用于從氣流中除去氣態單質汞的方法和裝置的制造方法
【專利摘要】本發明涉及一種從氣流中除去氣態單質汞的方法和裝置和涉及進行該方法的裝置。該裝置包括用于接收氣流的第一清洗塔(2)，用于接收來自于第一清洗塔(2)的經一次加工的氣流(5)的第二清洗塔(6)，和用于接收來自于第二清洗塔(6)的經兩次加工的氣流(23)和配置以排出經清潔的氣流(12)的第三清洗塔(9)。
【專利說明】用于從氣流中除去氣態單質汞的方法和裝置發明領域
[0001]本發明涉及獨立權利要求1的前序部分所定義的從氣流中除去氣態單質汞的方法。
[0002]本發明還涉及獨立權利要求14的前序部分所定義的從氣流中除去氣態單質汞的
目.ο
[0003]本發明還涉及進行權利要求27所定義的方法的裝置。
[0004]對于在硫化物礦山煅燒中所產生的氣體所產生的硫化物酸中低的汞含量的需求已經增加。在過去，酸中lmg/kg的萊含量被認為是令人滿意的，但是現在，低于0.2mg/kg的汞含量逐漸變成更經常的需要。所以，重要的是開發氣體清潔方法和裝置，用于從硫化物礦山煅燒所產生的氣體中除去和回收汞，其滿足目前的需求。但是，所提出的方法和裝置還可以用于從其他氣體中除去和回收汞。
[0005]在冶金領域中，一種從氣體中除去萊的方法被稱作“Boliden-Norzink方法”。這種方法的實施方案描述在例如公開文獻US3849537，US4233274和US4640751中。
[0006]公開文獻US4233274提出了一種從含有氣態單質汞的氣體中萃取汞的方法，其包括在閉路中，用含有0.l-300mmol/L汞(II)離子的水溶液處理所述氣體，并且至少兩倍于該離子含量能夠與汞(II)離子形成可溶性絡合物，其后回收溶液中所吸收的汞，并且將該溶液再循環。
[0007]通過在Boliden-Norzink方法之后加入砸過濾器，萊含量可以降低到較低的值。
[0008]公開文獻US3786619提出了一種凈化含有氣態汞的氣體的方法。將含汞的氣體送過大量凈化材料，該凈化材料含有作為活性成分的組成為砸，硫化砸或者其他砸化合物或者其混合物的材料。
[0009]公開文獻US2003/099585提出了一種基本上完全消除了氣體例如含有SO2的煅燒爐氣體中殘留的痕量汞的方法，并且其已經在氯化物清洗機中處理來除去單質Hg，特征在于將該氣體引入洗滌器設備中，在這里將其用清洗溶液清洗，以使得氣體中任何含量的氣態HgCl2被清洗溶液吸收，該氣體在洗滌器中經歷了紊流和機械作用，來將粒子或小滴中存在的任何Hg，HgCl2和Hg2Cl2和Hg的其他化合物物理混合在一起，形成更大的聚集體或者團塊，并且將因此形成的聚集體或者團塊和存在的較大的粒子與所述氣體分離，然后收集和除去。所處理的氣體可以帶到具有砸作為活性化合物的過濾器，來吸收任何剩余的氣態單質Hg。
[0010]但是，砸的價格近年來顯著上升。這使得砸過濾器是昂貴的選擇，因為過濾器物質必須定期進行更換。
[0011 ]公開文獻GB2098186提出了從帶有SO2的氣體中除去Hg。
[0012]發明目標
[0013]本發明的目標是提供一種有效的方法和裝置，用于從氣流中除去氣態單質汞。
[0014]發明概述
[0015]本發明的方法特征在于獨立權利要求1的定義。
[0016]該方法優選的實施方案是從屬權利要求2-13所定義的。
[0017]本發明的裝置相應的特征在于獨立權利要求14的定義。
[0018]該裝置優選的實施方案是從屬權利要求15-26定義的。
[0019]用于進行本發明方法的裝置相應的特征在于權利要求27的定義。
[0020]進行所述方法的裝置優選的實施方案是從屬權利要求28-39定義的。
[0021 ]本發明基于現有的Boliden Norzink方法，但是提供了一種用于洗滌領域的改進的方法和裝置。
[0022]該方法和裝置使得所述方法中形成甘汞蒸氣的風險最小化。
[0023]該方法和裝置提供了有效除去汞，而無需使用過濾器例如含砸過濾器。
[0024]附圖列表
[0025]在下面，本發明將參考附圖來更詳細地描述，在其中
[0026]圖1是所述裝置第一實施方案的圖示，
[0027]圖2是所述裝置第二實施方案的圖示，
[0028]圖3是所述裝置第三實施方案的圖示，
[0029 ]圖4是所述裝置第四實施方案的圖示，
