涂裝噴涂帶標尺槍架的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型的裝置是噴涂技術領域，尤其涉及調整噴槍涂裝噴涂工件的技術領域。
【背景技術】
[0002]本實用新型之前工件涂裝作業前，根據工件的部位需要調整噴涂角度和距離，以保證噴涂效果良好，無噴涂重疊、漏噴、靜電花等現象。但是由于操作員經驗不足，沒有調整的依據和量化的調整方式，有可能造成以上噴涂問題出現，出現產品不良，造成良品率降低，生產效率下降等不良后果。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型為了解決現有技術的不足，本實用新型提供了涂裝噴涂帶標尺槍架，工件涂裝作業前，根據工件的部位需要調整噴涂角度和距離，以保證噴涂效果良好，無噴涂重疊、漏噴、靜電花等現象。
[0004]本實用新型所采用的技術方案是:
[0005]本實用新型的涂裝噴涂帶標尺槍架，包括:支架、噴槍桿、噴槍，其中噴槍固定在噴槍桿的下端，噴槍桿與支架相固定，支架上設置標尺，噴槍桿與支架間通過連接閥相固定；噴槍桿與噴槍間活動鉸接，且在鉸接位置設置角度尺。
[0006]還可以采用以下技術措施:
[0007]所述的支架包括垂直支架和水平支架，在垂直支架和水平支架上分別設置標尺。
[0008]所述的噴槍桿與噴槍的連接位置設置角度調節裝置。
[0009]通過在噴涂槍架的支架上添加標尺刻度，通過調整支架上前后、左右、上下來調整噴槍與工件之間的距離，噴槍與噴槍桿連接加裝帶角度尺和調節裝置，支架之間的位置可以通過標尺刻度精確調整，控制噴槍的精確距離，噴槍與噴槍桿之間可以通過角度尺調整噴槍角度來調整噴槍與工件之間的角度。使涂裝噴涂角度和涂裝噴涂距離等數值量化，可以做到精確調整，避免造成的噴涂過重疊、漏噴、靜電花等現象。從而提高良品率，節約成本，提尚廣能，提尚生廣效率，增加效益。
【附圖說明】
[0010]圖1為:本實用新型的涂裝噴涂帶標尺槍架的示意圖；
[0011]圖2為:本實用新型中支架的連接示意圖；
[0012]圖3為:本實用新型中噴槍處的示意圖。
【具體實施方式】
[0013]結合附圖對的技術方案做進一步說明。圖1是本實用新型的涂裝噴涂帶標尺槍架示意圖，本實用新型的涂裝噴涂帶標尺槍架包括:支架1、噴槍桿2、噴槍3，其中噴槍固定在噴槍桿的下端，噴槍桿與支架相固定，支架上設置標尺7，噴槍桿與支架間通過連接閥4相固定；噴槍桿與噴槍間活動鉸接，且在鉸接位置設置角度尺5。在噴涂槍架的支架上添加標尺刻度，噴槍與噴槍桿間連接加裝角度調節裝置6，支架之間的距離可以通過標尺刻度精確調整，支架包括垂直支架Ia和水平支架lb，在垂直支架和水平支架上分別設置標尺并通過支架連接閥調整并鎖緊支架，確保控制噴槍之間的精確距離，調整好支架距離后，噴槍的角度也是一個重要的指標，噴槍與噴槍桿之間可以通過角度尺控制噴槍的角度，并通過噴槍桿和噴槍連接位置的調節裝置調節固定噴槍的角度，使涂裝噴涂角度和涂裝噴涂距離等數值量化，可以做到精確調整，實際工作中工件涂裝作業前，需要調整噴涂角度和距離，本本實用新型裝置可已通過調整支架上前后、左右、上下來調整噴槍與工件之間的距離，并根據支架上的刻度把數值量化，然后通過調整噴槍角度來調整噴槍與工件之間的角度，并根據角度標尺的刻度把數值量化。使涂裝噴涂角度和涂裝噴涂距離等數值量化，可以做到精確調整，避免造成的噴涂過重疊、漏噴、靜電花等現象。從而提高良品率，節約成本，提高產能，提高生產效率，增加效益。
【主權項】
1.一種涂裝噴涂帶標尺槍架，包括:支架、噴槍桿、噴槍，其中噴槍固定在噴槍桿的下端，噴槍桿與支架相固定，其特征在于:支架上設置標尺，噴槍桿與支架間通過連接閥相固定；噴槍桿與噴槍間活動鉸接，且在鉸接位置設置角度尺。
2.根據權利要求1所述的涂裝噴涂帶標尺槍架，其特征在于:支架包括垂直支架和水平支架，在垂直支架和水平支架上分別設置標尺。
3.根據權利要求1所述的涂裝噴涂帶標尺槍架，其特征在于:噴槍桿與噴槍的連接位置設置角度調節裝置。
【專利摘要】一種涂裝噴涂帶標尺槍架，包括：支架、噴槍桿、噴槍，其中噴槍固定在噴槍桿的下端，噴槍桿與支架相固定，支架上設置標尺，噴槍桿與支架間通過連接閥相固定；噴槍桿與噴槍間活動鉸接，且在鉸接位置設置角度尺，通過在噴涂槍架的支架上添加標尺刻度，噴槍與噴槍桿連接加裝帶角度尺和調節裝置，支架之間的位置可以通過標尺刻度精確調整，控制噴槍的精確距離，噴槍與噴槍桿之間可以通過角度尺調整噴槍角度來調整噴槍與工件之間的角度。使涂裝噴涂角度和涂裝噴涂距離等數值量化，可以做到精確調整，避免造成的噴涂過重疊、漏噴、靜電花等現象。從而提高良品率，節約成本，提高產能，提高生產效率，增加效益。
【IPC分類】B05B15-08
【公開號】CN204448390
【申請號】CN201420724798
【發明人】張曉光, 邱立寶, 王紀剛, 臧文清, 朱美惠
【申請人】天津立中車輪有限公司
【公開日】2015年7月8日
【申請日】2014年11月28日