本發明屬涉及一體化礦井水處理設備,特別是一體化礦井水直濾系統陶瓷膜清洗配藥裝置。
背景技術:
1、存儲于地下礦井的廢水,通常含有少量cod、細微煤灰顆粒,具有顆粒粘稠的特點,區別于常規生活污水、市政污水,該廢水具有含油、濁度高、含cod、難生化、難降解的特點,已經成為礦井水處理領域的一個難點,很多研究者嘗試采用過濾、沉淀等工藝解決礦井水處理問題,如:cn?114763286a報道了一種礦井水處理系統和礦井水處理方法及其應用,包括預處理裝置、膜過濾裝置、一級反滲透裝置、二級反滲透裝置和蒸發濃縮裝置;cncn218345253u報道了一種一種礦井水處理混凝藥劑混合裝置,設置有藥劑輸送管道和鉆孔,提升藥劑混合效果,從而提升了礦井水處理效果。
2、在地下進行礦井水處理,采用陶瓷膜系統處理礦井水存在諸多技術優點,如:耐酸堿、抗油污、使用壽命長等,同時也存在一些缺點,如:礦井下水溫約10oc,陶瓷膜產水量低、反洗、清洗效果差、常規藥劑清洗效果差,從而導致陶瓷膜通量衰減快,無法滿足產水要求。
3、因此,在陶瓷膜直濾系統中,尋求解決陶瓷膜清洗溫度低、清洗時間快、通量恢復高的清洗配藥裝置,已經成為了一種迫切需求。
技術實現思路
1、本發明的目的在于:提供一體化礦井水直濾系統陶瓷膜清洗配藥裝置,解決礦井水直濾系統中,陶瓷膜處理礦井水時,存在清洗水溫度低、清洗時間長、陶瓷膜通量恢復低的問題。
2、本發明的技術解決方案是:
3、一體化礦井水直濾系統陶瓷膜清洗配藥裝置,主要包括:乳化剪切機、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉系統及陶瓷膜清洗配藥裝置加藥系統,其中,乳化剪切機包括乳化剪切機電機、乳化剪切機攪拌軸及乳化攪拌機槳葉;陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉系統包括陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉補水閥、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉補水管、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉溫度傳感器、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉液位傳感器、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉、陶瓷膜清洗配藥裝置電加熱盤管、陶瓷膜清洗配藥裝置電加熱控制器、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉出料控制閥、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉出料輸送泵、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉出料管、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉進料控制閥、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉進料循環泵、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉進料管及陶瓷膜清洗配藥裝置乳化剪切機支撐蓋板;陶瓷膜清洗配藥裝置加藥系統包括陶瓷膜清洗配藥裝置料液循環管、陶瓷膜清洗配藥裝置乳化液下料口、陶瓷膜清洗配藥裝置加藥混合倉、陶瓷膜清洗配藥裝置片堿投料口、陶瓷膜清洗配藥裝置片堿下料口、陶瓷膜清洗配藥裝置乳化液投料口、陶瓷膜清洗配藥裝置乳化液投料控制閥。
4、其中,乳化剪切機與陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉系統通過陶瓷膜清洗配藥裝置乳化剪切機支撐蓋板連接,確保乳化剪切機電機穩定固定在陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉系統上部,乳化剪切機攪拌軸及乳化攪拌機槳葉將陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉內的藥劑和水混合均勻,配置混合均勻的清洗藥劑;
5、其中,陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉系統內的陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉溫度傳感器與陶瓷膜清洗配藥裝置電加熱控制器連鎖,通過陶瓷膜清洗配藥裝置電加熱盤管加熱,控制陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉內溫度50oc-55oc;
6、其中,陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉系統內的陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉液位傳感器與陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉補水閥連鎖,通過設置陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉高、中、低液位,控制陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉的進水量,高、中、低液位設置根據陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉的高度設置,高液位為距離陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉的頂部20cm,中液位為高于陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉料液循環管的高度20cm、低液位為距離陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉的底部30cm;
7、其中,陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉出料通過陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉出料輸送泵控制,并與陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉出料控制閥、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉液位傳感器連鎖,在陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉低液位時,關閉陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉出料控制閥及陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉出料輸送泵;
8、其中,陶瓷膜清洗配藥裝置加藥系統包括片堿加料及乳化劑的加料,片堿通過陶瓷膜清洗配藥裝置片堿投料口、陶瓷膜清洗配藥裝置片堿下料口,乳化劑通過陶瓷膜清洗配藥裝置乳化液投料口,在陶瓷膜清洗配藥裝置加藥混合倉與陶瓷膜清洗配藥裝置料液循環管中的水初步混合,形成高濃度、升溫(25oc-40oc)的混合藥劑,通過陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉進料循環泵、陶瓷膜清洗配藥裝置料液循環管,與陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉系統形成大循環,高濃度、升溫的混合藥劑經乳化剪切機攪拌混合,最終配置成中溫混合均勻的清洗藥劑。