[0030]圖5是所述裝置第五實施方案的圖示，和
[0031]圖6是所述裝置第六實施方案的圖示。
【具體實施方式】
[0032]所述圖顯示了從氣流中除去氣態單質汞的方法和裝置的例子。
[0033]首先，將更詳細地描述從氣流中除去氣態單質汞(Hg'g))的方法以及該方法的一些優選的實施方案和變體。
[0034]該方法包括將氣流I供入第一清洗塔2。
[0035]該方法包括用第一清洗溶液3在第一清洗塔2中處理氣流I來形成氣流I的經一次加工的氣流5，該第一清洗溶液3在第一封閉系統4中循環通過第一清洗塔2，并且其包含汞
(II)離子和可能另外的至少是這個量的兩倍的選自氯，溴，碘，氰根和硫氰根離子的離子。
[0036]在第一清洗塔2中進行的方法的該第一階段中，除去了所述氣體中大部分的汞蒸氣(Hg。)。第一清洗溶液3中汞(II)離子(Hg2+)含量可以低于對于所謂的Boliden-Norzink方法通常推薦的最小含量大約1-大約2g/L，例如小于大約1.5g/L，但是可以高于大約0.1-大約0.3g/L的某些最小含量，例如大于大約0.2g/L。這將降低在氣體中形成氯化汞(Hg2Cl2)霧氣或者甘萊霧氣的風險。
[0037]在第一清洗塔2中進行的所述方法的該第一清洗階段中的主反應如下:
[0038]Hg°(g)+HgCr—(2+n)->Hg2Cl2(s)+n Cl—，其中O彡η彡2
[0039]該方法包括將經一次加工的氣流5從第一清洗塔2供入第二清洗塔6。
[0040]該方法包括將經一次加工的氣流5在第二清洗塔6中用第二清洗溶液7處理，來形成經一次加工的氣流5的經兩次加工的氣流23，該第二清洗溶液7在第二封閉系統8中循環通過第二清洗塔6，并且其包含汞(II)離子的濃度高于第一清洗溶液3，例如大于大約1-大約2g/L，例如大于大約1.5g/L的汞(II)離子，和可能的另外至少這個量的兩倍的選自氯，溴，碘，氰根和硫氰根離子的離子。
[0041]在該方法的該第二階段，汞蒸氣(Hgti)的量將降低到非常低的值。
[0042]在第二清洗塔中進行的所述方法的該第二清洗階段的主反應如下:
[0043]Hg°(g)+HgCr—(2+n)->Hg2Cl2(s)+n Cl—，其中O彡η彡2
[0044]該方法包括將經兩次加工的氣流23從第二清洗塔6供入第三清洗塔9。
[0045]該方法包括將經兩次加工的氣流23在第三清洗塔9中用第三清洗溶液10處理，來形成經兩次加工的氣流(23)的經清潔的氣流(12)，該第三清洗溶液1在第三封閉系統11中循環通過第三清洗塔9，并且包含汞(II)離子濃度低于第一清洗溶液3，例如低于大約0.1-大約0.3g/L，例如小于大約0.2g/L的汞(II)離子，和可能另外至少這個量的兩倍的選自氯，溴，碘，氰根和硫氰根離子的離子。
[0046]在第三清洗塔9中進行的所述方法的這個第三階段中，將第二清洗塔6中形成的氯化汞(Hg2Cl2)蒸氣從所述氣體中除去。重要地是避免將Hg2+還原成Hg°，并且這可以通過仔細控制第三清洗溶液10中的Hg濃度來實現，其不允許超過大約10mg/L的某個最大含量。
[0047]在第三清洗塔9中進行的所述方法的該第三清洗階段的主反應如下:
[0048]HgCl2(g)+H20->HgCl2(a)
[0049]該方法包括將經清潔的氣流12從第三清洗塔9中排出。
[0050]該方法可以包括將含有汞(II)離子的另外的清洗溶液13從槽裝置14供入在第一封閉系統4中循環的第一清洗溶液3中。
[0051]該方法可以包括從在第一封閉系統4中循環的第一清洗溶液3中除去甘汞15。
[0052]該方法可以包括將在第二封閉系統8中循環的第二清洗溶液7的一部分16從第二封閉系統8供入在第一封閉系統4中循環的第一清洗溶液3。
[0053]該方法可以包括將含有汞(II)離子的另外的清洗溶液13從槽裝置14供入在第二封閉系統8中循環的第二清洗溶液7中。
[0054]該方法可以包括從在第三封閉系統11中循環的第三清洗溶液10中濾出汞。
[0055]該方法可以包括將在第三封閉系統11中循環的第三清洗溶液21供給至加工步驟(圖中未示出)，其是在本文所述的方法之前進行的。通過這樣的供給，第三清洗溶液21的量將降低，并且將更容易保持該第三清洗溶液21的最佳化學組成。
