干燥裝置、涂敷膜形成系統以及其方法
【專利摘要】本發明提供一種適當地控制用于使涂敷于基材上的漿狀的涂敷液干燥的干燥強度的技術。干燥裝置(3A)使涂敷于連續搬運的基材(51)的一側主面(51)上的漿狀的涂敷液(41)干燥。干燥裝置(3A)具有：加熱部(涂敷面側加熱部(35)以及背面側加熱部(37))，對涂敷液(41)進行加熱處理；輻射溫度計(39)，在加熱部的搬運方向上的下游側的位置，對基材(5)上的輻射率不會因加熱處理變動的另一側主面(53)上的輔射率不變部位(531)的溫度進行測量；加熱控制部(711)，基于輻射溫度計(39)測量出的溫度來控制加熱部進行的加熱處理的強度。
【專利說明】
干燥裝置、涂敷膜形成系統以及其方法
技術領域
[0001 ]本發明涉及一種使漿狀的涂敷液干燥的技術。
【背景技術】
[0002]在專利文獻I中披露了，利用由福射溫度計或者熱成像(thermography)構成的溫度測量部在多個位置測量基材上的涂敷膜的溫度。另外，還披露了基于各溫度測量部的測量結果，使下游側的干燥噴嘴的干燥強度大于上游側的干燥噴嘴的干燥強度。
[0003]另外，在專利文獻2中披露了，為了提高涂敷膜對基材的粘附力，用加熱單元從未涂敷有涂敷膜的基材面側來加熱基材，用冷卻單元隔著基材從加熱單元的相反側來冷卻涂敷膜的上表面。另外，還解析了當將涂敷膜從基材上撕下時的剝離力與基材上表面溫度以及基材下表面溫度的溫度差的關聯關系。
[0004]專利文獻1: JP特開2013-108648號公報
[0005]專利文獻2: JP特開2014-173803號公報
[0006]在專利文獻I中使用的輻射溫度計或者熱成像的情況下，將涂敷膜的輻射率設定為規定的值，由此測量干燥處理中的涂敷膜的上表面溫度。但是，由于干燥處理中的涂敷膜的輻射率因溶劑的蒸發等而變動，所以有時溫度計的輻射率的設定值與實際的輻射率大不相同。因此，無法準確地測量涂敷膜上表面溫度，可能進行了錯誤的溫度控制。另外，在專利文獻I中記載的干燥裝置中，測量結果用于控制下游側的干燥噴嘴。因此，存在上游側的干燥噴嘴繼續進行不恰當的干燥處理的危險。
[0007]另外，在專利文獻2中沒有明確指出以何種方式測量基材的各部位的溫度。另外，在專利文獻2中既沒有如專利文獻I那樣披露，基于各部位的溫度的測量結果來控制加熱單元(或者冷卻單元)這樣的技術思想，也沒有給出啟示。
【發明內容】
[0008]本發明的目的在于，提供一種適當地控制用于使涂敷于基材上的漿狀的涂敷液干燥的干燥強度的技術。
[0009]為了解決上述的問題，本發明的第I技術方案是一種干燥裝置，使涂敷于被搬運機構連續搬運的基材的兩個主面中的至少一側主面上的漿狀的涂敷液干燥，該搬運機構一邊從第一輥送出所述基材，一邊用第二輥卷收所述基材，該干燥裝置具有:加熱部，對涂敷于所述基材上的涂敷液進行加熱處理，輻射溫度計，在搬運方向上的所述加熱部的下游側的位置，對所述基材上的輻射率不會因所述加熱處理變動的輻射率不變部位的溫度進行測量，以及控制部，基于所述輻射溫度計測量出的溫度，控制所述加熱處理的強度。
[0010]另外，第2技術方案的干燥裝置，在第I技術方案中，所述輻射溫度計在所述基材上的未涂敷有所述涂敷液的非涂敷部位或者形成有已干燥的所述涂敷液的涂敷膜的涂敷膜形成部位測量溫度。
[0011]另外，第3技術方案的干燥裝置，在第I或者第2技術方案中，該干燥裝置還具有機殼部，該機殼部形成有用于使所述基材進入內部的進入口以及用于使所述基材從內部退出的退出口，所述加熱部以及所述輻射溫度計容置于所述機殼部內。
[0012]另外，第4技術方案的干燥裝置，在第I?第3技術方案中，在所述輻射溫度計測量出的所述輻射率不變部位的溫度比目標溫度低的情況下，所述控制部使所述加熱部進行的所述加熱處理的強度增強，在所述輻射率不變部位的溫度比所述目標溫度高的情況下，所述控制部使所述加熱部進行的所述加熱處理的強度減弱。
