一種霧化盤的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及垃圾焚燒煙氣凈化技術領域，具體而言涉及一種改良的耐磨霧化盤。
【背景技術】
[0002]垃圾焚燒處理廠的常用旋轉噴霧法來對煙氣脫硫。旋轉噴霧法的關鍵在于作為吸收劑的石灰漿形成霧滴狀態，進而與煙氣接觸進行脫硫。旋轉噴霧法的核心裝置時旋轉霧化器，而霧化盤是脫硫霧化器的核心部件，其安裝在旋轉霧化器上用來噴灑、霧化石灰漿。當吸收漿液被送到高速旋轉的盤上時，在離心力作用下，吸收漿液在放置面上伸展為薄膜，并以不斷增長的速度向盤的邊緣運動，離開邊緣時被分散為霧滴。由于石灰漿有較強的腐蝕性，并且有一定的固體顆粒，再加上霧化盤的高速旋轉(比如1000轉/分鐘)，石灰漿中的未溶解石灰顆粒，對盤體進行強烈沖刷，造成霧化盤的磨損，影響了霧化盤的壽命、石灰漿的流動速度、霧化盤的動平衡性能，造成震動大，霧化效果下降，進而對旋轉霧化器的運行甚至焚燒廠的運行造成影響，且當霧化盤出現磨損后，修復比較困難，更換的成本也比較尚O
[0003]因此，有必要提出一種新的霧化盤性，以解決現有技術的不足。
【實用新型內容】
[0004]在【實用新型內容】部分中引入了一系列簡化形式的概念，這將在【具體實施方式】部分中進一步詳細說明。本實用新型的【實用新型內容】部分并不意味著要試圖限定出所要求保護的技術方案的關鍵特征和必要技術特征，更不意味著試圖確定所要求保護的技術方案的保護范圍。
[0005]為了克服目前存在的問題，本實用新型實提供一種霧化盤，用于旋轉霧化漿液，其包括:頂部盤，其為環狀圓盤，中心具有圓形開孔；噴霧分配盤，其為圓形盤，且中心區域設置有凸臺，所述凸臺穿過所述頂部盤的中心的圓形開孔，所述頂部盤與所述凸臺之間形成有供漿液流入的間隙，且所述凸臺內部設置有用于安裝電機驅動軸的開孔；分配塊，其位于所述頂部盤和噴霧分配盤之間，且沿圓周均勻分布，所述分配塊之間的間隙構成霧化漿液的出口 ；和所述噴霧分配盤與漿液接觸的表面形成有耐磨涂層。
[0006]優選地，所述耐磨涂層為陶瓷、合金、氧化物、碳化物、和/或氮化物。
[0007]優選地，所述耐磨涂層通過等離子噴涂、電弧噴涂、火焰噴涂、化學氣相沉積和/或電鍍形成。
[0008]優選地，其特征在于，所述耐磨涂層為I?3層。
[0009]優選地，所述分配塊的數量為10?18。
[0010]優選地，所述頂部盤、分配塊和噴霧分配盤對應設置有銷孔，且通過銷釘和螺栓進行固定。
[0011]根據本實用新型提供的霧化盤，通過在霧化盤盤體的主要磨損面的部位，采用離子噴涂、電弧噴涂、火焰噴涂的方法，在金屬表面噴涂陶瓷、合金、氧化物、碳化物、氮化物等各種耐磨材材料，在使用磨損中首先磨損耐磨的涂層，當涂層磨損后，基體材料仍然有很好的耐磨性。因此本實用新型提供的霧化盤交好的耐磨性能和較長的使用壽命。
[0012]此外，本實用新型由于不改變現有霧化盤的基本結構，因而生產成本較低，具有較高的效費比。
【附圖說明】
[0013]本實用新型的下列附圖在此作為本實用新型的一部分用于理解本實用新型。附圖中示出了本實用新型的實施例及其描述，用來解釋本實用新型的原理。
[0014]附圖中:
[0015]圖1示出了本實用新型一實施方式提出的霧化盤的剖視圖。
【具體實施方式】
[0016]在下文的描述中，給出了大量具體的細節以便提供對本實用新型更為徹底的理解。然而，對于本領域技術人員而言顯而易見的是，本實用新型可以無需一個或多個這些細節而得以實施。在其他的例子中，為了避免與本實用新型發生混淆，對于本領域公知的一些技術特征未進行描述。
[0017]為了徹底理解本實用新型，將在下列的描述中提出詳細的結構及步驟，以便闡釋本實用新型提出的技術方案。本實用新型的較佳實施例詳細描述如下，然而除了這些詳細描述外，本實用新型還可以具有其他實施方式。
[0018]圖1示出了本實用新型一實施方式提出的霧化盤的剖視圖。下面結合圖1對本實用新型提供的霧化盤進行詳細描述。
[0019]如圖1所示，本實施方式的霧化盤100包括頂部盤1、分配塊2、噴霧分配盤3以及耐磨涂層6。
[0020]頂部盤I為環狀圓盤，中心區域具有圓形開孔10。作為示例，頂部盤I可選用硬度高、耐腐蝕性好的哈氏合金作為盤體材料。
