短了為修理電極或其他處理部件所用的停機時間。
該處理室100的另一個優點是，可從蓋板106下面易于接近的位置對可拆卸單元120內的電極和/或處理部件150進行更換。結果，既不必移動固定單元110，頭部104，也無需移動升降-旋轉單元108，就可更換舊的處理部件。這樣進一步縮短了為維護處理部件所用的停機時間，因為無需相對于固定單元110對頭部104和升降-旋轉單元108重新定位。
C.多電極電化學沉積容器的實施例圖7-9示出具有多個電極容器的實施例方面，這些電極用于材料的電化學沉積。在具有四個位于可拆卸單元內獨立操作的電極的上下文中描述了這些實施例的許多方面。每個電極可獨立于其他電極進行控制，這樣使每個電極可產生單獨的電流密度，其可在電鍍工作循環期間保持不變或可動態變化。在美國專利申請號09/849,505；09/866,391；以及09/866,463中闡述了適用于操作電極的處理過程，本文包含其全部內容作為參考。另外，應當認識到，多個電極容器的其他實施例可具有兩個或多個電極的任意組合，從而本發明不受具有四個電極的限制。
圖7是示出容器400的截面圖，其具有構造為牢固連接到蓋板(未示出)上的固定單元402和與固定單元402可分離連接的可拆卸單元404。容器400的一些方面與室100a的那些方面相似，因此圖5-9中相同的附圖標記表示相同的部件。利用前面所述的連接組件140和掛鉤180，可將可拆卸單元404可分離地連接到固定單元402上。因此，如上所述，根據圖5和6所示的實施例，可在短時間內從固定單元402上拆下可拆卸單元404。
固定單元402包括具有流動系統414的底架410，該流動系統414引導處理流體流過底架410。流動系統414是前面所述第一流動系統114的一個特殊實施例。流動系統414可以是連接到底架410上的獨立部件，或者流動系統414可以是(a)形成在底架410中的流體通道和(b)連接到底架410上的獨立部件的組合。在這個實施例中，流動系統414包括接收來自可拆卸單元404流動的處理流體的入口415，具有多個縫隙(slot)417的第一流動導向件416和前室(antechamber)418。在第一流動導向件416中的縫隙417徑向地向前室418分配所述流。
流動系統414進一步包括第二流動導向件420，其接收來自于前室418的流體。第二流動導向件420可包括具有多個開口422的側壁421和具有多個小孔425的噴流器(flow projector)424。開口422可以是在側壁421周圍徑向布置的水平縫隙，以便向噴流器424提供徑向向內噴射的多個流動成分(flow components)。在噴流器上的小孔425可以是多個細長縫隙或是其他開口，它們向上傾斜且徑向向內。噴流器424接收來自開口422的徑向流動成分，并使該流改變方向穿過小孔425。應當認識到，開口422和小孔425可具有若干不同的構型。例如，小孔425可以徑向向內噴流，并不向上傾斜，或者小孔425可以向上傾斜比圖7中所示角度更大的角度。因此，小孔可具有從0°-45°的傾斜范圍，并在幾個特殊實施例中，小孔可以向上傾斜大約5°-25°的角度。
固定單元402還可包括場成形插入件440，用于成形電場，并在處理位置處引導處理流體的流動。場成形插入件440是前面所述固定單元110內處理部件118的一個特殊實施例。在這個實施例中，場成形插入件440具有帶第一邊緣443a的第一隔板442a，帶第二邊緣443b的第二隔板442b以及帶第三邊緣443c的第三隔板442c。第一邊緣443a限定第一開口444a。第一邊緣443a和第二邊緣443b限定第二開口444b，而第二邊緣443b和第三邊緣443c則限定第三開口444c。固定單元402可進一步包括具有邊緣446的堰(weir)445，在其上處理流體可流到回收槽(recovery channel)447內。第三邊緣443c和堰445限定第四開口444d。利用多個螺栓或螺釘448，將場成形單元440和堰445連接到固定單元402上，并且將一些密封449定位在固定單元402與場成形單元440以及堰445之間。
圖8是圖7中所示容器400沿不同截面剖取的截面圖，其更為詳細地示出固定單元402與可拆卸單元404之間的相互作用。一起參照圖7和8，可拆卸單元404包括裝有電極組件和第二流動系統的貯器510。電極組件是前面所述處理部件126的一個特殊實施例，而第二流動系統是前面所述第二流動系統124的一個特殊實施例。貯器510也如前面所述那樣可分離地連接到底架410上。在本實施例中，貯器510包括多個分隔件(dividers)或壁512，其限定多個間隔513。在圖7和8中所示的特殊實施例具有四個間隔513，但在其他實施例中，貯器510可包括任意數量的間隔，以便單獨地容納電極。間隔513還可限定第二流動系統中可流過處理流體的部分。
可拆卸單元404的第二流動系統包括向固定單元402入口415提供流動的入口515，以及接收從間隔513來的流動流體的出口516。在圖5中所示的特殊實施例中，固定單元402中的流動系統414進一步包括前室418和第一間隔513之間的第一通道520a，第一開口444b和第二間隔513之間的第二通道520b，第三開口444c和第三間隔513之間的第三通道520c，以及第四開口444d與第四間隔513之間的第四通道520d。
容器400還包括固定單元402和可拆卸單元404之間的接口元件530。在這個實施例中，接口元件530是具有多個開口532的密封，以使通道520a-d與相應間隔513之間能液體連通。密封是電介質材料，其電氣隔離在間隔513和相應通道520a-d內的電場。
容器400可進一步包括多個位于可拆卸單元404內的電極。在圖7和8所示的實施例中，容器400包括第一間隔513內的第一電極551，第二間隔513內的第二電極552，第三間隔513內的第三電極553，第四間隔513內的第四電極554。電極551-554可以是彼此同心布置的環形或圓形導電元件。然而，電極可以是弓形體或具有其他形狀和構造。在這個實施例中，每個電極均與貫穿可拆卸單元404中貯器510的電氣連接器560連接，從而使電極與電源相連接。在整個電鍍工作循環期間電極551-554可各自提供恒定電流，或者在電鍍工作循環期間，根據工件的特殊參數，通過一個或多個電極551-554可使電流發生變化。此外，每個電極可具有與其他電極電流不同的唯一電流。