[0013]另外，第5技術方案的干燥裝置，在第4技術方案中，所述加熱部具有熱風供給部，該熱風供給部向所述基材吹送溫度比所述目標溫度高的熱風，來加熱所述涂敷液。
[0014]另外，第6技術方案的干燥裝置，在第I?第5中任一技術方案中，所述加熱部以及所述輻射溫度計沿著所述基材的搬運路徑至少排列有一組以上。
[0015]另外，第7種技術方案的干燥裝置，在第I?第6中任一技術方案中，還具有支撐輥，該支撐輥配置于所述加熱部的下游側，支撐所述基材的另一側主面，所述輻射溫度計在所述加熱部與所述支撐輥之間的位置，測量所述輻射率不變部位的溫度。
[0016]另外，第8技術方案的干燥裝置，在第I?第7技術方案中任一技術方案中，該干燥裝置還具有多個排列于不同的高度的支撐輥，所述多個支撐輥以使所述基材呈向所述一側主面側凸出的凸狀的方式支撐該所述基材。
[0017]另外，第9技術方案的干燥裝置，在第I?第8技術方案中任一技術方案中，還具有通知部，在由所述輻射溫度計測量出的所述輻射率不變部位的溫度超過規定的基準溫度的情況下，該通知部向外部發出通知。
[0018]另外，第10技術方案是一種涂敷膜形成系統，在基材上形成涂敷膜，該涂敷膜形成系統具有:搬運機構，用第二輥卷收從第一輥送出的基材，來連續搬運所述基材，涂敷部，向被所述搬運機構搬運的基材的兩個主面中的至少一側主面涂敷漿狀的涂敷液，以及第I?第9技術方案中任一技術方案的干燥裝置。
[0019]另外，第11技術方案是一種干燥方法，該干燥方法使涂敷于通過一邊從第一輥送出基材一邊用第二輥卷收而被連續搬運的所述基材的兩個主面中的至少一側主面上的漿狀的涂敷液干燥，包括:加熱工序，對涂敷于所述基材上的涂敷液進行加熱處理，溫度測量工序，用輻射溫度計對在所述加熱工序中已被加熱的所述基材中的輻射率不會因所述加熱處理變動的輻射率不變部位的溫度進行測量，以及控制工序，基于所述輻射溫度計測量出的溫度，控制所述加熱處理的強度。
[0020]另外，第12技術方案是一種涂敷膜形成方法，在基材上形成涂敷膜，包括:搬運工序，用第二輥卷收從第一輥送出的基材，來連續搬運基材，涂敷工序，在所述搬運工序中連續搬運的基材的兩個主面中的至少一側主面上涂敷漿狀的涂敷液，加熱工序，對涂敷于所述基材上的涂敷液進行加熱處理，溫度測量工序，用輻射溫度計對在所述加熱工序中已被加熱的所述基材中的輻射率不會因所述加熱處理變動的輻射率不變部位的溫度進行測量，以及控制工序，基于所述輻射溫度計測量出的溫度，控制所述加熱處理的強度。
[0021]根據第I?第10技術方案的干燥裝置，用輻射溫度計測量基材上的輻射率不變的部位的溫度，由此能夠以不接觸的方式高精度地確定干燥處理中的涂敷液的溫度。另外，基于測量出的溫度來控制在測量溫度的部位的上游側進行的加熱處理的強度，由此能夠更加良好地進行干燥處理。
[0022]根據第二技術方案，非涂敷部位或者涂敷膜形成部位是輻射率不會因加熱處理變動的位置。因此，用輻射溫度計測量這些部位的溫度，能夠以不接觸的方式高精度地確定作為干燥對象的涂敷液的溫度。
[0023]根據第3技術方案，能夠在利用機殼部阻擋外部氣體的狀態下進行加熱。因此，能夠高效率地進行干燥處理。
[0024]根據第4技術方案，能夠適當地控制加熱漿狀的涂敷液的加熱處理的強度。
[0025]根據第5技術方案，能夠吹送溫度比目標溫度高的熱風，由此涂敷液的溫度快速地接近目標溫度。
[0026]根據第6技術方案，基于一個以上的輻射溫度計的測量結果，控制部能夠控制位于一個以上的輻射溫度計的上游側的一個以上的加熱部，由此在一個位置或者多個位置進行恰當的加熱處理。
[0027]根據第7技術方案，能夠在因支撐輥使輻射率不變部位的溫度變化之前，用輻射溫度計測量溫度。因此，能夠更加恰當地控制加熱部。
[0028]根據第8技術方案，將基材彎曲成凸狀來搬運，由此不改變直線距離，能夠延長搬運距離。通過這種方式，能夠確保更長的干燥時間。
[0029]根據第9技術方案，向外部通知涂敷液處于異常溫度，能夠迅速地應對異常事態。
