涂敷裝置制造方法
【專利摘要】在旋轉滾筒(1)的周壁部(1a)上設置的分隔部(14)具備：固定在周壁部(1a)的外周的基部(14a)；以及以向周壁部(1a)的內外周方向的移動被允許的狀態裝配于基部(14a)的密封構件(14b)。密封構件(14b)當受到朝向外周方向的力時，與基部(14a)的一面或另一面滑動接觸的同時向外周方向移動，且其前端部以與上述的力相稱的力而與通氣構件(10)的滑動接觸部(10a)壓力接觸。
【專利說明】涂敷裝置
【技術領域】
[0001]本發明涉及進行藥品、食品、農藥等的粉粒體的涂敷、混合、干燥等的涂敷裝置，尤其涉及具備被驅動而繞軸線旋轉的通氣式的旋轉滾筒的涂敷裝置。
【背景技術】
[0002]為了向藥品、食品、農藥等的片劑、軟膠囊、丸劑、顆粒及其他的與它們類似的物品(以下，將它們總稱為粉粒體。)實施膜涂敷或糖衣涂敷等，而使用具備旋轉滾筒的涂敷裝置。
[0003]此種涂敷裝置在下述的專利文獻I~10中被公開。
[0004]例如，在專利文獻I中公開一種具備被驅動而繞水平的軸線旋轉的通氣式的旋轉滾筒的涂敷裝置。旋轉滾筒的周壁部具有多邊形的橫截面形狀，周壁部的各邊面通過多孔部而被賦予通氣性。并且，在周壁部的各邊面的外周側分別裝配有封套，在封套與周壁部的各邊面之間分別形成有通氣通道。另外，在旋轉滾筒的另一端側、即在設有包含電動機等的旋轉驅動機構的一側配置有通氣機構，該通氣機構控制干燥空氣等處理氣體對旋轉滾筒的通氣。該通氣機構具有伴隨旋轉滾筒的旋轉而使來到規定位置的通氣通道分別與供氣管道和排氣管道連通的功能。
[0005]另外，專利文獻2、3公開所謂無封套結構的涂敷裝置。專利文獻2的圖1所示的涂敷裝置的旋轉滾筒具備橫截面形狀為多邊形的周壁部。旋轉滾筒的周壁部的各邊面通過多孔部而被賦予通氣性。在多邊形的周壁部的各頂部分別設有隔板，另外，在周壁部的軸向兩端部設有滑動框。形成由周壁部的各邊面、隔板及滑動框劃分出的通氣空間。旋轉滾筒收容在外側外殼的內部，在外側外殼的上部側和下部側設有供排氣部。在下部側的排氣部上設有由橡膠或合成樹脂等形成的密封板，伴隨旋轉滾筒的旋轉，周壁部的隔板和滑動框與密封板滑動接觸，從而防止外側外殼`的內部空間的空氣在未有助于旋轉滾筒內的粉粒體的干燥的情況下排氣。周壁部的上方部分向外側外殼的內部空間開放。從上部側的供氣部向外側外殼的內部空間供給的干燥氣體通過周壁部的上方部分的多孔部而向旋轉滾筒內進入，并通過旋轉滾筒內的粉粒體層之后，經由伴隨旋轉滾筒的旋轉而來到下部側的排氣部的位置的通氣空間向排氣部排出。專利文獻2的圖2所示的涂敷裝置的旋轉滾筒具備橫截面形狀為圓形的周壁部。另外，在供氣部和排氣部側分別設有截面圓弧狀的密封板。專利文獻3也公開具有與專利文獻2同樣的基本結構的無封套結構的涂敷裝置。
[0006]【在先技術文獻】
[0007]【專利文獻】
[0008]【專利文獻I】日本特開2001-58125號公報
[0009]【專利文獻2】日本特公平7-63608號公報
[0010]【專利文獻3】日本特開2008-253910號公報
[0011]【專利文獻4】日本特開2003-1088號公報
[0012]【專利文獻5】日本特開2003-62500公報[0013]【專利文獻6】日本特開平8-266883號公報
[0014]【專利文獻7】日本特開2010-99555號公報
[0015]【專利文獻8】日本專利第3349580號公報
[0016]【專利文獻9】日本特開2002-113401號公報
[0017]【專利文獻10】日本特開2004-148292號公報
[0018]【發明的概要】