參照圖8，共同操作固定單元402，可拆卸單元404以及電極551-554，以提供預定的處理流體流動分布(flow profile)以及處理位置109處的電氣分布。在這個特殊實施例中，處理流體通過入口515和415進入并流過第一流動導向件416。然后，流體流動分叉一部分流體經由前室418向上流過第二流體導向件420，另一部分流體經由通道520a向下橫穿第一電極551。流過第二流動導向件420向上的流體穿過噴流器424和第一開口444a。因此，第一電極551通過由第一隔板442a邊緣443a限定的第一開口444a提供有效暴露于處理位置109的電場(圖4)。所以，根據邊緣443a的構造，開口444a成形第一電極551的場。一部分流體向上越過邊緣443a，再通過處理位置109，然后流過堰445的邊緣446。處理流體的另一部分向下穿過各個通道520b-d到電極552-554。穿過第二通道520b的這部分流體越過第二電極552，以使由第一邊緣443a和第二邊緣443b限定的開口444b成形第二電極552的電場。同樣地，穿過第三通道520c的流體越過第三電極553，而穿過第四通道520d的流體越過第四電極554。因此，開口444c成形第三電極553的電場，而開口444d成形第四電極554的電場。然后，流體穿過間隔513并通過出口516從容器400流出。
上述流型是反向流，在這種反向流中電極551-554在處理位置109的下游，從而將處理流體中由電極551-554產生的氣泡或微粒物質從處理位置109處帶走。這種下游構造預計對自耗電極特別有用，因為自耗電極會產生氣泡和微粒物質，而這種現象可能造成在工件電鍍表面上出現缺陷。
與現有的電化學沉積室相比，預計容器400大大縮短與修理多個電極相關的停機時間。參照圖8，通過簡單地打開連接組件140，將可拆卸單元404從固定單元402上拆下，在固定單元402下面設置具有新電極的替換可拆卸單元，然后再關閉連接組件140，這樣就能將所有的電極551-554更換成新電極。由于可拆卸單元404位于固定單元402的外部，因此操作者無需象在常規室內那樣要穿過固定單元402的頂部開口到達電極551-554位置。這不僅能更快地接近電極551-554，而且還比常規室節省時間，因為無需拆下場成形插入件440而后重新安裝。事實上，當該室脫機時無需從容器上拆下電極551-554，因為一拆下具有舊電極的可拆卸單元就可隨時安裝替換可拆卸單元。因此，具有容器102或400實施例的電化學沉積室返回聯機的時間大大少于常規室的時間。
圖9是容器400另一實施例的截面圖。這個實施例與圖7和8中所示的實施例相似，因此，在這些附圖中相同的附圖標記表示相同的部件。圖9中所示容器400的實施例包括具有襯墊620和襯里630的接口元件610。可將襯墊620布置在固定單元402和可拆卸單元404之間，而將襯里630設置在可拆卸單元404和/或固定單元402中。襯里630可以是薄膜或過濾器，以其截獲間隔513內的氣泡或微粒物質，從而防止它們轉移到處理位置109處。如果是過濾器，則根據正向流系統或是反向流系統的流動，處理流體流過固定單元402和可拆卸單元404之間的襯里(liner)630。如果是薄膜，則襯里不能使流體透過流動，但允許離子從電極551-554穿過相應的通道520a-d，從而達到離子電鍍在工件的表面上。襯里630可具有多個位于間隔513和/或通道520a-d中的離散部分(discrete sections)。襯墊620可與襯里630連接，從而可將接口元件610作為一個單獨部件安裝和拆除。
圖9中所示容器400的實施例預計用在氣泡和微粒物質產生缺陷的地方非常有效。應當理解，襯里630還會進一步削弱氣泡或微粒物質到達處理位置109。將圖9中所示的容器400應用到以下場合也是很有效的，即在固定單元中使用一種處理流體，而在可拆卸單元中使用另一種處理流體。在這種實施例中，可拆卸襯里630可以是薄膜，其允許離子從間隔513流到通道520a-d，但不允許處理流體在間隔513與通道520a-d之間流動。
圖10是表示根據本發明另外實施例的容器400各個方面的底部立體圖。容器400可進一步包括將入口515與處理流體源(supply)相連接的第一配件701，和將出口516與處理流存儲槽(holding tank)相連接的第二配件702。在一個特殊實施例中，配件701是陰螺紋管接頭(female fitting)，而入口515是陽螺紋管接頭(male fitting)，并且配件702是陽螺紋管接頭，而出口516是陰螺紋管接頭。通過使陰螺紋管接頭701連接入口515和使陽螺紋管接頭702連接出口516，處理流體供應管線只能連接到入口515上，處理流體流出管線只能連接到出口516上。因此，這種構造確保了可拆卸單元404正確的安裝。
圖10還更為詳細地示出連接組件140。在這個實施例中，連接組件140包括夾緊環708和卡鎖710，該卡鎖710在具有第一直徑的第一位置和具有小于第一直徑的第二直徑的第二位置之間移動夾緊環。當卡鎖710將夾緊環從第一位置移動到第二位置時，縮小了夾緊環708的直徑，從而將可拆卸單元404夾緊在固定單元402上。
圖11表示根據本發明的容器另一個實施例。圖11的若干零件都與前面有關圖7-10所述的那些零件相似。圖11中所示的容器800具有固定單元810，利用夾子830可分離地連接到固定單元810上的可拆卸單元820，以及在固定單元810和可拆卸單元820之間的接口元件840。容器800與容器400之間的主要區別在于，容器800具有非平面的接口元件840，而容器400具有平面的接口元件530。
D.用于安裝/拆除可拆卸單元的支架實施例前面所述的室可進一步包括該室下面的支架，用于安裝和拆除可拆卸單元。下面就圖7-10中所示的可拆卸單元404方面描述支架的幾個實施例，但是應當理解，該支架可以與本發明的任何可拆卸單元一起工作。