[0030]根據第10技術方案的涂敷膜形成系統，用輻射溫度計測量基材上的輻射率不變的部位的溫度，由此能夠以不接觸的方式高精度地確定干燥處理中的涂敷液的溫度。另外，基于測量出的溫度來控制在測量溫度的部位的上游側進行的加熱處理的強度，由此能夠更加良好地進行干燥處理。
[0031 ]根據第11技術方案的干燥方法，用輻射溫度計測量基材上的輻射率不變的部位的溫度，由此能夠以不接觸的方式高精度地確定干燥處理中的涂敷液的溫度。另外，基于測量出的溫度來控制在測量溫度的部位的上游側進行的加熱處理的強度，由此能夠更加良好地進行干燥處理。
[0032]根據第12技術方案的涂敷膜形成方法，用輻射溫度計測量基材上的輻射率不變的部位的溫度，由此能夠以不接觸的方式高精度地確定干燥處理中的涂敷液的溫度。另外，基于測量出的溫度來控制在測量溫度的部位的上游側進行的加熱處理的強度，由此能夠更加良好地進行干燥處理。
【附圖說明】
[0033]圖1是示出具有實施方式的干燥裝置的涂敷膜形成系統的概略結構圖。
[0034]圖2是實施方式的干燥裝置的概略側視圖。
[0035]圖3是示出實施方式的控制部與涂敷膜形成系統的其他結構的連接關系的框圖。
[0036]圖4是示出搬運至實施方式的干燥裝置的基材的另一側主面的概略俯視圖。
[0037]圖5是示出搬運至實施方式的干燥裝置的基材的一側主面的概略俯視圖。
[0038]其中，附圖標記說明如下:
[0039]I涂敷膜形成系統
[0040]1A、1B 涂敷部[0041 ]3A、3B干燥裝置
[0042]31干燥處理部
[0043]32機殼部
[0044]321 進入口
[0045]323 退出口
[0046]325連接部
[0047]33支撐輥
[0048]35涂敷面側加熱部
[0049]37背面側加熱部
[0050]39輻射溫度計[0051 ]41涂敷液
[0052]43涂敷膜
[0053]5 基材
[0054]51 一側主面
[0055]53另一側主面
[0056]511、513、531輻射率不變部位
[0057]60搬運機構
[0058]61輸送輥(第一輥)
[0059]62卷收輥(第二輥)
[0060]7控制部
[0061]71 CPU
[0062]711加熱控制部
[0063]78通知部
【具體實施方式】
[0064]以下，一邊參照附圖，一邊針對本發明的實施方式進行說明。此外，本實施方式中記載的結構要素只不過是例示性的，并不是要將本發明的保護范圍僅限定于此。另外，在附圖中，為了容易理解，有時根據需要而對各部分的尺寸或者數量以夸張或者簡化的方式進行圖示。
[0065]<1.實施方式>
[0066]圖1是示出具有實施方式的干燥裝置3A、3B的涂敷膜形成系統I的概略結構圖。
[0067]該涂敷膜形成系統I一邊以輥至輥(rollto roll)方式連續搬運作為例如長狀的金屬箔的基材5，一邊在該基材5的兩個面上涂敷含有作為電極材料的活性物質的漿狀涂敷液。然后，進行該涂敷液的干燥處理，由此制造鋰離子二次電池的電極。
[0068]涂敷膜形成系統I具有涂敷部10A、10B、干燥裝置3A、3B、搬運機構60以及控制部7。控制部7控制系統整體。
[0069]搬運機構60具有輸送輥61(第一輥)、卷收輥62(第二輥)以及多個輔助輥63。長的基材5—邊從輸送輥61送出并被多個輔助輥63引導，一邊被卷收輥62卷收。多個輔助輥63配置于被連續搬運的基材5的搬運路徑上的適當位置。長的基材5以輥至輥(roll to roll)方式被依次連續搬運至涂敷部10A、干燥裝置3A、涂敷部1B和干燥裝置3B。在以下的說明中，將利用搬運機構60搬運基材5的方向(用箭頭DRl示出的方向)稱為“搬運方向”。此外，搬運方向并不僅限定于固定的一個方向。在圖1所示的例子中，利用多個輔助輥63來適當變更基材5的搬運方向。針對輔助輥63的個數以及配置位置，不僅限定于圖1所示的情況，能夠根據需要而適當地增減。在搬運方向上連續搬運基材5的工序是在基材5上形成涂敷膜43的涂敷膜形成方法的搬運工序的一個例子。
