錐式約束排泥單層側向流斜板沉淀設備的制作方法

技術領域：

本發明屬于水處理的沉淀設備。

背景技術：
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側向流斜板沉淀設備是水處理工藝中常用泥水分離設備，反應后水中的膠體、懸浮物等物質會形成絮狀團，通常稱為礬花，含礬花的水流進入側向流沉淀設備后，沿著傾斜的斜板間構成的通道側向流動。礬花沉降在斜板上，并沿斜板滑下沉降在積泥斗中排出，澄清水由沉淀池的集水槽收集，并匯集到出水管流走。側向流斜板沉淀設備水流方向是側向流動，水流對污泥礬花沒有頂托力。逆向流斜板沉淀設備水流是由下往上流，水流中礬花是向下沉淀在斜板上，然后沿斜板滑下被排出，因此上升水流對污泥礬花的沉降是有頂托。從沉淀動力學機理來看，側向流斜板沉淀設備更科學。但是目前的側向流斜板沉淀設備與逆向流斜板沉淀設備運行效果沒有明顯區別，主要是因為現在常用的側向流斜板存在二個缺點。一是水流短路問題，水流流經斜板區域時受斜板壁面約束，流動阻力很大，導致部分水流向下運動進入斜板下部的礬花沉降區，再水平流動，經擋水墻時再向上流經斜板。此區域沒有斜板的約束，阻力很小，流速大于斜板內水流流速，相當于水深較淺的平流沉淀池，故沉降效果差。二是目前側向流斜板為保證斜板內水流速度，一般設置兩折三層斜板，相鄰兩層斜板的轉彎處，增大了礬花下降的距離，同時壁面礬花下滑對轉彎處礬花下降造成了干擾，影響礬花沉淀效果。

發明專利內容：

本發明目的在于提供一種有錐式排泥模塊單層側向流斜板沉淀設備，能夠 有效提高設備的沉淀效率。

技術方案：一種有錐式排泥模塊的單層側向流斜板沉淀設備，由斜板(1)、錐式排泥模塊(2)、板材固定件(3)、間距控制件(4)、斜板框架(5)組成，其特征在于：在該沉淀設備的底部設置多個方形漏斗，漏斗口總面積遠小于斜板底面積；斜板為單層斜板，斜板長度為目前側向流斜板長度的3倍。

有益效果：錐式排泥模塊的下端最小尺度是斜板面積的百分之幾。而水流沿斜板通道流動產生的水力阻力是沿程阻力，其水頭損失很小，因為其流速只有每秒2厘米左右，而水要從錐式排泥口流出側向流斜板，再到下一個擋水墻(也是有漏斗側向流斜板沉淀設備的支撐墻)前再進入錐式排泥口，需要克服兩個局部阻力，要產生兩個局部水頭損失，第一個是流出錐式排泥口時的逐漸收縮和出口時的突然擴大，第二個是進入錐式排泥口時突然縮小和逐漸擴大，這兩個都是局部水頭損失，加之錐式排泥模塊的出口的尺寸只是側向斜板通道間距的百分之幾，因此這兩個局部阻力之和要比斜板通道中運動的水力阻力幾個數量級以上，因此通過排泥漏斗短路的水基本可以忽略不計。同時減少了礬花在多層斜板中下降的距離，減輕了水流對礬花在斜板上下滑的擾動。

也就是說有錐式約束排泥的單層側向流斜板沉淀設備的主要優勢是，既克服了逆向流斜板沉淀設備上升水流對污泥礬花沉淀的頂托作用，又克服了多層側向流斜板沉淀設備的水流沿底部短流和局部礬花沉降距離長的問題。其沉后出水質同逆向流斜板沉淀設備相比有質的提高。

附圖說明：

圖1是錐式約束排泥單層側向流斜板沉淀設備實施例1的立面圖，斜板方向是垂直紙面的，水流沿著斜板之間所構成的通道垂直紙面流動；

圖2是錐式約束排泥單層側向流斜板沉淀設備實施例2的平面圖；

具體實施方式：

錐式約束排泥單層側向流斜板沉淀設備其最下一層是由斜板(1)、錐式排泥模塊(2)、板材固定件(3)、間距控制件(4)、斜板框架(5)組成。

斜板(1)、間距控制件(4)是塑料材料制成，斜板傾斜放置，間距控制件垂直板材安裝。

錐式排泥模塊(2)、板材固定件(3)、斜板框架(5)鋼制材料制成，角形板焊接在框架底部，板材固定件焊接在框架頂部。

按設計尺寸焊接斜板框架(5)，在框架底部焊接錐式排泥模塊(2)，將板材固定件(3)焊接在框架頂部，控制固定件間的距離。用間距控制件(4)將單張斜板(1)相互連接形成整體。將整體斜板放入斜板框架(5)內，斜板上部與板材固定件(3)連接，下部與錐式排泥模塊保持間距。整體沉淀設備制作完畢。

技術特征：

技術總結
本發明涉及一種有錐形排泥模塊的單層側向流斜板沉淀設備，由斜板(1)、錐式排泥模塊(2)、板材固定件(3)、間距控制件(4)、斜板框架(5)組成。在斜板框架(5)焊接錐式排泥模塊(2)，這樣就在沉淀設備底部形成了排泥漏斗。該設備克服了逆向流斜板沉淀設備上升水流對污泥礬花沉淀的頂托作用，又克服了多層側向流斜板沉淀設備的水流沿底部短流和局部礬花沉降距離長的問題。

技術研發人員：孫士東;張海鵬;黃偉
受保護的技術使用者：哈爾濱市多相水處理技術有限公司
技術研發日：2016.03.08
技術公布日：2017.09.15