[0056]在所述方法的一種實施方案中，例如在圖4-6所示的實施方案中，該方法包括提供第一清洗塔2，其包括第一入口(未用附圖標記進行標記)，用于將氣流I導入第一清洗塔2，第一出口(未用附圖標記進行標記)，用于將經一次加工的氣流5從第一清洗塔2導出，第一填料體24，第一噴嘴25，用于將第一清洗溶液3注入到第一填料體24上，和第一小滴分離器26，用于防止第一清洗溶液3被離開第一清洗塔2的經一次加工的氣流5所夾帶。在這個實施方案中，第一清洗溶液3是在第一清洗塔2的底部(未用附圖標記進行標記)收集的，并且第一清洗溶液3由此在第一封閉系統4中循環。
[0057]在所述方法的一種實施方案中，例如在圖4-6所示的實施方案中，所述方法包括提供第二清洗塔6，其包括第二入口(未用附圖標記進行標記)，用于將經一次加工的氣流5導入第二清洗塔6，第二出口(未用附圖標記進行標記)，用于將經兩次加工的氣流23從第二清洗塔6中導出，第二填料體27，第二噴嘴28，用于將第二清洗溶液7注入到第二填料體27上，和第二小滴分離器29，用于防止第二清洗溶液7被離開第二清洗塔6的經兩次加工的氣流23所夾帶。在這種實施方案中，第二清洗溶液7是在第二清洗塔6的底部(未用附圖標記進行標記)收集的，并且第二清洗溶液7由此在第二封閉系統8中循環。
[0058]在所述方法的一種實施方案中，例如圖4-6所示的實施方案中，所述方法包括提供第三清洗塔9，其包括第三入口(未用附圖標記進行標記)，用于將經兩次加工的氣流23導入第三清洗塔9中，第三出口(未用附圖標記進行標記)，用于將經清潔的氣流12從第三清洗塔9導出，第三填料體30，第三噴嘴31，用于將第三清洗溶液10注入到第三填料體30上，和第三小滴分離器32，用于防止第三清洗溶液10被離開第三清洗塔9的經清潔的氣流12所夾帶。在這個實施方案中，第三清洗溶液10是在第三清洗塔9底部(未用附圖標記進行標記)收集的，并且第三清洗溶液10由此在第三封閉系統11中循環。
[0059]在該方法中，該經清潔的氣體12可以帶至過濾器33，用于吸收任何剩余的氣態單質汞。可以例如使用含有砸和/或碳的過濾器33。
[0060]該方法可以包括依靠主動過濾器(activefilter)34，從在第三封閉系統11中循環的第三清洗溶液10中除去汞。
[0061]下面將更詳細地描述用于從氣流中除去氣態單質汞(Η?ω)的裝置和該裝置的一些優選的實施方案和變體。
[0062]該裝置包括第一清洗塔2，用于接收氣流I。
[0063]配置第一清洗塔2來用第一清洗溶液3處理氣流I，第一清洗溶液3在第一封閉系統4中循環通過第一清洗塔2且包含汞(II)離子和可能的另外至少這個量兩倍的選自氯，溴，碘，氰根和硫氰根離子的離子。第一清洗溶液3中汞(II)離子(Hg2+)含量可以低于對所謂的13011(1611-1'10^;[111^方法通常推薦的最小含量大約1-大約28凡，例如小于大約1.5g/L，但是可以高于大約0.1-大約0.3g/L的某一最小含量，例如大于大約0.2g/L。這將降低在氣體中形成氯化汞(Hg2Cl2)霧氣或者甘汞霧氣的風險。
[0064]在該第一清洗階段中的主反應如下:
[0065]HgQ(g)+HgCln—(2+n)->Hg2Cl2(s)+n Cl—，其中O彡η彡2
[0066]該裝置包括第二清洗塔6，用于接收來自于第一清洗塔2的經一次加工的氣流5。
[0067]配置第二清洗塔6來將經一次加工的氣流5用第二清洗溶液7處理，該第二清洗溶液7在第二封閉系統8中循環通過第二清洗塔6，并且其包含汞(II)離子的濃度高于第一清洗溶液3，例如大于大約1-大約2g/L，例如大于大約1.5g/L的汞(II)離子，和其包含可能的另外至少這個量的兩倍的選自氯，溴，碘，氰根和硫氰根離子的離子。
[0068]在該第二清洗階段的主反應如下:
[0069]HgQ(g)+HgCln—(2+n)->Hg2Cl2(s)+n Cl—，其中O彡η彡2
[0070]該裝置包括第三清洗塔9，用于接收第二清洗塔6中的經兩次加工的氣流23。
[0071]配置該第三清洗塔9來將經兩次加工的氣流23用第三清洗溶液10處理，該第三清洗溶液10在第三封閉系統11中循環通過第三清洗塔9，并且包含汞(II)離子濃度低于第一清洗溶液3，例如低于大約0.1-大約0.3g/L，例如小于大約0.2g/L的汞(II)離子，和其包含可能另外至少這個量的兩倍的選自氯，溴，碘，氰根和硫氰根離子的離子。