[0070]涂敷部10A、10B對由搬運機構60搬運的基材5的正反表面涂敷漿狀的涂敷液。涂敷部1A具有向基材5的正反兩個主面中的一側主面51噴出涂敷液的噴嘴11A，涂敷部1B具有向另一側主面53噴出涂敷液的噴嘴11B。各噴嘴11A、11B是具有沿著基材5的寬度方向(與基材5的表面平行的方向，與上述搬運方向正交的方向)延伸的狹縫狀的噴出口的狹縫噴嘴。[0071 ]利用省略圖示的輸液機構向噴嘴11A、IIB輸送規定的涂敷液。噴嘴IIA、IIB所噴出的涂敷液是相同的，但是也可以是不同種類的。
[0072]噴嘴IlAUlB具有用于規定與狹縫狀的噴出口連接的流路的墊圈以及歧管等。另夕卜，在噴嘴11A、11B上還附設有用于調整各自的位置以及姿勢的未圖示的機構。從輸液機構供給至各噴嘴11A、IIB的涂敷液從狹縫狀的噴出口噴出到基材5的表面。
[0073]利用涂敷部1A、1B將涂敷液涂敷于基材5的主面的工序是涂敷膜形成方法中的涂敷工序的一個例子。
[0074]干燥裝置3A、3B對由搬運機構60向規定的搬運方向連續地搬運的基材5進行干燥處理。
[0075]干燥裝置3A設于涂敷部1A的下游側。干燥裝置3A使由涂敷部1A涂敷于基材5的一側主面51的漿狀的涂敷液41干燥。由此，在該一側主面51形成涂敷膜43。干燥裝置3B設于涂敷部1B的下游側。干燥裝置3B使由涂敷部1B涂敷于基材5的另一側主面53的漿狀的涂敷液41干燥。由此，在另一側主面53形成涂敷膜43。此外，由于干燥裝置3A、3B的結構是大致相同的，所以，以下主要針對干燥裝置3A的結構進行說明。
[0076]圖2是實施方式的干燥裝置3A的概略側視圖。干燥裝置3A具有多個干燥處理部31。在本例中，干燥裝置3A由3個干燥處理部31構成，但是也可以由單一的干燥處理部構成，還可以由2個或者4個以上的干燥處理部構成。在以下的說明中，在區分3個干燥處理部31的情況下，從搬運方向上游側依次設置為干燥處理部3 Ia、3 Ib、31 c。
[0077]如圖2所示，各干燥處理部31具有機殼部32、支撐輥33、涂敷面側加熱部35、背面側加熱部37以及輻射溫度計39。在圖2中通過剖視圖來圖示各機殼部32。
[0078]機殼部32是在內部形成有容置基材5的空間的構件，形成有用于使基材5進入的進入口 321以及用于使基材5從內部退出的退出口 323。在各機殼部32的內部附設有支撐輥33、涂敷面側加熱部35、背面側加熱部37以及輻射溫度計39。在各干燥處理部31中，在由機殼部32阻擋外部氣體的狀態下，利用涂敷面側加熱部35以及背面側加熱部37來加熱漿狀的涂敷液41。因此，能夠高效率地進行干燥處理。
[0079]相鄰的兩個機殼部32、32的退出口 323以及進入口321由連接部325連接。在本例中，3個機殼部32相互連接，由此形成有容置基材5的一個容置空間。但是，連接部325能夠省略，各機殼部32也可以是彼此分離的。
[0080]支撐輥33沿著基材5的寬度方向延伸，其外周表面與基材5接觸，由此來支撐該基材5。干燥裝置3A的各支撐輥33與未涂敷有漿狀的涂敷液的一側的主面(就干燥裝置3A而言，是另一側主面53)接觸。
[0081]在各機殼部32的內部各自配置有一個支撐輥33。各支撐輥33配置于不同的高度。更詳細地，中央的干燥處理部31b的支撐輥33配置于比其他的兩個支撐輥33高的位置。因此，如圖2所示，在干燥裝置3A中，以將涂敷有涂敷液的主面(就干燥裝置3A而言，是一側主面51)彎曲成凸狀(拱狀)的方式搬運基材5。
[0082]如以上所述，以凸狀搬運基材5，由此能夠不改變直線距離，而延長基材5的搬運距離。因此，干燥裝置3A能夠確保更長的干燥時間。
[0083]此外，在本例中，如圖1所示，干燥處理部31a的支撐輥33配置于比緊挨該干燥處理部31a的進入口 321的上游側的輔助輥63更高的位置。另外，干燥處理部31c的支撐輥33配置于比緊挨該干燥處理部31c的退出口 323的下游側的輔助輥63更高的位置。因此，各支撐輥33與基材5以成夾角Θ的方式接觸。此外，如圖2所示，夾角Θ是指，各支撐輥33的與基材5接觸的接觸面繞旋轉軸的角度。