圖12A是用于安裝和拆除可拆卸單元404(圖7)的支架900頂部立體圖。支架900可包括安裝到設備蓋板106(圖2)下面的托架(bracket)910。該支架900可進一步包括導軌912和終點擋板(endstop)914。導軌912接收滑槽(slide channels)196a和196b(圖4A-B，5，6，8和10)，而終點擋板914與可拆卸單元404的圓形部分接合。在操作中，操作者沿導軌912滑動可拆卸單元404，直到該可拆卸單元與終點擋板914相接合。
圖12B是表示支架900另外方面的底部立體圖。支架900可進一步包括具有手柄922的執行機構(actuator)920，軸924，和由軸924移動的升降桿(lifters)926。執行機構920可進一步包括與升降桿926連接并位于接頭(joint)929中的連桿928。因此，把手的旋轉則轉動接頭929中的連桿928，從而升起和降低升降桿926。為了安裝可拆卸單元，將執行機構920移動到圖12B中所示的第一位置，并沿導軌912插入可拆卸單元。然后向上升起(箭頭R)執行機構920到第二位置，這樣造成升降桿926將可拆卸單元404升高到固定單元402。當執行機構920向上旋轉時，把手922通過托架910底部凸緣931中的間隙930。通過沿著軸924軸向地滑動把手922，將執行機構920保持在第二位置，從而使凸緣931支撐把手922。
支架900進一步增強了可拆卸單元相互更換的過程。首先，支架900確保可拆卸單元404普遍與固定單元402對準。其次，該支架確保入口515和出口516與供應管線和排出管線對準。第三，該支架使可拆卸單元404的安裝和拆除更加容易，因為當同時操作連接組件140時，操作者不必將可拆卸單元404壓靠在固定單元402上。因此，該支架預計進一步縮短可拆卸單元相互更換所用的時間。
E.綜合設備的實施例圖13是表示根據本發明實施例的綜合設備1300一部分的俯視平面圖。在這個實施例中，綜合設備1300包括框架1310，裝到框架1310的尺寸穩定的安裝模塊1320，多個濕化學處理室1370和多個升降-旋轉單元1380。設備1300可還包括傳送系統1390。安裝模塊1320支承處理室1370，升降-旋轉單元1380和傳送系統1390。如參照前面圖2-12B所描述的那樣，設備1300中的濕化學處理室1370可包括具有固定單元和可拆卸單元的容器。
設備1300的框架1310具有多個柱(posts)1311和橫桿(cross-bars)1312，它們以現有技術已知的方式焊接在一起。安裝模塊1320至少部分地裝在框架1310中。在一個實施例中，由框架1310的橫桿1312支承安裝模塊1320，但是安裝模塊1320可以直接放在設施的地面或其他實施例中的其他結構上。
安裝模塊1320是剛性的穩定結構，其保持濕化學處理室1370，升降-旋轉單元1380和傳送系統1390之間的相對位置。安裝模塊1320的一個方面是它非常堅硬，并具有比框架1310更大的結構完整性，使得濕化學處理室1370，升降-旋轉單元1380和傳送系統1390之間的相對位置不會隨時間發生變化。安裝模塊1320的另一個方面是其包括在精確位置上具有定位元件的尺寸穩定的蓋板1330，用于將處理室1370和升降-旋轉單元1380定位在蓋板1330已知的位置上。在一個實施例中(未示出)，可直接將傳送系統1390安裝在蓋板1330上。在其他實施例中，安裝模塊1320還具有尺寸穩定的平臺1350，并將傳送系統1390安裝在該平臺1350上。蓋板1330和平臺1350彼此之間牢固地定位，使得在蓋板1330上的定位元件和在平臺1350上的定位元件相互之間不會移動。因此，安裝模塊1320提供這樣一種系統，其中，可拆除濕化學處理室1370和升降-旋轉單元1380，并按照將替換部件準確地定位在蓋板1330精確位置上的方式，用互換部件將其替換。
設備1300特別適用于以下應用場合，即具有嚴格技術要求，對濕化學處理室1370，升降-旋轉單元1380或傳送系統1390需要頻繁維護。通過簡單地從處理蓋板1330上拆下該室，并用具有構造為與蓋板1330上定位元件對接的安裝硬件的互換室將該室1370更換，可對濕化學處理室1370進行修理或維護。因為安裝模塊1320是尺寸穩定的，并且替換處理室1370的安裝硬件與蓋板1330對接，所以無需對傳送系統1390重新校準，便可在蓋板1330上互換室3170。這樣預計大大縮短與修理或維護處理室1370有關的停機時間，從而使設備在具有嚴格性能規格要求的應用中可保持高的生產量。當必須拆下固定單元110(圖2)以便對室修理時，設備1300的這一方面特別有用。
傳送系統1390從與安裝模塊1320連接的裝/卸模塊1398中取回工件。傳送系統1390包括軌道1392，機械手1394和至少一個末端操縱裝置(end-effector)1396。將軌道1392裝到平臺1350上。更準確地說，軌道1392與平臺1350上的定位元件對接，以便相對于連接到蓋板1330上的室1370和升降-旋轉單元1380對軌道1392準確地定位。因此，機械手1394和末端操縱裝置1396可在由安裝模塊1320形成的固定的、尺寸穩定的基準框架中移動。設備1300可進一步包括多個與框架1310連接的面板1399，以將安裝模塊1320，濕化學處理室1370，升降-旋轉單元1380和傳送系統1390封裝在箱內。在其他實施例中，可在處理蓋板1330上面地區內的拆除設備1300一側或兩側的面板1399，以便提供一敞開式的設備。
F.尺寸穩定的安裝模塊的實施例圖14是根據本發明實施例用在設備1300中的安裝模塊1320立體圖。在這個實施例中，蓋板1330包括剛性第一面板1331和在第一面板1331下面重疊的剛性第二面板1332。第一面板1331可以是外部構件，而第二面板1332可以是與外部構件并置的內部構件。第一面板1331和第二面板1332也可具有與圖14中構造不同的構造。將多個室插孔1333設置在第一面板1331和第二面板1332中，用于接收濕化學處理室1370(圖13)。