9、本方案中,片堿與乳化劑通過陶瓷膜清洗配藥裝置加藥系統初步混合,形成高濃度、升溫的混合藥劑,通過陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉進料循環泵與陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉連通循環、經乳化剪切機攪拌分散,通過溫度傳感器控制陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉的加熱溫度,最終配置成中溫混合均勻的清洗藥劑。
10、本發明與現有技術相比,其顯著優點:本發明提出的一體化礦井水直濾系統陶瓷膜清洗配藥裝置,通過片堿與乳化劑的初步混合、剪切乳化、加熱控溫,制備了中溫混合均勻的清洗藥劑,應用于陶瓷膜裝置的清洗,具有清洗時間短、通量恢復高的特點。
1.一體化礦井水直濾系統陶瓷膜清洗配藥裝置,其特征在于:該裝置主要包括:乳化剪切機、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉系統及陶瓷膜清洗配藥裝置加藥系統,其中,乳化剪切機由乳化剪切機電機(1)、乳化剪切機攪拌軸(2)及乳化攪拌機槳葉(3)組成;陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉系統由陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉補水閥(4)、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉補水管(5)、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉溫度傳感器(6)、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉液位傳感器(23)、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉(7)、陶瓷膜清洗配藥裝置電加熱盤管(8)、陶瓷膜清洗配藥裝置電加熱控制器(9)、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉出料控制閥(10)、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉出料輸送泵(11)、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉出料管(12)、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉進料控制閥(13)、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉進料循環泵(14)、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉進料管(15)及陶瓷膜清洗配藥裝置乳化剪切機支撐蓋板(24)組成;陶瓷膜清洗配藥裝置加藥系統內,片堿通過陶瓷膜清洗配藥裝置片堿投料口(19)、陶瓷膜清洗配藥裝置片堿下料口(20),乳化劑通過陶瓷膜清洗配藥裝置乳化液投料口(21)、陶瓷膜清洗配藥裝置乳化液投料控制閥(22),在陶瓷膜清洗配藥裝置加藥混合倉(18)與陶瓷膜清洗配藥裝置料液循環管(16)中的水初步混合,形成高濃度、升溫(25oc-40oc)的混合藥劑,通過陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉進料循環泵(14)、陶瓷膜清洗配藥裝置料液循環管(16),與陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉系統形成大循環,高濃度、升溫的混合藥劑經乳化剪切機攪拌混合,最終配置成中溫混合均勻的清洗藥劑。
2.根據權利要求1所述的一體化礦井水直濾系統陶瓷膜清洗配藥裝置,其特征在于:乳化剪切機與陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉系統通過陶瓷膜清洗配藥裝置乳化剪切機支撐蓋板(24)連接,確保乳化剪切機電機(1)穩定固定在陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉系統上部,乳化剪切機攪拌軸(2)及乳化攪拌機槳葉(3)將陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉(7)內的藥劑和水混合均勻,配置混合均勻的清洗藥劑。
3.根據權利要求1所述的一體化礦井水直濾系統陶瓷膜清洗配藥裝置,其特征在于:陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉溫度傳感器(6)與陶瓷膜清洗配藥裝置電加熱控制器(9)連鎖,通過陶瓷膜清洗配藥裝置電加熱盤管(8)加熱,控制陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉(7)內溫度50oc-55oc。
4.根據權利要求1所述的一體化礦井水直濾系統陶瓷膜清洗配藥裝置,其特征在于:陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉液位傳感器(23)與陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉補水閥(4)連鎖,通過設置陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉(7)高、中、低液位,控制陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉(7)的進水量,高、中、低液位根據陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉(7)的高度設置,其中,高液位為距離陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉(7)的頂部20cm,中液位為高于陶瓷膜清洗配藥裝置料液循環管(16)的高度20cm、低液位為距離陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉(7)的底部30cm。
5.根據權利要求1所述的一體化礦井水直濾系統陶瓷膜清洗配藥裝置,其特征在于:陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉(7)出料通過陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉出料輸送泵(11)控制,并與陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉出料控制閥(10)、陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉液位傳感器(23)連鎖,在陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉低液位時,關閉陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉出料控制閥(10)及陶瓷膜清洗配藥裝置混料倉出料輸送泵(11)。