[0084]<加熱部>
[0085]涂敷面側加熱部35由多個熱風供給部構成，該多個熱風供給部向涂敷有涂敷液41的一側的主面(就干燥裝置3A而言，是一側主面51)供給熱風，由此加熱涂敷液41。另外，背面側加熱部37由多個熱風供給部構成，該多個熱風供給部向涂敷有涂敷液41的一側的主面的相反側的主面(就干燥裝置3A而言，是另一側主面53)供給熱風來加熱基材5，由此間接地加熱涂敷液41。
[0086]此外，涂敷面側加熱部35以及背面側加熱部37也可以進行紅外加熱、感應加熱或者蒸汽加熱，來代替供給熱風。
[0087]在以下的說明中，在不區分涂敷面側加熱部35以及背面側加熱部37的情況下，僅稱為“加熱部”。利用加熱部對涂敷液41進行加熱處理的工序是涂敷膜形成方法中的加熱工序的一個例子。
[0088]此處，假設涂敷液41是鋰離子電池負極用材料，并使用PVDF(聚偏氟乙烯)作為該涂敷液41的粘合劑樹脂的情況。在這種情況下，基材5上的涂敷液41的溫度超過作為PVDF的再熔化溫度的135度，是造成偏析等的原因，這是不期望發生的。因此，為了使漿狀的涂敷液41處于不超過臨界溫度的規定的溫度，優選控制各加熱部來加熱涂敷液41。以下，將不超過該臨界溫度的規定的溫度稱為目標溫度。
[0089]干燥處理部31a是使基材5上的漿狀的涂敷液41升溫的區域。因此，干燥處理部31a的加熱部也可以供給溫度超過上述目標溫度的熱風。例如，在將含有PVDF的涂敷液41涂敷于基材5的情況下，涂敷面側加熱部35可以向基材5上的涂敷液41供給135度以上(例如200度)的熱風。由此，能夠使基材5上的涂敷液41快速地接近目標溫度。針對背面側加熱部37，同樣地也可以供給溫度超過臨界溫度的熱風。
[0090]另外，各干燥處理部31b、31c的加熱部向基材5的涂敷液41供給溫度比干燥處理部31a中加熱部所供給的熱風的溫度更低的熱風。例如，各干燥處理部31b、31c的涂敷面側加熱部35可以供給溫度與上述目標溫度相同的熱風。此外，在干燥處理部31a中，在無法使涂敷液41的溫度充分地升高到目標溫度的情況下，例如，在干燥處理部31b中也可以供給超過上述目標溫度的熱風。針對各干燥處理部31b、31c的背面側加熱部37也是同樣的。
[0091]輻射溫度計39由檢測紅外線的紅外輻射溫度計構成。輻射溫度計39在搬運方向上的加熱部的下游側的位置，以不接觸的方式測量基材5的特定部位的溫度。更詳細地，輻射溫度計39測量通過加熱部的加熱處理而輻射率未發生變動的部位(輻射率不變部位)的溫度。針對該輻射率不變部位的詳細情況，在后文描述。用輻射溫度計39測量輻射率不變部位的溫度的工序是涂敷膜形成方法中的溫度測量工序的一個例子。
[0092]輻射溫度計39在加熱部的位置(更詳細地，基材5上的被從涂敷面側加熱部35以及背面側加熱部37供給熱風的區域)與支撐輥33支撐基材5的位置之間的位置，測量基材5的輻射率不變部位的溫度。因此，輻射溫度計39能夠在涂敷液41的溫度因支撐輥33而變化之前測量溫度。因此，能夠以更高的精度確定由加熱部加熱的涂敷液41的溫度。
[0093]圖3是示出實施方式的控制部7與涂敷膜形成系統I的其他的結構的連接關系的框圖。控制部7構成為例如CPU71、R0M72、RAM73以及存儲裝置74經由總線75相互連接的一般計算機。R0M72保存有基本程序等。RAM73提供CPU71進行規定的處理而使用的工作區域。
[0094]存儲裝置74由閃存器或者硬盤等非易失性存儲器構成。在存儲裝置74中安裝有程序PGl ο CPU71按照該程序PGl中描述的順序動作，由此該CPU71發揮例如加熱控制部711的功會K。