[0072]在該第三清洗階段的主反應如下:
[0073]HgCl2(g)+H20_>HgCl2(a)
[0074]配置第二清洗塔6來將經清潔的氣流12從第三清洗塔9排出。
[0075]該裝置可以包括第一供給裝置17，用于將含有汞(II)離子的另外的清洗溶液13從槽裝置14供入在第一封閉系統4中循環的第一清洗溶液3。
[0076]該裝置可以包括第一除去裝置18，用于從在第一封閉系統4中循環的第一清洗溶液3中除去甘汞15。
[0077]該裝置可以包括第二供給裝置19，用于將在第二封閉系統8中循環的第二清洗溶液7的一部分16供入在第一封閉系統4中循環的第一清洗溶液3中。
[0078]該裝置可以包括第三供給裝置20，用于將含有汞(II)離子的另外的清洗溶液13從槽裝置14供入在第二封閉系統8中循環的第二清洗溶液7。
[0079]該裝置可以包括第四供給裝置22，用于將在第三封閉系統11中循環的第三清洗溶液21供入在本文所述方法之前進行的加工步驟(圖中未示出)。通過這樣的供給，第三清洗溶液21的量將降低，并且將更容易保持第三清洗溶液21的最佳化學組成。
[0080]在該裝置的一種實施方案中，例如在圖4-6所示的實施方案中，第一清洗塔2包括第一入口(未用附圖標記進行標記)，用于將氣流I導入第一清洗塔2，第一出口(未用附圖標記進行標記)，用于將經一次加工的氣流5從第一清洗塔2導出，第一填料體24，第一噴嘴25，用于將第一清洗溶液3注入到第一填料體24上，和第一小滴分離器26，用于防止第一清洗溶液3被離開第一清洗塔2的經一次加工的氣流5所夾帶。在這個實施方案中，配置第一清洗溶液3來在第一清洗塔2的底部(未用附圖標記進行標記)收集，且第一清洗溶液3由此配置來在第一封閉系統4中循環。
[0081]在所述裝置的一種實施方案中，例如在圖4-6所示的實施方案中，第二清洗塔6包括第二入口(未用附圖標記進行標記)，用于將經一次加工的氣流5導入第二清洗塔6，第二出口(未用附圖標記進行標記)，用于將經兩次加工的氣流23從第二清洗塔6導出，第二填料體27，第二噴嘴28，用于將第二清洗溶液7注入到第二填料體27上，和第二小滴分離器29，用于防止第二清洗溶液7被離開第二清洗塔6的經兩次加工的氣流23所夾帶。在這種實施方案中，配置第二清洗溶液7來在第二清洗塔6底部(未用附圖標記進行標記)收集，并且第二清洗溶液7由此配置來在第二封閉系統8中循環。
[0082]在所述裝置的一種實施方案中，例如在圖4-6所示的實施方案中，第三清洗塔9包括第三入口(未用附圖標記進行標記)，用于將經兩次加工的氣流23導入第三清洗塔9，第三出口(未用附圖標記進行標記)，用于將經清潔的氣流12從第三清洗塔9導出，第三填料體30，第三噴嘴31，用于將第三清洗溶液10注入到第三填料體30上，和第三小滴分離器32，用于防止第三清洗溶液10被離開第三清洗塔9的經清潔的氣流12所夾帶。在這種實施方案中，配置第三清洗溶液10來在第三清洗塔9底部(未用附圖標記進行標記)收集，并且第三清洗溶液1由此配置來在第三封閉系統11中循環。
[0083]該裝置可以包括過濾器33，用于吸收經清潔的氣體12中任何剩余的氣態單質汞。過濾器33可以包含砸和/或碳。
[0084]第三封閉系統11可以具有主動過濾器34，來從在第三封閉系統11中循環的第三清洗溶液10中除去汞。
[0085]圖6所示裝置的第一封閉系統4還包括第一栗35，用于將第一清洗溶液3在第一封閉系統4中循環。
[0086]圖6所示裝置的第二封閉系統8還包括第二栗36，用于將第二清洗溶液7在第二封閉系統8中循環。
[0087]圖6所示裝置的第三封閉系統11還包括第三栗37，用于將第三清洗溶液10在第三封閉系統11中循環。
[0088]接下來將更詳細地描述用于進行從氣流中除去氣態單質汞的方法的裝置以及進行所述方法的裝置的一些優選的實施方案和變體。
[0089]進行所述方法的裝置包括第一清洗塔2，用于接收氣流I。