[0019]【發明要解決的課題】
[0020]專利文獻2、3的無封套結構的涂敷裝置為使在旋轉滾筒上設置的滑動框和隔板與在排氣部側設置的密封板滑動接觸來對排氣進行密封的結構，因此密封板上容易產生磨損，且因密封板的磨損而容易引起排氣的泄漏或短路(供給到旋轉滾筒內的干燥氣體在未有助于粉粒體層的干燥的情況下排氣的現象)。另一方面，為了更換產生了磨損的密封板，需要將排氣部的排氣管道或旋轉滾筒取下的作業，從而作業負擔大。
[0021]另外，因旋轉滾筒的旋轉軸心的振動或外殼的變形等影響，而滑動框及隔板與密封板的滑動接觸力發生變動，若滑動接觸力向過大方向發生變動，則助長密封板的磨損而成為污染產生的原因，若滑動接觸力向過小方向發生變動，則成為排氣的泄漏或短路的原因。
[0022]另外，為了通過旋轉滾筒的滑動框及隔板與密封板的滑動接觸來對排氣進行緊密密封，需要對滑動框、隔板及密封板的尺寸形狀進行高精度管理。因此，導致制造成本增大或加工作業煩雜化，并且實際上難以對尺寸形狀進行管理，來使滑動框的外周(圓形狀)與密封板的內表面(圓弧形狀)緊密地滑動接觸，從而承擔著排氣的密封容易變得不充分這樣的根本的問題。
[0023]并且，在多邊形形狀的旋轉滾筒中，在周壁部的各頂部分別設有隔板，在旋轉方向上相鄰的隔板彼此的間隔大。因此，由隔板劃分的通氣空間的旋轉方向尺寸變大，排氣的短路產生的程度變高。即，伴隨旋轉滾筒的旋轉，當某一個隔板進入排氣部的區域時，由該隔板劃分的通氣空間與排氣部連通，但當該通氣空間的旋轉方向尺寸大時，旋轉滾筒內的干燥氣體通過粉粒體層薄的區域或者粉粒體層的上方而進入該通氣空間，并從該通氣空間向排氣部排出。
【發明內容】
[0024]本發明的課題在于提供一種通過不具有專利文獻I中公開的涂敷裝置那樣的通氣通道用的封套的無封套結構，使排氣的泄漏或短路難以產生的涂敷裝置。
[0025]本發明的另一課題在于提供一種密封部的結構，其在上述的無封套結構的涂敷裝置中，難以受到旋轉滾筒的旋轉軸心的振動或外殼的變形等影響，且尺寸形狀的管理容易，并且更換作業也容易。
[0026]【用于解決上述課題的手段】
[0027]為了解決上述課題，本發明提供一種涂敷裝置，具備通氣式的旋轉滾筒，該旋轉滾筒在內部收容應處理的粉粒體，且被驅動而繞其軸線旋轉，所述涂敷裝置的特征在于，旋轉滾筒具備周壁部和多個分隔部 ，該周壁部具有使該旋轉滾筒的內部和外部連通的通氣部，所述多個分隔部在該周壁部的外周沿著旋轉方向以規定間隔設置，其中，在旋轉滾筒的周壁部的外周側配置具有通氣口的通氣構件，多個分隔部分別具備基部和密封構件，該基部固定在周壁部的外周，該密封構件以向周壁部的內外周方向的移動被允許的狀態裝配于基部，且在旋轉滾筒的旋轉時與通氣構件滑動接觸。
[0028]在上述結構的基礎上，還可以構成為，在周壁部的外周的軸向兩端部分別裝配有環狀的密封環，該密封環在旋轉滾筒的旋轉時與通氣構件滑動接觸。
[0029]在上述結構的基礎上，還可以構成為，通氣構件配置在旋轉滾筒的旋轉方向的規定位置，或以從外周側覆蓋旋轉滾筒的周壁部的方式配置。
[0030]在上述結構的基礎上，還可以構成為，分隔部的密封構件在旋轉滾筒的旋轉時的離心力的作用下被施力而與通氣構件壓力接觸。
[0031]在上述結構的基礎上，還可以構成為，旋轉滾筒的周壁部具有多邊形的橫截面形狀。
[0032]在上述結構的基礎上，還可以構成為，多個分隔部配置在旋轉滾筒的周壁部的各頂部及各邊面上。
[0033]本申請除了上述的發明之外，還包括以下的發明。