蓋板1330可進一步包括多個穿過第一面板1331以精確型式排列的定位元件1334和連接元件1335。定位元件1334可以是在第一面板1331內精確位置處機械加工的孔，并具有精確尺寸，用于接收與濕化學處理室1370(圖13)對接的暗釘(dowels)或銷。在其他實施例中，定位元件1334可以是銷，例如圓形銷或錐形銷，它們從第一面板1331向上凸出，由濕化學處理室1370中的配合結構接收。蓋板1330具有位于每個室插孔1333處的第一組定位元件1334，以將各個濕化學處理室準確地定位在安裝模塊1320的精確位置處。蓋板1330還可包括靠近各個插孔1333的第二組定位元件1334，以將各個升降-旋轉單元1380準確地定位在安裝模塊1320的精確位置處。連接元件1335可以是第一面板1331中的螺紋孔，用以接收螺栓，以便將室1370和升降-旋轉單元1380固定在蓋板1330上。
安裝模塊1320還包括沿蓋板1330縱向外邊緣的外側板1360，沿蓋板1330縱向內邊緣的內側板1361，以及與蓋板1330端部連接的端板1362和1364。傳送平臺1350與內側板1361以及端板1362和1364連接。傳送平臺1350包括定位元件1354，用于將傳送系統1390的軌道1392(圖13)準確地定位在安裝模塊1320上。傳送平臺1350可進一步包括連接元件，例如螺紋孔，用以接收螺栓，以便將軌道1392固定在平臺1350上。
圖15是表示蓋板1330內部結構的一個適當實施例的截面圖，而圖16是圖15中所示蓋板一部分的詳圖。在這個實施例中，蓋板1330包括支撐(bracing)1340，例如托梁，其在外側板1360和內側板1361之間橫向延伸。第一面板1331連接到支撐1340的上側，而第二面板1332則連接到支撐1340的下側。蓋板1330可進一步包括多個直通螺栓1342和螺母1344，以將第一面板1331和第二面板1332固定在支撐1340上。如在圖16中清楚地表示出，支撐1340具有多個孔1345，直通螺栓1342貫穿該孔。螺母1344可以焊接到螺栓1342上，以增強這些部件之間的連接。
蓋板1330的面板和支撐可由不銹鋼，其他金屬合金，致密鑄造(solid cast)材料或纖維增強合成物制成。例如，面板和板可由Nitronic 50不銹鋼，Hastelloy(哈司特鎳合金)625合金鋼，或致密鑄造填充云母的環氧樹脂制成。纖維增強合成物可包括碳纖維或硬化樹脂的Kevlar(芳綸)網狀物(mesh)。用于面板1331和1332的材料必須是高硬度的并與在濕化學處理中所用的化學制品相兼容。不銹鋼充分適合于很多用途，因為其堅固，且不受很多在濕化學處理中使用的電解溶液或清潔溶液所影響。在一個實施例中，面板和板1331，1332，1360，1361，1362和1364是0.125到0.375英寸厚的不銹鋼，更準確地說，它們可以是0.250英寸厚的不銹鋼。然而，在其他實施例中面板和板可具有不同的厚度。
支撐1340也可以是不銹鋼，纖維增強合成物材料，其他金屬合金和/或致密鑄造材料。在一個實施例中，支撐可以是0.5到2.0英寸寬的不銹鋼托梁，更準確地說，是1.0英寸寬×2.0英寸高的不銹鋼托梁。在其他實施例中，支撐1340可以是蜂窩芯子(honey-comb core)，輕質泡沫金屬或其他類型的泡沫體，聚合物，玻璃纖維或其他材料。
通過組裝蓋板1330各部分，然后再將端板1362和1364焊接或另外粘附于蓋板1330各部分上構造安裝模塊1320。通常不用焊接，而用直通螺栓1342將蓋板1330各部件固定在一起。利用焊接和/或緊固件，將外側板1360和內側板1361連接到蓋板1330以及端板1362和1364上。然后再將平臺1350牢固地連接到端板1362和1364，以及內側板1361上。
安裝模塊1320提供一個重型尺寸空間穩定的結構，它將蓋板1330上的定位元件1334與平臺1350上的定位元件1354之間的相對位置保持在這種范圍內，即無需每次在把替換處理室1370或升降-旋轉單元1380裝到蓋板1330上時就對傳送系統1390重新校準。通常安裝模塊1320是剛性結構，當將濕化學處理室1370，升降-旋轉單元1380以及傳送系統1390裝到安裝模塊1320上時，這種剛性結構有足夠的強度來保持定位元件1334和1354之間的相對位置。在一些實施例中，安裝模塊1320構造為將定位元件1334和1354之間的相對位置保持在預定原始位置(reference positions)的0.025英寸范圍內。在其他實施例中，安裝模塊構造為將定位元件1334和1354間的相對位置保持在預定原始位置的大約0.005-0.015英寸范圍內。照這樣，蓋板1330經常保持在大約0.025英寸范圍內的均勻平面，在更特殊的實施例中大約在0.005-0.015英寸。
G.濕化學處理室的實施例圖17是表示濕化學處理室1370與蓋板1330之間接口的立體截面圖。室1370可包括前面所述具有安裝夾具116的處理容器102和400。安裝夾具116和容器102/400可以是連接在一起的單獨部件。在這種情況下，安裝夾具116可由尺寸穩定的材料制成，例如不銹鋼，纖維增強材料，合金鋼，致密鑄造材料或其他適合的剛性材料。在其他實施例中，安裝夾具116與容器102/400成整體，并由高密度聚合物和其他適合的材料構成。
圖17中所示的安裝夾具116包括多個接口構件1374，其布置成型式與蓋板1330上的定位元件1334對準。定位元件1334和接口構件1374同樣構造為彼此配合，從而精確地定位安裝夾具116，并因此將室1370定位于蓋板1330上的預定操作位置上，以便與升降-旋轉單元1380和傳送系統1390一起工作。定位元件1334可以是一組蓋板1330中精密機加的孔和容納在這些孔中的暗釘，而接口構件1374可以是在安裝夾具116中精密機加的孔，以與暗釘相配合。暗釘可以是圓柱形，球形，錐形和其他適合形狀的銷，以在相對于蓋板1330的精確位置上對準并設置安裝夾具116。安裝夾具116可進一步包括多個布置成與蓋板中1330連接元件1335對準的緊固件1375，緊固件1375可以是螺栓或其他螺紋構件，用以牢固地接合連接元件1335，以便將安裝夾具116固定在蓋板1330上。因此，安裝夾具116將處理容器102/400保持在蓋板上的固定精確位置上。