[0095]程序PGl通常預先保存于存儲裝置74等的存儲器中來使用，但是也可以以記錄于⑶-ROM或者DVD-R0M、外部閃存器等記錄介質中的形式(程序產品)來提供(或者，通過網絡從外部服務器下載等來提供)，并以能夠追加或者更好的方式保存于存儲裝置74等存儲器中。此外，在控制部7中實現的功能模塊也可以是由專用邏輯電路等以硬件的方式實現的。
[0096]另外，操作輸入部76、顯示部77經由總線75與控制部7連接。操作輸入部76例如是由鍵盤以及鼠標構成的輸入設備，接受來自操作者的各種的操作(輸入命令或者各種數據等操作)。此外，操作輸入部76可以由各種開關、觸摸面板等構成。顯示部77是由顯示器或者燈等構成的顯示裝置，在CPU71的控制下顯示各種信息。
[0097]另外，設于干燥裝置3A、3B中的各涂敷面側加熱部35、各背面側加熱部37以及各輻射溫度計39經由總線75與控制部7連接。
[0098]各輻射溫度計39向控制部7發送表示測量出的溫度的溫度信息。于是，控制部7的加熱控制部711基于該溫度信息，控制位于對應的輻射溫度計39的上游側的加熱部(涂敷面側加熱部35以及背面側加熱部37)進行的加熱處理的強度。例如，加熱控制部711基于由干燥處理部31a的輻射溫度計39測量出的溫度，控制干燥處理部31a的加熱部進行的加熱處理的強度。同樣地，加熱控制部711基于由干燥處理部3 Ib、31 c的輻射溫度計39測量出的溫度，分別控制干燥處理部31b、31 c的加熱部所進行的加熱處理的強度。此外，加熱控制部711也可以基于由干燥處理部31b的輻射溫度計39測量出的溫度，既控制干燥處理部31b的加熱部，還控制上游側的干燥處理部31a的加熱部。
[0099]如此，在各干燥裝置3A、3B中設有3組加熱部以及輻射溫度計39。設置多組加熱部以及輻射溫度計39，基于各輻射溫度計39的測量結果來控制各加熱部，由此能夠利用各干燥處理部31進行適當的加熱處理。
[0100]此外，控制加熱處理的強度是指，基于輻射溫度計39的測量結果來增減加熱部賦予加熱對象的熱量。例如，就涂敷面側加熱部35而言，包括使供給至涂敷液41的熱風的溫度升降或者使供給的熱風的風量增減。
[0101]假定，在由特定的輻射溫度計39測量出的溫度低于規定的目標溫度的情況下，加熱控制部711使搬運方向上的該特定的輻射溫度計39的上游側的加熱部進行的加熱處理的強度增強。另外，在由特定的輻射溫度計39測量出的溫度高于規定的目標溫度的情況下，加熱控制部711使搬運方向上的該特定的輻射溫度計39的上游側的加熱部進行的加熱處理的強度減弱。通過這樣的控制，能夠適當地控制在各部分的加熱處理的強度。此外，作為該控制基準的目標溫度，可以是每個輻射溫度計39彼此不同，或者，也可以是彼此一致的。
[0102]另外，加熱控制部711也可以僅控制加熱部中的涂敷面側加熱部35，或者僅控制背面側加熱部37。進一步地，加熱控制部711還可以是僅對構成涂敷面側加熱部35或者背面側加熱部37的多個熱風供給部中的一部分進行控制。
[0103]如以上所述，控制部7的加熱控制部711基于由輻射溫度計39測量出的溫度來控制加熱部進行的加熱處理的強度的工序是涂敷膜形成方法中的控制工序的一個例子。
[0104]通知部78經由總線75與控制部7連接。通知部78由揚聲器、燈或者顯示器等構成，在由各輻射溫度計39測量出的基材5的溫度超過規定的基準溫度的情況下，向外部通知該警告。該規定的基準溫度是指，例如超過目標溫度的溫度或者超過臨界溫度的溫度。這樣，設置通知部78，由此當涂敷液41達到異常溫度時，通過將該異常時態通知操作者，能夠迅速應對該異常事態。此外，也可以使顯示部77發揮通知部的功能。
[0105]<關于溫度測量部位>
[0106]以下，針對各輻射溫度計39測量溫度的基材5上的溫度測量部位進行說明。
[0107]首先，針對在干燥裝置3A中的溫度測量部位進行說明。在本例中，如圖1以及圖2所示，干燥裝置3A中附設的各輻射溫度計39測量基材5的另一側主面53的表面溫度。