[0034]一種涂敷裝置，具備:旋轉滾筒，其在內部收容應處理的粉粒體，且被驅動而繞其軸線旋轉；噴射噴嘴單元，其具有向該旋轉滾筒的內部的粉粒體層噴霧出噴射液的一個或多個噴射噴嘴；以及噴嘴移動機構，其使該噴射噴嘴單元經由所述旋轉滾筒的前端開口部而在該旋轉滾筒的內部與外部之間出入移動，所述涂敷裝置的特征在于，所述噴嘴移動機構具備使所述噴射噴嘴單元在第一位置與第二位置之間移動的噴嘴位置調整機構，該第一位置是使該噴射噴嘴單元位于比所述旋轉滾筒的前端開口部的直徑靠內徑側的位置，該第二位置是使該噴射噴嘴單元的至少所述噴射噴嘴位于比所述旋轉滾筒的前端開口部的直徑靠外徑側且相對于包含所述旋轉滾筒的軸線的鉛垂面而靠旋轉方向前方側的位置。噴嘴位置調整機構優選使噴射噴嘴單元在所述第一位置與所述第二位置之間進行回旋移動，更優選使噴射噴嘴單元與將外殼的前表面部閉塞的前表面面板一起進行回旋移動。
[0035]一種涂敷裝置，具備:旋轉滾筒，其在內部收容應處理的粉粒體，且被驅動而繞其軸線旋轉；噴射噴嘴單元，其具有向該旋轉滾筒的內部的粉粒體層噴霧出噴射液的一個或多個噴射噴嘴；以及供氣部，其經由在該旋轉滾筒的軸線方向的前端部及后端部中的至少一方設置的開口部而向該旋轉滾筒的內部供給處理氣體，所述涂敷裝置的特征在于，所述供氣部具備氣流控制部，該氣流控制部以使經由所述開口部而向所述旋轉滾筒的內部供給的處理氣體指向所述旋轉滾筒內的空間部而流動的方式對所述處理氣體的流動進行控制，其中，所述旋轉滾筒內的空間部在所述粉粒體層的上方，且相對于所述噴射噴嘴單元而成為背面側。氣流控制部可以由將處理氣體朝向所述空間部引導的氣流引導板構成。這種情況下，氣流引導板可以以使處理氣體指向所述空間部而流動的方式配置成傾斜狀，或者，也可以在旋轉滾筒的開口部的范圍內，相對于包括旋轉滾筒的軸線的鉛垂面而配置在成為旋轉方向后方側的區域所對應的位置。另外，氣流控制部也可以具備:與旋轉滾筒的開口部連通的供氣腔室；以及使處理氣體在供氣腔室內回旋，來產生指向所述空間部的流動的氣流回旋部。
[0036]一種涂敷裝置，具備通氣式的旋轉滾筒，該旋轉滾筒在內部收容應處理的粉粒體，且被驅動而繞其軸線旋轉，該旋轉滾筒在周壁部具有使該旋轉滾筒的內部和外部連通的通氣部，所述涂敷裝置的特征在于，在所述旋轉滾筒的外周側配設有積存清洗液的清洗槽，并且所述涂敷裝置具備使氣泡混在所述清洗液中的氣泡產生機構，將所述旋轉滾筒的周壁部浸潰在積存于所述清洗槽且混有所述氣泡的清洗液中，且在使所述旋轉滾筒旋轉的同時進行清洗。在此，混在清洗液中的氣泡的直徑優選比周壁部的通氣部(通氣孔)的直徑小，個數基準的中值直徑例如為500 ii m~0.5 ii m,優選為200 y m~0.5 y m,更優選為100 y m~
0.5 (微細氣泡)。另外，在通氣部(通氣孔)形成為具有長徑和短徑的形狀的情況下，優選個數基準的中值直徑至少比通氣部(通氣孔)的二十分之一的尺寸小。當相對于通氣孔而氣泡直徑過于大時，通氣孔的清洗力降低。清洗槽還可以相對于旋轉滾筒的旋轉方向而在旋轉方向前方側具有溢流排出部，該溢流排出部使清洗液溢流而從清洗槽排出。
[0037]—種涂敷裝置，具備:通氣式的旋轉滾筒，其在內部收容應處理的粉粒體，且被驅動而繞其軸線旋轉；清洗槽，其配設在該旋轉滾筒的外周側，來積存清洗液，其中，所述旋轉滾筒在周壁部具有使所述旋轉滾筒的內部和外部連通的通氣部，在使所述周壁部浸潰在積存于所述清洗槽內的清洗液中且清洗液經由所述通氣部而進入到內部的狀態下，在使所述旋轉滾筒旋轉的同時進行清洗，所述涂敷裝置的特征在于，所述旋轉滾筒在所述周壁部的外周具備多個流動構件，該流動構件在所述旋轉滾筒旋轉時使所述清洗槽的清洗液向旋轉方向前方流動，該流動構件具有在所述周壁部的內外周方向上可動的可動部，在所述清洗槽的清洗液內設有:通過限制構件將所述可動部限制在比最外周側的位置靠內周側的位置的限制區域；以及所述可動部相對于外周側開放的開放區域。