從上述內容中，應當理解，為了具體說明，本文已對本發明的特殊實施例進行了描述，但在不違背本發明的精神和范圍條件下，可以作各種修改。因此，本發明不受限制，但所附權利要求除外。
權利要求
1.一種用于對微型零件工件進行濕化學處理的室，包括固定單元，其具有構造為引導處理流體流過該固定單元的第一流動系統和用于將該固定單元牢固地連接到設備支撐構件上的安裝夾具；可拆卸單元，其具有構造為引導處理流體流向固定單元第一流動系統和/或引導處理流體從固定單元第一流動系統流出的第二流動系統，以及將特性傳給處理流體的處理部件，用于對具有亞微米微型零件的微型零件工件上的表面進行處理；和連接系統，其可分離地將可拆卸單元連接到固定單元上，其中，連接系統具有將可拆卸單元固定到固定單元上的第一位置，和可將可拆卸單元從固定單元上拆下來的第二位置。
2.根據權利要求1的室，進一步包括位于固定單元上面的頭部，其中該頭部包括構造為將工件保持在處理位置的工件夾。
3.根據權利要求1的室，其中處理部件包括可拆卸單元內的電極；并且所述室進一步包括具有工件夾的頭部，該工件夾包括構造為將工件保持在處理位置并與工件上導電層接合的電觸點。
4.根據權利要求1的室，其中處理部件包括電極組件，該電極組件具有多個用電介質分隔件將它們相互隔開可獨立操作的電極，且該電極組件設置在可拆卸單元內；并且所述室進一步包括具有工件夾的頭部，該工件夾包括構造為將工件保持在處理位置并與工件上導電層接合的電觸點。
5.根據權利要求1的室，其中，處理部件包括可拆卸單元內的過濾器。
6.根據權利要求1的室，其中，處理部件包括薄膜，所述薄膜構造為將電流傳導穿過該薄膜。
7.根據權利要求1的室，其中，連接組件包括構造為從第一位置徑向向內移動到第二位置的夾緊環，以將可拆卸單元夾緊在固定單元上。
8.根據權利要求1的室，進一步包括固定單元第一密封面與可拆卸單元第二密封面之間的密封。
9.根據權利要求1的室，其中固定單元進一步包括以遞增半徑向上傾斜的傾斜導軌面、具有以遞減半徑向上傾斜的軸承面的傾斜軸承環、以及第一密封面；可拆卸單元進一步包括邊緣和第二密封面，該邊緣具有以遞增半徑向上傾斜的下表面和遞增半徑向上傾斜的上表面；以及密封，其位于第一與第二密封面之間。
10.根據權利要求1的室，其中處理部件包括可拆卸單元內的電極；并且所述室進一步包括(a)具有工件夾的頭部，該工件夾包括構造為將工件保持在處理位置并與工件上導電層接合的電觸點，和(b)一部分固定單元與可拆卸單元之間的密封。
11.根據權利要求1的室，其中處理部件包括可拆卸單元內的電極和電極與處理位置之間的過濾器；并且所述室進一步包括(a)具有工件夾的頭部，該工件夾包括構造為將工件保持在處理位置并與工件上導電層接合的電觸點，和(b)一部分固定單元與可拆卸單元之間的密封。
12.根據權利要求1的室，其中處理部件包括可拆卸單元內的電極和電極與處理位置之間的薄膜，其中，該薄膜構造為傳導電流；并且所述室進一步包括(a)具有工件夾的頭部，該工件夾包括構造為將工件保持在處理位置并與工件上導電層接合的電觸點，和(b)一部分固定單元與可拆卸單元之間的密封。
13.一種用于對微型零件工件進行濕化學處理的室，包括固定單元，其具有構造為引導處理流體流過該固定單元的第一流動系統和用于將該固定單元牢固地連接到設備支撐面上的安裝夾具；可拆卸單元，其可分離地連接到固定單元上，該可拆卸單元具有構造為引導處理流體流向固定單元第一流動系統和/或引導處理流體從固定單元第一流動系統流出的第二流動系統；密封，其位于固定單元與可拆卸單元之間，以防止處理流體在固定單元與可拆卸單元之間泄漏，該密封具有孔，通過該孔處理流體可在第一與第二流動系統之間流動；和處理部件，其位于固定單元和/或可拆卸單元內，其中，該處理部件將特性傳給處理流體，用于對具有亞微米微型零件的微型零件工件上的表面進行處理。
14.根據權利要求13的室，進一步包括位于固定單元上面的頭部，其中，該頭部包括構造為將工件保持在處理位置的工件夾。
15.根據權利要求13的室，其中處理部件包括可拆卸單元內的電極；并且所述室進一步包括具有工件夾的頭部，該工件夾包括構造為將工件保持在處理位置并與工件上導電層接合的電觸點。
16.根據權利要求13的室，其中處理部件包括電極組件，該電極組件具有多個用電介質分隔件將它們相互隔開可獨立操作的電極，且該電極組件設置在可拆卸單元內；并且所述室進一步包括具有工件夾的頭部，該工件夾包括構造為將工件保持在處理位置并與工件上導電層接合的電觸點。
17.根據權利要求13的室，其中，處理部件包括可拆卸單元內的過濾器。
18.根據權利要求13的室，其中，處理部件包括可拆卸單元內的薄膜，并且該薄膜構造為將電流傳導穿過該薄膜。
19.根據權利要求13的室，進一步包括連接組件，該連接組件具有構造為從第一位置徑向向內移動到第二位置的夾緊環，以將可拆卸單元夾緊在固定單元上。
20.根據權利要求13的室，其中處理部件包括可拆卸單元內的電極和電極與處理位置之間的過濾器；并且所述室進一步包括具有工件夾的頭部，該工件夾包括構造為將工件保持在處理位置并與工件上導電層接合的電觸點。
21.根據權利要求13的室，其中處理部件包括可拆卸單元內的電極，和電極與處理位置之間的薄膜，其中該薄膜構造為傳導電流；并且所述室進一步包括具有工件夾的頭部，該工件夾包括構造為將工件保持在處理位置并與工件上導電層接合的電觸點。