[0108]圖4是示出在實施方式的干燥裝置3A中搬運的基材5的另一側主面53的概略俯視圖。在經過干燥裝置3A的基材5的另一側主面53的相反側的一側主面51上，涂敷有漿狀的涂敷液41。在圖示的例子中，在一側主面51中的除了寬度方向上的兩端部以外的內側區域，涂敷有涂敷液41。另一方面，基材5的另一側主面53與其相反側的一側主面51不同，是未涂敷有涂敷液41的非涂敷部位。
[0109]通過涂敷面側加熱部35或者背面側加熱部37的加熱處理，漿狀的涂敷液41的溶劑蒸發。因此，涂敷液41的表面輻射率可能會產生很大的變動。與此相對，由于另一側主面53是非涂敷部位，所以難以因加熱處理導致輻射率變動。因加熱處理導致的非涂敷部位的輻射率的變動至少小于因加熱處理導致的涂敷液41的表面輻射率的變動。另外，由于基材5是金屬箔等比較薄的構件，所以在干燥處理后能夠將另一側主面53的表面溫度視為涂敷液41的溫度。
[0110]根據以上的觀點，將該另一側主面53的特定部位作為輻射率不變部位531，用輻射溫度計39測量該輻射率不變部位531的溫度。通過這種方式，能夠以不接觸的方式高精度地確定基材5的一側主面51上的涂敷液41的溫度。此外，輻射率不變部位531的輻射率(S卩，基材5本身的輻射率)能夠通過例如用熱電偶實際測量該部位的溫度，或者根據基材5的材質等推斷來確定。
[0111]接著，針對在干燥裝置3B中的溫度測量部位進行說明。如圖1所示，干燥裝置3B中附設的各輻射溫度計39測量基材5的一側主面51的表面溫度。
[0112]圖5是示出在實施方式的干燥裝置3B中搬運的基材5的一側主面51的概略俯視圖。干燥裝置3B使涂敷于基材5的另一側主面53的涂敷液41干燥，但是在經過干燥裝置3B的基材5的一側主面51上形成有已經由干燥裝置3A進行了干燥處理后的涂敷液41的薄膜(涂敷膜 43)。
[0113]在這樣的基材5的一側主面51上未形成涂敷膜43的兩端部是未涂敷有涂敷液41的非涂敷部位，是輻射率幾乎不發生變動的部位。因此，將基材5的兩端部中的一個部位作為輻射率不變部位511，利用各輻射溫度計39測量該輻射率不變部位511的溫度。通過這種方式，能夠以不接觸的方式高精度地確定涂敷于另一側主面53的涂敷液41的溫度。
[0114]另外，形成有涂敷膜43的涂敷膜形成部位是涂敷液41的溶劑已經蒸發了的狀態的固狀部分。因此，該涂敷膜形成部位變成輻射率難以發生變動的部位。因此，也可以將該形成有涂敷膜43的部位作為輻射率不變部位513，利用各輻射溫度計39測量該輻射率不變部位513的溫度。此外，涂敷膜43的輻射率不變部位513的輻射率能夠通過例如用熱電偶實際測量該部位，或者根據涂敷液41的成分等推斷來確定。測量輻射率不變部位513的溫度，由此能夠以不接觸的方式高精度地確定涂敷于另一側主面53的涂敷液41的溫度。
[0115]<2.變形例 >
[0116]以上，針對實施方式進行了說明，但是本發明并不限定于如上述的實施方式，而是能夠進行各種各樣的變形。
[0117]例如，在上述實施方式中，在各干燥處理部31中設有涂敷面側加熱部35以及背面側加熱部37作為加熱部。但是也可以僅設置其中的一者。
[0118]另外，在上述實施方式的各干燥裝置3A、3B中，改變配置各支撐輥33的高度，由此以將基材5彎曲成凸狀的方式搬運該基材5。但是，也可以將各支撐輥33配置于相同的高度，由此以筆直的狀態搬運基材5。
[0119]另外，加熱控制部711也可以基于由各輻射溫度計39測量出的溫度，既控制搬運方向上的上游側的加熱部，又控制搬運方向上的下游側的加熱部。
[0120]另外，在上述實施方式的涂敷膜形成系統I中在基材5的兩主面上形成有涂敷膜43。但是，本發明對僅在單側主面形成涂敷膜43的涂敷膜形成系統也是有效的。
[0121]另外，本發明的應用范圍不僅限定于面向鋰離子電池的電極制造，也能夠應用于面向其他電池的電極制造。
[0122]另外，在上述各實施方式以及各變形例中說明了的各結構只要不相互矛盾，就能夠適當組合或者省略。