[0038]一種涂敷裝置，具備旋轉滾筒，該旋轉滾筒在內部收容應處理的粉粒體，且被驅動而繞其軸線旋轉，在所述旋轉滾筒的壁部的內表面設有攪拌所述粉粒體的擋板，所述涂敷裝置的特征在于，所 述涂敷裝置設有能從所述旋轉滾筒的外部調整所述擋板距所述壁部的內表面的高度的高度調整機構。例如，高度調整機構沿著高度方向變更擋板的位置，由此來調整擋板的高度。具體而言，高度調整機構具有以進退自如的方式貫通旋轉滾筒的壁部的高度調整銷，高度調整銷的一端以裝拆自如的方式裝配于擋板，另一端以裝拆自如的方式裝配于旋轉滾筒的外側，通過將高度調整銷更換為長度不同的高度調整銷，來沿著高度方向變更擋板的位置。或者，高度調整機構使擋板相對于高度方向傾斜，由此來調整擋板的高度。或者，高度調整機構具有一端以裝拆自如的方式裝配于旋轉滾筒的外側且以進退自如的方式貫通旋轉滾筒的壁部的擋板，通過將擋板更換為高度不同的擋板來調整擋板的高度。
[0039]一種涂敷裝置，具備旋轉滾筒，該旋轉滾筒在內部收容應處理的粉粒體，且被驅動而繞其水平的軸線旋轉，在所述旋轉滾筒的周壁部的內表面設有攪拌所述粉粒體的板狀的擋板，所述涂敷裝置的特征在于，所述擋板由沿著所述旋轉滾筒的周向以規定間隔配置的多個上層擋板和下層擋板構成，所述上層擋板和下層擋板的延伸方向相對于所述旋轉滾筒的周向彼此向相反方向傾斜，所述上層擋板的下端的高度為所述下層擋板的上端的高度以上。在將周壁部上的配置有擋板的區域沿著周向分割，從而形成為軸線方向的長度彼此相等的多個區間時，可以使存在于所述區間中的上層擋板和下層擋板的個數在所述區間之間彼此相等。另外，也可以在周壁部上，在軸線方向上排列多個配置有擋板的沿著周向延伸的單位區域。
[0040]【發明效果】[0041]根據本發明，提供一種通過不具有專利文獻I中公開的涂敷裝置那樣的封套的無封套結構，使排氣的泄漏或短路難以產生的涂敷裝置。
[0042]另外，提供一種密封部的結構，其在上述的無封套結構的涂敷裝置中，難以受到旋轉滾筒的旋轉軸心的振動或外殼的變形等影響，且尺寸形狀的管理容易，并且更換作業也容易。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0043]圖1是本發明的實施方式的涂敷裝置的縱向剖視圖。
[0044]圖2是從前方側觀察前表面面板而得到的圖。
[0045]圖3(A)是旋轉滾筒的橫向剖視圖。
[0046]圖3 (B)是旋轉滾筒的縱向剖視圖。
[0047]圖4(A)是表示旋轉滾筒的周壁部的周邊的放大橫向剖視圖。
[0048]圖4(B)是分隔部的放大剖視圖。
[0049]圖5是表示旋轉滾筒的端部的周邊的放大剖視圖。
[0050]圖6是涂敷裝置的橫向剖視圖。
[0051]圖7是從上方觀察該噴嘴移動機構而得到的局部剖視圖。
[0052]圖8是表示從前方側觀察旋轉滾筒而得到的簡要橫向剖視圖。
[0053]圖9(A)是表示旋轉滾筒的前端部側的供氣部的圖，是從前方側觀察外殼的前端部而得到的圖。
[0054]圖9 (B)是供氣部的周邊部的縱向剖視圖。
[0055]圖10是從后方側觀察旋轉滾筒而得到的簡要橫向剖視圖。
[0056]圖11是簡要表示分隔部的變形例的剖視圖。
[0057]圖12是簡要表示分隔部的變形例的剖視圖。
[0058]圖13是簡要表示分隔部的變形例的剖視圖。
[0059]圖14是簡要表示分隔部的變形例的剖視圖。