[0090]配置第一清洗塔2來用第一清洗溶液3處理氣流I，第一清洗溶液3在第一封閉系統4中循環通過第一清洗塔2且包含汞(II)離子和可能的另外至少這個量兩倍的選自氯，溴，碘，氰根和硫氰根離子的離子。第一清洗溶液3中汞(II)離子(Hg2+)含量可以低于對所謂的13011(1611-1'10^;[111^方法通常推薦的最小含量大約1-大約28凡，例如小于大約1.5g/L，但是可以高于大約0.1-大約0.3g/L的某一最小含量，例如大于大約0.2g/L。這將降低在氣體中形成氯化汞(Hg2Cl2)霧氣或者甘汞霧氣的風險。
[0091 ]在這個第一清洗階段中的主反應如下:
[0092]Hg°(g)+HgCr—(2+n)->Hg2Cl2(s)+n Cl—，其中O彡η彡2
[0093]進行所述方法的裝置包括第二清洗塔6，用于接收來自于第一清洗塔2的經一次加工的氣流5。
[0094]配置第二清洗塔6來將經一次加工的氣流5用第二清洗溶液7處理，該第二清洗溶液7在第二封閉系統8中循環通過第二清洗塔6，并且其包含的汞(II)離子的濃度高于第一清洗溶液3，例如大于大約1-大約2g/L，例如大于大約1.5g/L的汞(II)離子，和其含有可能的另外至少這個量的兩倍的選自氯，溴，碘，氰根和硫氰根離子的離子。
[0095]在該第二清洗階段的主反應如下:
[0096]HgQ(g)+HgCln—(2+n)->Hg2Cl2(s)+n Cl—，其中O彡η彡2
[0097]進行所述方法的裝置包括第三清洗塔9，用于接收第二清洗塔6中的經兩次加工的氣流23。
[0098]配置該第三清洗塔9來將經兩次加工的氣流23用第三清洗溶液10處理，該第三清洗溶液10在第三封閉系統11中循環通過第三清洗塔9，并且其包含的汞(II)離子濃度低于第一清洗溶液3，例如低于大約0.1-大約0.3g/L，例如小于大約0.2g/L的汞(II)離子，和其含有可能另外至少這個量的兩倍的選自氯，溴，碘，氰根和硫氰根離子的離子。
[0099]在該第三清洗階段的主反應如下:
[0100]HgCl2(g)+H20->HgCl2(a)
[0101 ]配置第二清洗塔6來將經清潔的氣流12從第三清洗塔9排出。
[0102]進行所述方法的裝置可以包括第一供給裝置17，用于將含有汞(II)離子的另外的清洗溶液13從槽裝置14供入在第一封閉系統4中循環的第一清洗溶液3。
[0103]進行所述方法的裝置可以包括第一除去裝置18，用于從在第一封閉系統4中循環的第一清洗溶液3中除去甘汞15。
[0104]進行所述方法的裝置可以包括第二供給裝置19，用于將在第二封閉系統8中循環的第二清洗溶液7的一部分16供入在第一封閉系統4中循環的第一清洗溶液3中。
[0105]進行所述方法的裝置可以包括第三供給裝置20，用于將含有汞(II)離子的另外的清洗溶液13從槽裝置14供入在第二封閉系統8中循環的第二清洗溶液7。
[0106]進行所述方法的裝置可以包括第四供給裝置22，用于將在第三封閉系統11中循環的第三清洗溶液21供入在本文所述方法之前進行的加工步驟(圖中未示出)。通過這樣的供給，第三清洗溶液21的量將降低，并且將更容易保持第三清洗溶液21的最佳化學組成。
[0107]在進行所述方法的裝置的一種實施方案中，例如在圖4-6所示的實施方案中，第一清洗塔2包括第一入口(未用附圖標記進行標記)，用于將氣流I導入第一清洗塔2，第一出口(未用附圖標記進行標記)，用于將經一次加工的氣流5從第一清洗塔2導出，第一填料體24，第一噴嘴25，用于將第一清洗溶液3注入到第一填料體24上，和第一小滴分離器26，用于防止第一清洗溶液3被離開第一清洗塔2的經一次加工的氣流5所夾帶。在這個實施方案中，配置第一清洗溶液3來在第一清洗塔2的底部(未用附圖標記進行標記)收集，和第一清洗溶液3由此配置來在第一封閉系統4中循環。
[0108]在進行所述方法的裝置的一種實施方案中，例如在圖4-6所示的實施方案中，第二清洗塔6包括第二入口(未用附圖標記進行標記)，用于將經一次加工的氣流5導入第二清洗塔6，第二出口(未用附圖標記進行標記)，用于將經兩次加工的氣流23從第二清洗塔6導出，第二填料體27，第二噴嘴28，用于將第二清洗溶液7注入到第二填料體27上，和第二小滴分離器29，用于防止第二清洗溶液7被離開第二清洗塔6的經兩次加工的氣流23所夾帶。在這種實施方案中，配置第二清洗溶液7來在第二清洗塔6底部(未用附圖標記進行標記)收集，并且第二清洗溶液7由此配置來在第二封閉系統8中循環。
