一種真空密封坩堝的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種用于真空實驗領域的坩禍，尤其是一種工作于真空環境中能夠進行真空密封和高溫加熱的金屬坩禍。
【背景技術】
[0002]坩禍是化學儀器的重要組成部分，它是熔化和精煉金屬液體以及固液加熱、反應的容器，是保證化學反應順利進行的基礎。現有坩禍一般為敞口設計，不能夠滿足一些特殊環境和要求。
[0003]在真空中性束注入實驗中的銫饋入系統，要求用坩禍加熱液體單質銫，銫蒸發形成蒸汽，通過管道進入離子源所在真空室內。坩禍工作在真空環境內，要求一定的真空密封，使得坩禍內腔與外部真空環境隔絕開來，同時又要能夠隨時給坩禍進行銫單質添加。而現有坩禍并不能完成上面的要求。
【實用新型內容】
[0004]本實用新型的目的是提供一種真空密封坩禍，以解決現有的坩禍無法在高溫加熱時保證真空密封的問題。
[0005]為了達到上述目的，本實用新型采用的技術方案為:
[0006]一種真空密封；t甘禍，其特征在于:包括有樹禍體和甘禍蓋，樹禍體口部和樹禍蓋之間壓裝有密封圈；樹禍體口部和樹禍蓋均設為刀口法蘭結構，且二者刀口相對；樹禍體口部和坩禍蓋對合后通過螺栓緊固擠壓，二者刀口分別切入所述密封圈進行真空密封；包括有氣體引出管，所述氣體引出管從坩禍蓋插入引向坩禍體口部。
[0007]一種真空密封坩禍，其特征在于:所述坩禍體為圓柱狀結構，坩禍體口部設有一體的刀口法蘭結構。
[0008]一種真空密封坩禍，其特征在于:所述密封圈為金屬密封圈。
[0009]一種真空密封坩禍，其特征在于:所述氣體引出管上安裝有流量計、計量閥或關閉閥。
[0010]坩禍體和坩禍蓋通過螺栓緊固擠壓，上下兩個刀口切入無氧銅密封圈進行真空密封，使得整個坩禍能夠進行高溫加熱的同時也能夠進行真空密封。同時，在引出管口可以根據自己的需要，安裝流量計、計量閥、關閉閥等，來控制蒸汽的開關、流速等。
[0011]本實用新型優點為:
[0012]本實用新型把金屬坩禍與刀口法蘭結構相結合，實現高溫加熱中高真空密封，工作運行穩定可控。本實用新型結構簡單，工作穩定可靠，成本較低，加工方便，安裝簡潔，可在真空環境中對不同物質進行高溫加熱。
【附圖說明】
[0013]圖1為本實用新型的整體組裝圖
[0014]圖2為本實用新型的結構示意圖
[0015]圖3為本實用新型剖面示意圖
[0016]圖4為本發密封結構放大示意圖
[0017]附圖標記說明:1_坩禍體，2-密封圈，3-坩禍蓋，4-引出管，5-刀口密封結構。
【具體實施方式】
[0018]下面結合附圖和具體實施例對本實用新型作進一步的詳細說明
[0019]參見附圖:
[0020]一種真空密封；t甘禍，包括有；t甘禍體I和；t甘禍蓋3，；t甘禍體I 口部和樹禍蓋3之間壓裝有密封圈2 ;樹禍體I 口部和樹禍蓋3均設為刀口法蘭結構，且二者刀口相對；樹禍體I口部和坩禍蓋3對合后通過螺栓緊固擠壓，二者刀口分別切入所述密封圈2進行真空密封；包括有氣體引出管4，所述氣體引出管4從坩禍蓋3插入引向坩禍體I 口部。
[0021]坩禍體I下半部分為金屬圓柱，內部有腔，用來盛放被加熱物。通過立式加熱爐對圓柱體外壁進行加熱，從而加熱腔內物體。坩禍體上半部分為一體式的CF刀口法蘭結構，刀口切壓密封圈。
[0022]本實例中坩禍體為304不銹鋼，邊沿部分有6個均勻分布的貫穿螺紋孔，密封圈為無氧銅密封圈。坩禍蓋3為CF刀口法蘭盤，刀口規格與坩禍體的一致，本實例中坩禍蓋的材料也是304不銹鋼，禍蓋邊沿有6個均勻分布的通孔。4是不銹鋼引出管，引出管的直徑要根據坩禍體內腔的直徑來定，本實例中4為外徑6mm，內徑5mm的304不銹鋼管。
[0023]在中性束注入實驗的銫注入系統中，該坩禍處于真空環境中，將銫單質注入坩禍體的內腔中，放好密封圈，對好坩禍蓋，對稱的裝上6個螺栓，通過緊固螺栓使得上下刀口切入無氧銅密封圈，切面與刀口緊貼擠壓，隔絕外部真空。然后通過立式筒狀加熱爐對鍋體四壁加熱，加熱到三四百度后，內部銫單質源源不斷地形成蒸汽通過引出管進入離子源真空室。當銫單質加熱完后，擰下螺栓，褪下蓋子，進行銫單質添加，然后更換密封圈，重新緊固螺栓，然后繼續進行試驗。
[0024]實際使用過程中，本坩禍非常適合在較高的真空環境中進行高溫加熱，工作穩定可靠且安裝拆卸方便。
[0025]以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡未脫離本實用新型的實施或變更，均包含在本實用新型的專利保護范圍內。
【主權項】
1.一種真空密封坩禍，其特征在于:包括有坩禍體和坩禍蓋，坩禍體口部和坩禍蓋之間壓裝有密封圈；樹禍體口部和樹禍蓋均設為刀口法蘭結構，且二者刀口相對；樹禍體口部和坩禍蓋對合后通過螺栓緊固擠壓，二者刀口分別切入所述密封圈進行真空密封；包括有氣體引出管，所述氣體引出管從坩禍蓋插入引向坩禍體口部。
2.根據權利要求1所述的一種真空密封坩禍，其特征在于:所述坩禍體為圓柱狀結構，坩禍體口部設有一體的刀口法蘭結構。
3.根據權利要求1所述的一種真空密封坩禍，其特征在于:所述密封圈為金屬密封圈。
4.根據權利要求1所述的一種真空密封坩禍，其特征在于:所述氣體引出管上安裝有流量計、計量閥或關閉閥。
【專利摘要】本實用新型公開了一種真空密封坩堝，包括有坩堝體和坩堝蓋，坩堝體口部和坩堝蓋之間壓裝有密封圈；坩堝體口部和坩堝蓋均設為刀口法蘭結構，且二者刀口相對；坩堝體口部和坩堝蓋對合后通過螺栓緊固擠壓，二者刀口分別切入所述密封圈進行真空密封；包括有氣體引出管，所述氣體引出管從坩堝蓋插入引向坩堝體口部。本實用新型把金屬坩堝與刀口法蘭結構相結合，實現高溫加熱中高真空密封，工作運行穩定可控。本實用新型結構簡單，工作穩定可靠，成本較低，加工方便，安裝簡潔，可在真空環境中對不同物質進行高溫加熱。
【IPC分類】B01L3-04
【公開號】CN204429328
【申請號】CN201520010200
【發明人】邑偉, 楊思皓, 崔 奎, 謝遠來, 梁立振, 顧玉明, 胡純棟, 黃穩, 程斌, 馬長城
【申請人】中國科學院等離子體物理研究所
【公開日】2015年7月1日
【申請日】2015年1月7日