[0060]圖15(A)是簡要表示分隔部的變形例的側視圖。
[0061]圖15⑶是圖15(A)的a-a剖視圖。
[0062]圖16是表示另一實施方式的旋轉滾筒的橫向剖視圖。
[0063]圖17(A)是表示旋轉滾筒的前端部側的供氣部的另一實施方式的圖，是從前方側觀察外殼的前端部而得到的圖。
[0064]圖17 (B)是供氣部的周邊部的縱向剖視圖。
[0065]圖18是表示旋轉滾筒的后端部側的供氣部的另一實施方式的縱向剖視圖。
[0066]圖19表示另一實施方式的旋轉滾筒和清洗槽的周邊部的局部剖視圖。
[0067]圖20是表示另一實施方式的旋轉滾筒和清洗槽的周邊部的局部剖視圖。
[0068]圖21是從旋轉滾筒側觀察到的清洗槽的展開圖。
[0069]圖22是表示另一實施方式的旋轉滾筒和清洗槽的周邊部的剖視圖。
[0070]圖23是圖22的Y-Y剖視圖。
[0071]圖24是另一實施方式的旋轉滾筒的側壁部的內表面側的簡要展開圖。
[0072]圖25是圖24的A-A線向視剖視圖。[0073]圖26足表示上層擋板的周邊的局部剖視圖(從與圖25相同的方向觀察到的圖)。
[0074]圖27(A)是表示圖26中使用的高度調整銷的圖。
[0075]圖27(B)是表示為了更換而準備的高度調整銷的圖。
[0076]圖28是表示現有的涂敷裝置的旋轉滾筒內的粉粒體的運動的橫向剖視圖。
[0077]圖29是表示另一實施方式的擋板周邊的局部剖視主視圖。
[0078]圖30是從圖29的右側觀察到的局部剖視側視圖。
[0079]圖31是另一實施方式的基板的俯視圖。
[0080]圖32是表示另一實施方式的擋板周邊的局部剖視主視圖。
[0081]圖33(A)是另一實施方式的安裝構件的主視圖。
[0082]圖33(B)是從圖33(A)的右側觀察到的側視圖。
[0083]圖34(A)是表示另一實施方式的擋板的傾斜的狀態的圖(從圖32的右側觀察到的圖)，是表示未傾斜的(傾斜角度0 ° )狀態的圖。
[0084]圖34(B)是表示傾斜角度30°的狀態的圖。
[0085]圖34(C)是表示傾斜角度45°的狀態的圖。
[0086]圖34(D)是表示傾斜角度60°的狀態的圖。
[0087]圖35是表示另一實施方式的擋板周邊的局部剖視主視圖。
[0088]圖36是表示另一實施方式的軸支承部的圖(從圖35的右側觀察到的側視圖)。
[0089]圖37(A)是表示另一實施方式的擋板的傾斜的狀態的圖(從圖35的右側觀察到的圖)，是表示未傾斜的(傾斜角度0 ° )狀態的圖。
[0090]圖37(B)是表示傾斜角度30°的狀態的圖。
[0091]圖37(C)是表示傾斜角度45°的狀態的圖。
[0092]圖37(D)是表示傾斜角度60°的狀態的圖。
[0093]圖38(A)是表示另一實施方式的擋板周邊的剖視圖。
[0094]圖38(B)是表示為了更換而準備的擋板的圖。
[0095]圖39是另一實施方式的旋轉滾筒的側壁部的內表面側的簡要展開圖。
[0096]圖40 (A)是表示上層擋板的另一例的側視圖。
[0097]圖40 (B)是表示上層擋板的另一例的主視圖。
[0098]圖41是按比例增加后旋轉滾筒中的側壁部的內表面側的簡要展開圖。
[0099]圖42是示意性地表示按比例增加后的旋轉滾筒的運轉狀態的軸線方向剖視圖。
[0100]圖43是按比例增加后旋轉滾筒的變形例中的側壁部的內表面側的簡要展開圖。
【具體實施方式】