22.一種用于對微型零件工件進行濕化學處理的綜合設備，包括安裝模塊，其具有多個定位元件和連接元件；濕化學處理室，其由安裝模塊支承，該濕化學處理室包括固定單元、可拆卸單元、連接系統和處理位置，其中(a)固定單元具有構造為引導處理流體流過該固定單元的第一流動系統和具有與定位元件之一接合的第一接口構件和與連接元件之一接合的第一緊固件的安裝夾具，(b)可拆卸單元具有構造為引導處理流體流向固定單元第一流動系統和/或引導處理流體從固定單元第一流動系統流出的第二流動系統，以及將特性傳給處理流體的處理部件，用于對具有亞微米微型零件的微型零件工件上的表面進行處理，(c)連接系統可分離地將可拆卸單元連接到固定單元上，和(d)處理位置構造為接收微型零件工件，該處理位置位于固定單元或可拆卸單元中的一個內，以使工件與具有由處理部件傳給特性的一部分處理流體相接觸；傳送系統，其由安裝模塊支承，用于在設備內傳送工件；并且其中，安裝模塊構造為保持定位元件之間的相對位置，以便當用另一個處理室替換該處理室時，無需重新校準傳送系統。
23.根據權利要求22的設備，其中，安裝模塊進一步包括蓋板，該蓋板具有剛性第一面板、在第一面板下面重疊的剛性第二面板、第一與第二面板之間的托梁以及穿過第一面板、托梁和第二面板的螺栓。
24.根據權利要求22的設備，其中，安裝模塊進一步包括蓋板，該蓋板具有剛性第一面板、與第一面板并置的剛性第二面板和第一與第二面板之間的支撐。
25.根據權利要求24的設備，進一步包括位于固定單元上面的頭部，其中，該頭部包括構造為將工件保持在處理位置的工件夾。
26.根據權利要求24的設備，其中處理部件包括可拆卸單元內的電極；并且所述室進一步包括具有工件夾的頭部，該工件夾包括構造為將工件保持在處理位置并與工件上導電層接合的電觸點。
27.根據權利要求24的設備，進一步包括固定單元第一密封面與可拆卸單元第二密封面之間的密封。
28.根據權利要求24的設備，其中處理部件包括可拆卸單元內的電極；并且所述室進一步包括(a)具有工件夾的頭部，該工件夾包括構造為將工件保持在處理位置并與工件上導電層接合的電觸點，和(b)一部分固定單元與可拆卸單元之間的密封。
29.根據權利要求24的設備，其中處理部件包括可拆卸單元內的電極和電極與處理位置之間的過濾器；并且所述室進一步包括(a)具有工件夾的頭部，該工件夾包括構造為將工件保持在處理位置并與工件上導電層接合的電觸點，和(b)一部分固定單元與可拆卸單元之間的密封。
30.根據權利要求24的設備，其中處理部件包括可拆卸單元內的電極和電極與處理位置之間的薄膜，其中，該薄膜構造為傳導電流；并且所述室進一步包括(a)具有工件夾的頭部，該工件夾包括構造為將工件保持在處理位置并與工件上導電層接合的電觸點，和(b)一部分固定單元與可拆卸單元之間的密封。
31.一種用于對微型零件工件進行濕化學處理的綜合設備，包括安裝模塊，其具有多個定位元件；濕化學處理室，其由安裝模塊支承，該濕化學處理室包括固定單元、可分離地連接到該固定單元上的可拆卸單元、固定單元與可拆卸單元之間的密封和位于可拆卸單元內的處理部件，其中，固定單元包括具有與定位元件之一接合的第一接口構件和與定位元件之一接合的第一緊固件的安裝夾具；傳送系統，其由安裝模塊支承，用于在設備內傳送工件，該傳送系統具有與定位元件之一接合的第二接口構件和與連接元件之一接合的第二緊固件；并且其中，安裝模塊構造為保持定位元件之間的相對位置，以便當用另一個處理室替換該處理室時，無需重新校準傳送系統。
32.根據權利要求31的設備，其中，安裝模塊進一步包括蓋板，該蓋板具有剛性第一面板、在第一面板下面重疊的剛性第二面板、第一與第二面板之間的托梁以及穿過第一面板、托梁和第二面板的螺栓。
33.根據權利要求31的設備，其中，安裝模塊進一步包括蓋板，該蓋板具有剛性第一面板、與第一面板并置的剛性第二面板和第一與第二面板間的支撐。
34.根據權利要求31的設備，進一步包括位于固定單元上面的頭部，其中，該頭部包括構造為將設備保持在處理位置的工件夾。
35.根據權利要求31的設備，其中處理部件包括可拆卸單元內的電極；并且所述室進一步包括具有工件夾的頭部，該工件夾包括構造為將工件保持在處理位置并與工件上導電層接合的電觸點。
36.一種用于在具有亞微米零件的微型零件工件上沉積材料的電化學沉積室，包括頭部組件，其具有構造為將微型零件工件定位在處理位置的工件夾；固定單元，其具有第一流動系統，以向處理位置提供處理流體；可拆卸單元，其具有第二流動系統，與固定單元的第一流動系統流體連通；密封，其防止處理流體在固定單元與可拆卸單元之間泄漏；連接組件，其可分離地將可拆卸單元連接到固定單元上；以及可拆卸單元內的至少一個第一電極和與第一電極連接的至少一個第一電氣連接器。
37.根據權利要求36的室，進一步包括可拆卸單元內的第二電極和第一電極與第二電極之間的電介質分隔件。
38.根據權利要求36的室，進一步包括第一流動系統和/或第二流動系統內的過濾器。
39.根據權利要求36的室，進一步包括第一流動系統和/或第二流動系統內的薄膜，其中，該薄膜構造為傳導電流。
40.根據權利要求36的室，其中，連接組件包括構造為從第一位置徑向向內移動到第二位置的夾緊環，以將可拆卸單元夾緊在固定單元上。
41.根據權利要求36的室，其中固定單元進一步包括以遞增半徑向上傾斜的傾斜導軌面、具有以遞減半徑向上傾斜的軸承面的傾斜軸承環、以及與密封一側接觸的第一密封面；并且可拆卸單元進一步包括邊緣和與密封另一側接觸的第二密封面，該邊緣具有以遞增半徑向上傾斜的下表面和以遞增半徑向上傾斜的上表面。
42.根據權利要求36的室，其中，固定單元進一步包括場成形模塊，其成形處理流體中由電極感應的電場。
43.根據權利要求36的室，進一步包括第二電極，其與可拆卸單元內的第一電極同心布置；和場成形模塊，其位于固定單元內，其中，該場成形模塊由電介質材料構成，并具有第一開口和第二開口，第一開口面對處理位置第一部分，由第一電極感應的離子可穿過該開口，第二開口面對處理位置第二部分，由第二電極感應的離子可穿過該開口。
44.根據權利要求43的室，進一步包括與第二電極連接的第二電氣連接器，并且第一和第二電極彼此可獨立操作。
45.根據權利要求36的室，進一步包括第二電極，其與可拆卸單元內的第一電極和第一與第二電極之間的電介質分隔件同心；場成形模塊，其位于固定單元內，該場成形模塊由電介質材料構成，其構造為成形由第一和第二電極產生的處理流體內的電場；和過濾器，其位于固定單元和/或可拆卸單元內。