[0109]在進行所述方法的裝置的一種實施方案中，例如在圖4-6所示的實施方案中，第三清洗塔9包括第三入口(未用附圖標記進行標記)，用于將經兩次加工的氣流23導入第三清洗塔9，第三出口(未用附圖標記進行標記)，用于將經清潔的氣流12從第三清洗塔9導出，第三填料體30，第三噴嘴31，用于將第三清洗溶液10注入到第三填料體30上，和第三小滴分離器32，用于防止第三清洗溶液10被離開第三清洗塔9的經清潔的氣流12所夾帶。在這種實施方案中，配置第三清洗溶液1來在第三清洗塔9底部(未用附圖標記進行標記)收集，并且第三清洗溶液1由此配置來在第三封閉系統11中循環。
[0110]進行所述方法的裝置可以包括過濾器33，用于吸收經清潔的氣體12中任何剩余的氣態單質汞。過濾器33可以包含砸和/或碳。
[0111]第三封閉系統11可以具有主動過濾器34，來從在第三封閉系統11中循環的第三清洗溶液10中除去汞。
[0112]圖6所示的進行所述方法的裝置的第一封閉系統4還包括第一栗35，用于將第一清洗溶液3在第一封閉系統4中循環。
[0113]圖6所示的進行所述方法的裝置的第二封閉系統8還包括第二栗36，用于將第二清洗溶液7在第二封閉系統8中循環。
[0114]圖6所示的進行所述方法的裝置的第三封閉系統11還包括第三栗37，用于將第三清洗溶液10在第三封閉系統11中循環。
[0115]對本領域技術人員來說很顯然隨著技術的進步，本發明的基本理念可以以不同方式執行。本發明和它的實施方案因此不限于上面的例子，但是它們可以在權利要求的范圍內變化。
【主權項】
1.用于從氣流中除去氣態單質汞的方法，其中所述方法包括: (I)將所述氣流(I)供入第一清洗塔(2)中， (ii)用第一清洗溶液(3)在第一清洗塔(2)中處理所述氣流(I)，以形成氣流(I)的經一次加工的氣流(5)，所述第一清洗溶液(3)在第一封閉系統(4)中循環通過第一清洗塔(2)并且包含汞(II)離子， (i i i)將經一次加工的氣流(5)從第一清洗塔(2)供入第二清洗塔(6)，( i V)用第二清洗溶液(7)在第二清洗塔(6)中處理經一次加工的氣流(5)，形成經一次加工的氣流(5)的經兩次加工的氣流(23)，所述第二清洗溶液(7)在第二封閉系統(8)中循環通過第二清洗塔(6)并且其包含的汞(II)離子濃度高于第一清洗溶液(3)， (V)將經兩次加工的氣流(23)從第二清洗塔(6)供入第三清洗塔(9)， (vi)用第三清洗溶液(10)在第三清洗塔(9)中處理經兩次加工的氣流(23)，來形成經兩次加工的氣流(23)的經清潔的氣流(12)，所述第三清洗溶液在第三封閉系統(11)中循環通過第三清洗塔(9)并且其包含的汞(II)離子濃度低于第一清洗溶液(3)，和 (vii)從第三清洗塔(9)排出經清潔的氣流(12)。2.根據權利要求1的方法，特征在于將含有汞(II)離子的另外的清洗溶液(13)從槽裝置(14)供入在第一封閉系統(4)中循環的第一清洗溶液(3)中。3.根據權利要求1或2的方法，特征在于從在第一封閉系統(4)中循環的第一清洗溶液(3)中除去甘汞(15)。4.根據權利要求1-3任一項的方法，特征在于將在第二封閉系統(8)中循環的第二清洗溶液(7)的一部分(16)供入在第一封閉系統(4)中循環的第一清洗溶液(3)，以從所述第二清洗溶液(7)中除去甘汞。5.根據權利要求1-4任一項的方法，特征在于將含有汞(II)離子的另外的清洗溶液(13)從槽裝置(14)供入在第二封閉系統(8)中循環的第二清洗溶液(7)中。6.根據權利要求1-5任一項的方法，特征在于將經清潔的氣體(12)帶至過濾器(33)用于吸收任何剩余的氣態單質萊。7.根據權利要求1-6任一項的方法，特征在于依靠主動過濾器(34)從在第三封閉系統(11)中循環的第三清洗溶液(10)中除去汞。8.根據權利要求1-7任一項的方法，特征在于使用具有如下的汞(II)離子含量的第一清洗溶液(3):大約0.lg/L-大約2g/L，優選大約0.2g/L-大約1.5g/L，更優選大約0.3g/L_大約lg/L。9.根據權利要求1-8任一項的方法，特征在于使用另外含有一定量的選自如下的離子的第一清洗溶液(3):氯、溴、碘、氰根和硫氰根離子，其所述離子的量至少是汞(II)離子量的兩倍。