[0101]如圖1所示，本實施方式的涂敷裝置具備被驅動而繞與水平線平行或大致平行的軸線X旋轉的通氣式的旋轉滾筒I。旋轉滾筒I以旋轉自如的方式收容在外殼2的內部，并由在其后端部側配設的旋轉驅動機構3驅動而旋轉。而且，旋轉滾筒I在外殼2的內部收容于內部殼體4的內部，內部殼體4的空間部相對于其外部被氣密地密封。并且，在旋轉滾筒I的內部配置有噴射噴嘴單元5，該噴射噴嘴單元5具有將膜材料液等噴射液朝向粉粒體層噴霧出的一個或多個噴射噴嘴5a。在本實施方式中，旋轉滾筒I在前端部具有前端開口部le，并且在后端部具有后端開口部lg。另外，在前端開口部Ie和后端開口部Ig側分別設有供氣部Al、A2。
[0102]外殼2的前端部構成腔室2a，腔室2a的前表面由具有檢修窗2bl的前表面面板2b閉塞。在腔室2a中收容有上下運動機構8和后述的氣流引導構件20。
[0103]噴射噴嘴單元5經由連接管7而安裝到L字形的支承管6的前端部，支承管6的基端部與在前表面面板2b的內表面側安裝的上下運動機構8連接。通過上下運動機構8，能夠手動或自動(通過氣缸或滾珠絲杠等執行機構)調整噴射噴嘴單元5的上下方向位置。另外，在前表面面板2b連接有后述的噴嘴移動機構9，通過噴嘴移動機構9，能夠使前表面面板2b和噴射噴嘴單元5 —起向旋轉滾筒I的軸線X方向移動，并且能夠使前表面面板2b和噴射噴嘴單元5 —起在圖2中單點劃線所示的第一位置Pl和實線所示的第二位置P2之間進行回旋移動。
[0104]如圖3所示，在本實施方式中，旋轉滾筒I具備:具有多邊形(例如十邊形或十二邊形)的橫截面形狀的周壁部Ia ;與周壁部Ia的前端連續的端壁部Ib ;與周壁部Ia的后端連續的端壁部lc。在周壁部Ia的各邊面上分別設有由多孔部形成的通氣部。在本實施方式中，通過在周壁部Ia的各邊面分別裝配多孔板來形成通氣部。在端壁部Ib的前端設有口環部ld，在口環部Id上設有前端開口部le。另外，在端壁部Ic的后端設有連結部If，在連結部If上設有后端開口部lg。在連結部If上連結有驅動旋轉滾筒I旋轉的驅動系統部件的固定等用的延伸部Ih (參照圖1)。
[0105]在本實施方式中，在旋轉滾筒I的周壁部Ia的軸向兩端部設有環狀的密封環13，在周壁部Ia的外周，沿著旋轉方向以規定間隔設有多個分隔部14。分隔部14整體呈板狀形態，具有與周壁部Ia的軸向尺寸大致相同的長度方向尺寸，且以與旋轉滾筒I的軸線平行的方向配置在周壁部Ia的外周。另外，分隔部14分別配置在多邊形的周壁部Ia的各頂部la2和各邊面Ial上。上述的密封環13和分隔部14在旋轉滾筒I旋轉時，與具有通氣口 IOb的通氣構件10的滑動接觸部IOa (參照圖6)滑動接觸。
[0106]如圖4所示，在本實施方式中，分隔部14具備:固定在周壁部Ia的外周的基部14a ;以向周壁部Ia內外周方向的移動被允許的狀態裝配于基部14a的密封構件14b。基部14a由金屬材料等形成為平板狀，通過焊接等適當的方法以與旋轉滾筒I的軸線平行的方向固定于周壁部Ia的外周。密封構件14b由氟系樹脂(PTFE等)的合成樹脂材料或硬質橡膠等合成橡膠材料形成為平板狀，裝配在基部14a的一面側或另一面側。例如，密封構件14b具有在周壁部Ia的內外周方向上縱長的長孔14bl (也參照圖5)，通過使經由樹脂制或金屬制的墊片14c而穿過長孔14bl的螺栓14d與在基部14a上設置的螺栓孔14al螺合，來裝配于基部14a。密封構件14b在裝配于基部14a的狀態下，在長孔14bl與螺栓14d的軸部之間的間隙的范圍內相對于基部14a而能夠在周壁部Ia的內外周方向上可動。因此，密封構件14b當受到朝向外周方向的力時，與基部14a的一面或另一面進行滑動接觸的同時向外周方向移動，且其前端部以與上述的力相稱的力而與通氣構件10的滑動接觸部IOa壓力接觸。作為對密封構件14b施加上述的外力的機構，也可以使用彈簧等彈性施力機構，但在本實施方式中，從結構的簡化這一點出發，采用通過與旋轉滾筒I的旋轉相伴的離心力來對密封構件14b向外周方向施力的機構。另外，也可以取代上述的螺栓14d而使用銷。