46.根據權利要求36的室，進一步包括第二電極，其與可拆卸單元內的第一電極和第一與第二電極之間的電介質分隔件同心；場成形模塊，其位于固定單元內，該場成形模塊由電介質材料構成，其構造為成形由第一和第二電極產生的處理流體內的電場；和薄膜，其位于固定單元和/或可拆卸單元內，以傳導電流。
47.根據權利要求36的室，其中，可拆卸單元位于固定單元外部的下面。
48.根據權利要求36的室，其中，可拆卸單元進一步包括處理流體可流過的外部可接近的流體配件。
49.一種用于在具有亞微米零件的微型零件工件上沉積材料的電化學沉積室，包括頭部組件，其具有工件夾和電觸點，該工件夾構造為將微型零件工件定位在處理位置，布置的電觸點向工件上的層提供電流；容器，其具有包括將固定單元連接到設備蓋板上的安裝夾具的固定單元、在安裝夾具下面可分離地連接到固定單元上以將其定位在設備蓋板下面的外部可接近的可拆卸單元、在固定單元與可拆卸單元之間以控制固定單元與可拆卸單元之間處理流體的接口元件、和將可拆卸單元可分離地連接到固定單元上的連接組件；以及電極，其位于可拆卸單元內。
50.根據權利要求49的室，進一步包括可拆卸單元內的第二電極和第一電極與第二電極之間的電介質分隔件。
51.根據權利要求49的室，進一步包括容器內的過濾器。
52.根據權利要求49的室，進一步包括容器內構造為傳導電流的薄膜。
53.根據權利要求49的室，其中，連接組件包括構造為從第一位置徑向向內移動到第二位置的夾緊環，以將可拆卸單元夾緊在固定單元上。
54.根據權利要求49的室，其中接口元件包括固定單元與可拆卸單元之間的襯墊；以及處理流體可流過的外部可接近的流體配件。
55.根據權利要求49的室，進一步包括流動系統，其位于容器內，構造為引導流動的處理流體至少基本上垂直于處理位置上的工件；和場成形模塊，其位于容器內，以成形由電極所感應的處理流體內的電場。
56.根據權利要求49的室，進一步包括第二電極，其與可拆卸單元內的第一電極同心布置；和場成形模塊，其位于容器內，該場成形模塊由電介質材料構成，并且該場成形模塊具有第一開口和第二開口，第一開口面對工件處理位置的第一部分，由第一電極感應的離子可穿過該開口，第二開口面對工件處理位置第二部分，由第二電極感應的離子可穿過該開口。
57.根據權利要求49的室，進一步包括第二電極，其與可拆卸單元內的第一電極和第一與第二電極之間的電介質分隔件同心；場成形模塊，其位于容器內，該場成形模塊構造為成形由第一和第二電極產生的處理流體內的電場；流動系統，其位于容器內，具有壁，該壁引導流動的處理流體至少基本上垂直于處理位置上的工件；和過濾器，其位于容器內，與處理流體流體連通。
58.根據權利要求49的室，其中第二電極，其與可拆卸單元內的第一電極和第一與第二電極之間的電介質分隔件同心；場成形模塊，其位于容器內，該場成形模塊構造為成形由第一和第二電極產生的容器里面處理流體內的電場；流動系統，其位于容器內，具有壁，該壁引導處理流體至少基本上垂直于處理位置上的工件；和薄膜，其位于容器內，傳導處理流體內的電流。
59.一種用于對微型零件工件進行濕化學處理的綜合設備，包括安裝模塊，其具有多個定位元件和連接元件；電化學沉積室，其包括頭部組件，該頭部組件具有構造為將微型零件工件定位在處理位置的工件夾；固定單元，該固定單元具有向處理位置提供處理流體的第一流動系統和用于牢固地將該固定單元連接到設備支承構件上的安裝夾具；可拆卸單元，該可拆卸單元具有與固定單元第一流動系統流體連通的第二流動系統；密封，該密封防止處理流體在固定單元和可拆卸單元之間泄漏；連接組件，該連接組件可分離地將可拆卸單元連接到固定單元上；以及至少可拆卸單元內的第一電極；傳送系統，其由安裝模塊支承，用于在設備內傳送工件，該傳送系統具有與定位元件之一接合的第二接口構件和與連接元件之一接合的第二緊固件；并且其中安裝模塊構造為保持定位元件之間的相對位置，以便當用另一個處理室替換該處理室時，無需重新校準傳送系統。
60.根據權利要求59的設備，其中，安裝模塊進一步包括蓋板，該蓋板具有剛性第一面板、在第一面板下面重疊的剛性第二面板、第一與第二面板之間的托梁以及穿過第一面板、托梁和第二面板的螺栓。
61.根據權利要求59的設備，其中，安裝模塊進一步包括蓋板，該蓋板具有剛性第一面板、與第一面板并置的剛性第二面板和第一和第二面板之間的支撐。
62.根據權利要求59的設備，進一步包括可拆卸單元內的第二電極、和第一電極與第二電極間的電介質分隔件。
63.根據權利要求59的設備，進一步包括第一流動系統和/或第二流動系統內的過濾器。
64.根據權利要求59的設備，進一步包括第一流動系統和/或第二流動系統內的薄膜，其中，該薄膜構造為傳導電流。
65.根據權利要求59的設備，其中，連接組件包括構造為從第一位置徑向向內移動到第二位置的夾緊環，以將可拆卸單元夾緊在固定單元上。
66.根據權利要求59的設備，其中固定單元進一步包括以遞增半徑向上傾斜的傾斜導軌面、具有以遞減半徑向上傾斜的軸承面的傾斜軸承環、以及與密封一側接觸的第一密封面；并且可拆卸單元進一步包括邊緣和與密封另一側接觸的第二密封面，該邊緣具有以遞增半徑向上傾斜的下表面和以遞增半徑向上傾斜的上表面。
67.根據權利要求59的設備，其中，固定單元進一步包括場成形模塊，其成形由電極感應的處理流體內的電場。
68.根據權利要求59的設備，進一步包括第二電極，其與可拆卸單元內的第一電極同心布置；和場成形模塊，其位于固定單元內，其中，該場成形模塊由電介質材料構成，并且具有第一開口和第二開口，第一開口面對處理位置的第一部分，由第一電極感應的離子可穿過該開口，第二開口面對處理位置的第二部分，由第二電極感應的離子可穿過該開口。
69.根據權利要求68的設備，進一步包括連接到第二電極上的第二電氣連接器，并且第一和第二電極彼此可獨立操作。
70.根據權利要求49的設備，進一步包括第二電極，其與可拆卸單元內的第一電極和第一與第二電極之間的電介質分隔件同心；場成形模塊，其位于固定單元內，該場成形模塊由電介質材料構成，構造為成形由第一和第二電極產生的處理流體內的電場；和過濾器，其位于固定單元和/或可拆卸單元內。