10.根據權利要求1-9任一項的方法，特征在于使用具有如下的汞(II)離子含量的第二清洗溶液(7):大于大約3.0g/L，優選大于大約2g/L，更優選大于大約1.5g/L。11.根據權利要求1-10任一項的方法，特征在于使用另外含有一定量的選自如下的離子的第二清洗溶液(7):氯、溴、碘、氰根和硫氰根離子，其所述離子的量至少是汞(II)離子量的兩倍。12.根據權利要求1-11任一項的方法，特征在于使用具有如下的汞(II)離子含量的第三清洗溶液(10):小于大約0.3g/L，優選小于大約0.2g/L，更優選小于大約0.lg/L。13.根據權利要求1-12任一項的方法，特征在于使用另外含有一定量的選自如下的離子的第三清洗溶液(10):氯、溴、碘、氰根和硫氰根離子，所述離子的量至少是汞(II)離子量的兩倍。14.用于從氣流中除去氣態單質汞的裝置，其中所述裝置包含: 第一清洗塔(2)，用于接收含有氣態單質汞的氣流(I)，其中配置所述第一清洗塔(2)用于使用第一清洗溶液(3)處理所述氣流(I)來形成所述氣流(I)的經一次加工的氣流(5)，所述第一清洗溶液(3)在第一封閉系統(4)中循環通過第一清洗塔(2)并且包含汞(II)離子， 第二清洗塔(6)，用于接收來自于第一清洗塔(2)的經一次加工的氣流(5)，其中配置所述第二清洗塔(6)用于使用第二清洗溶液(7)處理經一次加工的氣流(5)，以形成經一次加工的氣流(5)的經兩次加工的氣流(23)，所述第二清洗溶液(7)在第二封閉系統(8)中循環通過第二清洗塔(6)并且其包含的汞(II)離子濃度高于第一清洗溶液(3)，和 第三清洗塔(9)，用于接收來自于第二清洗塔(6)的經兩次加工的氣流(23)，其中配置所述第三清洗塔(9)用于使用第三清洗溶液(10)處理經兩次加工的氣流(23)，以形成經兩次加工的氣流(23)的經清潔的氣流(12)，所述第三清洗溶液(1)在第三封閉系統(11)中循環通過第三清洗塔(9)并且其包含的汞(II)離子濃度低于第一清洗溶液(3)，和其中配置所述第三清洗塔(9)用于從第三清洗塔(9)排出經清潔的氣流(12)。15.根據權利要求14的裝置，特征在于第一供給裝置(17)，其用于將含有汞(II)離子的另外的清洗溶液(13)從槽裝置(14)供入在第一封閉系統(4)中循環的第一清洗溶液(3)。16.根據權利要求14或15的裝置，特征在于第一除去裝置(18)，其用于從在第一封閉系統(4)中循環的第一清洗溶液(3)中除去甘汞(15)。17.根據權利要求14-16任一項的裝置，特征在于第二供給裝置(19)，其用于將在第二封閉系統(8)中循環的第二清洗溶液(7)的一部分(16)供入在第一封閉系統(4)中循環的第一清洗溶液(3)。18.根據權利要求14-17任一項的裝置，特征在于第三供給裝置(20)，其用于含有汞(II)離子的另外的清洗溶液(13)從槽裝置(14)供入在第二封閉系統(8)中循環的第二清洗溶液(7)。19.根據權利要求14-18任一項的裝置，特征在于過濾器(33)，其用于吸收經清潔的氣體(12)中任何剩余的氣態單質萊。20.根據權利要求14-19任一項的裝置，特征在于具有主動過濾器(34)的第三封閉系統(11)，所述主動過濾器(34)用于從在第三封閉系統(11)中循環的第三清洗溶液(10)中除去汞。21.根據權利要求14-20任一項的裝置，特征在于第一清洗溶液(3)中的汞(II)離子含量是大約0.lg/L-大約2g/L，優選大約0.2g/L-大約1.5g/L，更優選大約0.3g/L_大約lg/L。22.根據權利要求14-21任一項的裝置，特征在于所述第一清洗溶液(3)另外含有一定量的選自如下的離子:氯、溴、碘、氰根和硫氰根離子，所述離子的量至少是汞(II)離子量的兩倍。23.根據權利要求14-22任一項的裝置，特征在于第二清洗溶液(7)中汞(II)離子含量大于大約3.0g/L，優選大于大約2g/L，更優選大于大約1.5g/L。24.根據權利要求14-23任一項的裝置，特征在于所述第二清洗溶液(7)另外含有一定量的選自如下的離子:氯、溴、碘、氰根和硫氰根離子，所述離子的量至少是汞(II)離子量的兩倍。25.