[0021]分配塊2位于頂部盤I和噴霧分配盤3之間，并沿圓周均勻分布，分配塊2之間間隙構成霧化漿液的出口。分配塊2可根據需要選用合適的形狀和個數，作為示例，分配塊2為長條狀，數量為10?18個。
[0022]噴霧分配盤3為圓形盤，中心區域設置有凸臺30，凸臺30內部設置有用于安裝電機驅動軸的開孔31。作為示例，噴霧盤3可選用硬度高、耐腐蝕性好的哈氏合金作為盤體材料。
[0023]在本實施方式中，頂部盤1、分配塊2和噴霧分配盤3對應設置有銷孔，三者通過穿過銷孔的螺釘5以及固定螺栓進行固定。其中，噴霧分配盤3上的凸臺30穿過頂部盤I中心的圓形開孔10，且凸臺30與頂部盤I之間具有供漿液流入的間隙11 ;分配塊2位于頂部盤I和噴霧分配盤3之間，并沿圓周均勾分布，分配塊2之間的間隙構成霧化楽液的出口。
[0024]在本實施方式中，為了提高霧化盤的耐磨性能，在噴霧分配盤3與漿液接觸的表面，即圖1中A、B、C、D區域的表面形成有耐磨涂層6。耐磨涂層6可為陶瓷、合金、氧化物、碳化物、氮化物等各種耐磨材料，其形成方法可采用各種物理化學方法，比如等離子噴涂、電弧噴涂、火焰噴涂、化學氣相沉積、電鍍等方法。
[0025]進一步，為了提高耐磨效果，可根據需要形成多層耐磨涂層，比如I?3層。
[0026]本實施方式提供的霧化盤100的動作過程:當霧化盤100工作時，其在電機驅動軸的帶動下高速旋轉，同時漿液從頂部盤I和噴霧分配盤3之間的間隙11流入，在離心力作用下漿液在放置面上伸展為薄膜，并以不斷增大的速度向盤的邊緣運動，理解愛邊緣是被分散為霧滴，霧滴從分配塊2之間的間隙構成的霧化漿液出口排除，進入后續工序。
[0027]本實用新型已經通過上述實施例進行了說明，但應當理解的是，上述實施例只是用于舉例和說明的目的，而非意在將本實用新型限制于所描述的實施例范圍內。此外本領域技術人員可以理解的是，本實用新型并不局限于上述實施例，根據本實用新型的教導還可以做出更多種的變型和修改，這些變型和修改均落在本實用新型所要求保護的范圍以內。本實用新型的保護范圍由附屬的權利要求書及其等效范圍所界定。
【主權項】
1.一種霧化盤，用于旋轉霧化漿液，其特征在于，包括: 頂部盤(I)，其為環狀圓盤，中心具有圓形開孔(10); 噴霧分配盤(3)，其為圓形盤，且中心區域設置有凸臺(30)，所述凸臺(30)穿過所述頂部盤(I)的中心的圓形開孔(10)，所述頂部盤(I)與所述凸臺(30)之間形成有供漿液流入的間隙(11)，且所述凸臺(30)內部設置有用于安裝電機驅動軸的開孔(31); 分配塊(2)，其位于所述頂部盤(I)和噴霧分配盤(3)之間，且沿圓周均勻分布，所述分配塊(2)之間的間隙構成霧化漿液的出口 ；和 所述噴霧分配盤(3)與漿液接觸的表面形成有耐磨涂層(6)。2.根據權利要求1所述的霧化盤，其特征在于，所述耐磨涂層為陶瓷、合金、氧化物、碳化物或氮化物。3.根據權利要求2所述的霧化盤，其特征在于，所述耐磨涂層通過等離子噴涂、電弧噴涂、火焰噴涂、化學氣相沉積和/或電鍍形成。4.根據權利要求1-3任意一項所述的霧化盤，其特征在于，所述耐磨涂層為I?3層。5.根據權利要求1所述的霧化盤，其特征在于，所述分配塊的數量為10?18個。6.根據權利要求1所述的霧化盤，其特征在于，所述頂部盤(1)、分配塊(2)和噴霧分配盤(3)對應設置有銷孔，且通過銷釘和螺栓進行固定。
【專利摘要】本實用新型提供一種霧化盤，用于旋轉霧化漿液，其包括：頂部盤，其為環狀圓盤，中心具有圓形開孔；噴霧分配盤，其圓形盤，且中心區域設置有凸臺，所述凸臺穿過所述頂部盤的中心的圓形開孔，所述頂部盤與所述凸臺之間形成有供漿液流入的間隙，且所述凸臺內部設置有用于安裝電機驅動軸的開孔；分配塊，其位于所述頂部盤和噴霧分配盤之間，且沿圓周均勻分布，所述分配塊之間的間隙構成霧化漿液的出口；和所述噴霧分配盤與漿液接觸的表面形成有耐磨涂層。本實用新型提供的霧化盤交好的耐磨性能和較長的使用壽命，以及較高的效費比。
【IPC分類】B05B3/10
【公開號】CN204816963
【申請號】CN201420829856
【發明人】王海濤, 邵哲如, 陳愛友, 付志臣
【申請人】光大環保技術裝備（常州）有限公司, 光大環保（中國）有限公司
【公開日】2015年12月2日
【申請日】2014年12月24日