71.根據權利要求49的設備，進一步包括第二電極，其與可拆卸單元內的第一電極和第一與第二電極之間的電介質分隔件同心；場成形模塊，其位于固定單元內，該場成形模塊由電介質材料構成，構造為成形由第一和第二電極產生的處理流體內的電場；和薄膜，其位于固定單元和/或可拆卸單元內，以傳導電流。
72.一種用于對微型零件工件進行濕化學處理的綜合設備，包括安裝模塊，其具有多個定位元件和連接元件；電化學沉積室，其包括頭部組件和容器，該頭部組件具有構造為將微型零件工件定位在處理位置的工件夾和向工件上的層提供電流所布置的電觸點，而容器具有固定單元，該固定單元包括將該固定單元連接到設備蓋板上的安裝夾具；從外部可接近的可拆卸單元，在安裝夾具下面該可拆卸單元可分離地連接到固定單元上，從而將其定位在設備蓋板的下面；在固定單元與可拆卸單元之間控制固定單元和可拆卸單元之間處理流體的接口元件；可拆卸單元內的電極；以及連接組件，該連接組件可分離地將可拆卸單元連接到固定單元上；傳送系統，其由安裝模塊支承，用于在設備內傳送工件，該傳送系統具有與定位元件之一接合的第二接口構件和與連接元件之一接合的第二緊固件；并且其中，安裝模塊構造為保持定位元件之間的相對位置，以便當用另一個處理室替換該處理室時，無需重新校準傳送系統。
73.根據權利要求72的設備，其中，安裝模塊進一步包括蓋板，該蓋板具有剛性第一面板、在第一面板下面重疊的剛性第二面板、第一與第二面板之間的托梁、以及穿過第一面板、托梁和第二面板的螺栓。
74.根據權利要求72的設備，其中，安裝模塊進一步包括蓋板，該蓋板具有剛性第一面板、與第一面板并置的剛性第二面板和第一與第二面板之間的支撐。
75.根據權利要求72的設備，進一步包括可拆卸單元內的第二電極，和第一電極與第二電極之間的電介質分隔件。
76.根據權利要求72的設備，進一步包括容器內的過濾器。
77.根據權利要求72的設備，進一步包括容器內構造為傳導電流的薄膜。
78.根據權利要求72的設備，其中，連接組件包括構造為從第一位置徑向向內移動到第二位置的夾緊環，以將可拆卸單元夾緊在固定單元上。
79.根據權利要求72的設備，其中接口元件包括固定單元與可拆卸單元之間的襯墊；固定單元進一步包括以遞增半徑向上傾斜的傾斜導軌面，具有以遞減半徑向上傾斜的軸承面的傾斜軸承環，以及與襯墊一側接觸的第一密封面；并且可拆卸單元進一步包括邊緣和與襯墊另一側接觸的第二密封面，該邊緣具有以遞增半徑向上傾斜的下表面和以遞增半徑向上傾斜的上表面。
80.根據權利要求72的設備，進一步包括流動系統，其位于容器內，構造為引導流動的處理流體至少基本上垂直于處理位置上的工件；和場成形模塊，其位于容器內，以成形由電極感應的、處理流體內的電場。
81.根據權利要求72的設備，進一步包括第二電極，其與可拆卸單元內的第一電極同心布置；和場成形模塊，其位于容器內，該場成形模塊由電介質材料構成，并且該場成形模塊具有第一開口和第二開口，第一開口面對工件處理位置的第一部分，由第一電極感應的離子可穿過該開口，第二開口面對工件處理位置的第二部分，由第二電極感應的離子可穿過該開口。
82.根據權利要求72的設備，進一步包括第二電極，其與可拆卸單元內的第一電極和第一與第二電極之間的電介質分隔件同心；場成形模塊，其位于容器內，該場成形模塊構造為成形由第一和第二電極產生的處理液體內的電場；流動系統，其位于容器內，具有壁，該壁引導流動的處理液體至少基本上垂直于處理位置上的工件；和過濾器，其位于容器內，與處理流體流體連通。
83.根據權利要求72的設備，進一步包括第二電極，其與可拆卸單元內的第一電極和第一與第二電極之間的電介質分隔件同心；場成形模塊，其位于容器內，該場成形模塊構造為成形由第一和第二電極產生的容器里面處理流體內的電場；流動系統，其位于容器內，具有壁，該壁引導處理流體至少基本上垂直于處理位置上的工件；和薄膜，其位于容器內，傳導處理流體內的電流。
84.一種用于在電化學沉積室內在工件上電化學沉積材料的方法，該電化學沉積室包括具有工件夾的頭部組件以及容器，該容器具有帶處理位置的固定單元；可分離地連接到固定單元上的第一可拆卸單元；和第一可拆卸單元內的第一電極，該方法包括通過將第一工件定位在固定單元的處理位置上使其與容器內的處理流體接觸，并形成第一工件與第一電極之間的電場，將層沉積到具有亞微米零件的第一工件上；通過將第一可拆卸單元與固定單元分離，從固定單元的下面拆下可拆卸單元，將具有第二電極的第二可拆卸單元定位在固定單元的下面，再將第二可拆卸單元可分離地連接到固定單元上，進行第一電極的更換；和通過將第二工件定位在固定單元的處理位置上，使其與容器內的處理流體接觸，形成第二工件與第二電極之間的電場，將層沉積到具有亞微米零件的第二工件上。
85.一種對用于在具有亞微米零件工件上沉積材料的電化學室進行維修的方法，該方法包括提供電化學沉積室，該電化學沉積室包括具有工件夾的頭部組件以及容器，該容器具有帶處理位置的固定單元；可分離地連接到固定單元上的第一可拆卸單元；和第一可拆卸單元內的第一電極；通過在固定單元外側的外部位置上將可拆卸單元與固定單元分開，把第一可拆卸單元從固定單元上拆下；和將具有第二電極的第二可拆卸單元可分離地連接到固定單元一部分上。
全文摘要
一種濕化學處理室，包括固定單元，可分離地連接到固定單元上的可拆卸單元，與固定單元和可拆卸單元相接觸的密封，和位于固定單元和/或可拆卸單元內的處理部件。固定單元可具有構造為引導處理流體流過固定單元的第一流動系統，和用于將固定單元牢固地連接到綜合處理設備平臺或蓋板上的安裝夾具。可拆卸單元可包括構造為引導處理流體流向固定單元第一流動系統和/或引導處理流體從固定單元第一流動系統流出的第二流動系統。密封具有孔，穿過該孔處理流體可在第一和第二流動系統之間流動，并且處理部件可將特性傳給處理流體，用于對具有亞微米微型零件的微型零件工件的表面進行處理。
文檔編號C25D17/04GK1856596SQ200480015795
公開日2006年11月1日 申請日期2004年6月4日 優先權日2003年6月6日
發明者K·漢森, K·L·多爾切克, P·R·麥克休, G·J·威爾森, J·A·戴維斯, 蘭迪·哈里斯 申請人:塞米用具公司