根據權利要求14-24任一項的裝置，特征在于第三清洗溶液(10)的汞(II)離子含量小于大約0.3g/L，優選小于大約0.2g/L，更優選小于大約0.lg/L。26.根據權利要求14-25任一項的裝置，特征在于第三清洗溶液(10)另外含有一定量的選自如下的離子:氯、溴、碘、氰根和硫氰根離子，所述離子的量至少是汞(II)離子量的兩倍。27.用于進行權利要求1-13任一項的方法的裝置，其中所述裝置包括: 第一清洗塔(2)，用于接收氣流(I)，其中配置所述第一清洗塔(2)用于使用第一清洗溶液(3)處理所述氣流(I)以形成所述氣流(I)的經一次加工的氣流(5)，所述第一清洗溶液(3)在第一封閉系統(4)中循環通過第一清洗塔(2)并且包含汞(II)離子， 第二清洗塔(6)，用于接收來自于第一清洗塔(2)的經一次加工的氣流(5)，其中配置所述第二清洗塔(6)用于使用第二清洗溶液(7)處理經一次加工的氣流(5)，以形成經一次加工的氣流(5)的經兩次加工的氣流(23)，所述第二清洗溶液(7)在第二封閉系統(8)中循環通過第二清洗塔(6)并且其包含的汞(II)離子濃度高于第一清洗溶液(3)，和 第三清洗塔(9)，用于接收來自于第二清洗塔(6)的經兩次加工的氣流(23)，其中配置所述第三清洗塔(9)用于使用第三清洗溶液(10)處理經兩次加工的氣流(23)，以形成經兩次加工的氣流(23)的經清潔的氣流(12)，所述第三清洗溶液(1)在第三封閉系統(11)中循環通過第三清洗塔(9)并且其包含的汞(II)離子濃度低于第一清洗溶液(3)，和其中配置所述第三清洗塔(9)用于從第三清洗塔(9)排出經清潔的氣流(12)。28.根據權利要求27的裝置，特征在于第一供給裝置(17)，其用于將含有汞(II)離子的另外的清洗溶液(13)從槽裝置(14)供入在第一封閉系統(4)中循環的第一清洗溶液(3)中。29.根據權利要求27或28的裝置，特征在于第一除去裝置(18)，其用于從在第一封閉系統(4)中循環的第一清洗溶液(3)中除去甘汞(15)。30.根據權利要求27-29任一項的裝置，特征在于第二供給裝置(19)，其用于將在第二封閉系統(8)中循環的第二清洗溶液(7)的一部分(16)供入在第一封閉系統(4)中循環的第一清洗溶液(3)。31.根據權利要求27-30任一項的裝置，特征在于第三供給裝置(20)，其用于將含有汞(II)離子的另外的清洗溶液(13)從槽裝置(14)供入在第二封閉系統(8)中循環的第二清洗溶液(7)。32.根據權利要求27-31任一項的裝置，特征在于過濾器(33)，其用于吸收經清潔的氣體(12)中任何剩余的氣態單質萊。33.根據權利要求27-32任一項的裝置，特征在于具有主動過濾器(34)的第三封閉系統(11)，所述主動過濾器(34)用于從在第三封閉系統(11)中循環的第三清洗溶液(10)中除去汞。34.根據權利要求27-33任一項的裝置，特征在于第一清洗溶液(3)中的汞(II)離子含量是大約0.lg/L-大約2g/L，優選大約0.2g/L-大約1.5g/L，更優選大約0.3g/L_大約lg/L。35.根據權利要求27-34任一項的裝置，特征在于所述第一清洗溶液(3)另外含有一定量的選自如下的離子:氯、溴、碘、氰根和硫氰根離子，所述離子的量至少是汞(II)離子量的兩倍。36.根據權利要求27-35任一項的裝置，特征在于第二清洗溶液(7)中汞(II)離子含量大于大約3.0g/L，優選大于大約2g/L，更優選大于大約1.5g/L。37.根據權利要求27-36任一項的裝置，特征在于第二清洗溶液(7)另外含有一定量的選自如下的離子:氯、溴、碘、氰根和硫氰根離子，所述離子的量至少是汞(II)離子量的兩倍。38.根據權利要求27-37任一項的裝置，特征在于第三清洗溶液(10)的汞(II)離子含量小于大約0.3g/L，優選小于大約0.2g/L，更優選小于大約0.lg/L。39.根據權利要求27-38任一項的裝置，特征在于第三清洗溶液(10)另外含有一定量的選自如下的離子:氯、溴、碘、氰根和硫氰根離子，所述離子的量至少是汞(II)離子量的兩倍。
【文檔編號】B01D53/64GK105934269SQ201580005673
【公開日】2016年9月7日
【申請日】2015年1月27日
【發明人】T·阿爾古林
【申請人】奧圖泰(芬蘭)公司