[0123]雖然詳細地說明了本發明，但是上述的說明在全部的方面都是例示性的，本發明并不限定于此。未舉例示出的無數的變形例應理解為不脫離本發明的范圍就可以想到的。
【主權項】
1.一種干燥裝置，使涂敷于被搬運機構連續搬運的基材的兩個主面中的至少一側主面上的漿狀的涂敷液干燥，該搬運機構一邊從第一輥送出所述基材，一邊用第二輥卷收所述基材， 該干燥裝置具有: 加熱部，對涂敷于所述基材上的涂敷液進行加熱處理， 輻射溫度計，在搬運方向上的所述加熱部的下游側的位置，對所述基材上的輻射率不會因所述加熱處理變動的輻射率不變部位的溫度進行測量，以及 控制部，基于所述輻射溫度計測量出的溫度，控制所述加熱處理的強度。2.如權利要求1所述的干燥裝置，其中，所述輻射溫度計在所述基材上的未涂敷有所述涂敷液的非涂敷部位或者形成有已干燥的所述涂敷液的涂敷膜的涂敷膜形成部位測量溫度。3.如權利要求1或者2所述的干燥裝置，其中， 該干燥裝置還具有機殼部，該機殼部形成有用于使所述基材進入內部的進入口以及用于使所述基材從內部退出的退出口， 所述加熱部以及所述輻射溫度計容置于所述機殼部內。4.如權利要求1或者2所述的干燥裝置，其中，在所述輻射溫度計測量出的所述輻射率不變部位的溫度比目標溫度低的情況下，所述控制部使所述加熱部進行的所述加熱處理的強度增強，在所述輻射率不變部位的溫度比所述目標溫度高的情況下，所述控制部使所述加熱部進行的所述加熱處理的強度減弱。5.如權利要求4所述的干燥裝置，其中，所述加熱部具有熱風供給部，該熱風供給部向所述基材吹送溫度比所述目標溫度高的熱風，來加熱所述涂敷液。6.如權利要求1或者2所述的干燥裝置，其中，所述加熱部以及所述輻射溫度計沿著所述基材的搬運路徑至少排列有一組以上。7.如權利要求1或者2所述的干燥裝置，其中， 該干燥裝置還具有支撐輥，該支撐輥配置于所述加熱部的下游側，支撐所述基材的另一側主面， 所述輻射溫度計在所述加熱部與所述支撐輥之間的位置，測量所述輻射率不變部位的溫度。8.如權利要求1或者2所述的干燥裝置，其中， 該干燥裝置還具有多個排列于不同的高度的支撐輥， 所述多個支撐輥以使所述基材呈向所述一側主面側凸出的凸狀的方式支撐該所述基材。9.如權利要求1或者2所述的干燥裝置，其中， 該干燥裝置還具有通知部，在由所述輻射溫度計測量出的所述輻射率不變部位的溫度超過規定的基準溫度的情況下，該通知部向外部發出通知。10.一種涂敷膜形成系統，在基材上形成涂敷膜， 該涂敷膜形成系統具有: 搬運機構，用第二輥卷收從第一輥送出的基材，來連續搬運所述基材， 涂敷部，向被所述搬運機構搬運的基材的兩個主面中的至少一側主面涂敷漿狀的涂敷液，以及 權利要求1或者2所述的干燥裝置。11.一種干燥方法，該干燥方法使涂敷于通過一邊從第一輥送出基材一邊用第二輥卷收而被連續搬運的所述基材的兩個主面中的至少一側主面上的漿狀的涂敷液干燥， 包括: 加熱工序，對涂敷于所述基材上的涂敷液進行加熱處理， 溫度測量工序，用輻射溫度計對在所述加熱工序中已被加熱的所述基材中的輻射率不會因所述加熱處理變動的輻射率不變部位的溫度進行測量，以及 控制工序，基于所述輻射溫度計測量出的溫度，控制所述加熱處理的強度。12.一種涂敷膜形成方法，在基材上形成涂敷膜， 包括: 搬運工序，用第二輥卷收從第一輥送出的基材，來連續搬運基材， 涂敷工序，在所述搬運工序中連續搬運的基材的兩個主面中的至少一側主面上涂敷漿狀的涂敷液， 加熱工序，對涂敷于所述基材上的涂敷液進行加熱處理， 溫度測量工序，用輻射溫度計對在所述加熱工序中已被加熱的所述基材中的輻射率不會因所述加熱處理變動的輻射率不變部位的溫度進行測量，以及 控制工序，基于所述輻射溫度計測量出的溫度，控制所述加熱處理的強度。
【文檔編號】B05D3/04GK106000822SQ201610183321
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年3月28日
【發明人】山越潤, 山越潤一, 陸井秀晃
【申請人】株式會社思可林集團