[0107]另外，如圖5所示，密封環13具備固定在周壁部Ia的端部外周上的基部13a和裝配在基部13a上的密封構件13b。基部13a由金屬材料等形成為環板狀，通過焊接等適當的方法固定在旋轉滾筒I的端部外周。密封構件13b通過氟系樹脂(PTFE等)的合成樹脂材料或硬質橡膠等合成橡膠材料形成為環板狀(包括將多個部分環板材組合而形成為環板狀的情況)，并配置在基部13a的外表面側。例如，密封構件13b具有在周壁部Ia的內外周方向上縱長的長孔13bl，通過使經由樹脂制或金屬制的墊片13c而穿過長孔13bl的螺栓13d與在基部13a上設置的螺栓孔13al螺合，來固定地裝配于基部13a。密封構件13b在固定地裝配于基部13a的狀態下，其前端部與通氣構件10的滑動接觸部IOa壓力接觸。需要說明的是，密封構件13b也可以在裝配于基部13a的狀態下，在長孔13bl與螺栓13d的軸部之間的間隙的范圍內相對于基部13a而在周壁部Ia的內外周方向上可動。這種情況下，密封構件13b當受到朝向外周方向的力時，與基部13a的一面或另一面滑動接觸的同時向外周方向移動，且其前端部以與上述的力相稱的力而與通氣構件10的滑動接觸部IOa壓力接觸。另外，也可以取代上述的螺栓13d而使用銷。
[0108]如圖6所示，在旋轉滾筒I的下方外周側設有管道狀的通氣構件(排氣構件)10。通氣構件10經由在內部殼體4的內部設置的排氣通路11而與排氣管道12連通。通氣構件10具備:與旋轉滾筒I的密封環13和分隔部14滑動接觸的圓弧狀的滑動接觸部IOa ；在滑動接觸部IOa的一部分上設置的通氣口(排氣口)10b。在旋轉滾筒I的周壁部Ia上設置的密封環13和分隔部14在旋轉滾筒I的旋轉時，與通氣構件10的滑動接觸部IOa滑動接觸，由此在通氣口 IOb的區域上形成由多個分隔部14沿旋轉方向以規定間隔分隔的多個通氣空間Cl。S卩，由軸向兩端部的密封環13、在旋轉方向上相鄰的兩個分隔部14及周壁部Ia的外周形成一個通氣空間Cl，該通氣空間Cl在通氣口 IOb的區域上沿著旋轉方向形成有多個。在本實施方式中，通過將分隔部14分別配置在多邊形的周壁部Ia的各頂部la2和各邊面Ial上，由此在通氣口 IOb的區域上形成比周壁部Ia的頂部la2的個數(邊面Ial的個數)多的個數的通氣空間Cl。多個通氣空間Cl可以一部分或全部具有不同的旋轉方向尺寸(分隔部14的配置間隔為不等間隔)，但優選全部具有相同的旋轉方向尺寸(分隔部14的配置間隔為等間隔)。另外，分隔部14在各頂部la2向以旋轉滾筒I的軸心為中心的放射方向延伸，且在各邊面Ial向與各邊面Ial正交的方向延伸，但也可以形成為全部的分隔部14向放射方向延伸的結構，另外，還可以形成為至少一個分隔部14向旋轉方向的前方側或后方側(優選后方側)傾斜的結構。
[0109]另外，在本實施方式中，內部殼體4的下部構成清洗桶4a(也參照圖1)，通氣構件10設置在清洗桶4a的內部。在旋轉滾筒I的清洗時，向清洗桶4a供給清洗水等清洗液L。在通氣構件10和清洗桶4a上分別獨立地設有排液口 10c、4b。在清洗桶4a上設有將混有氣泡的清洗液向清洗桶4a的清洗液中噴射的氣泡流噴射噴嘴(發泡射流噴嘴)(圖示省略)。另外，在通氣構件10的內部配置有噴射清洗液的清洗噴嘴10d、10e，在排氣通路11的內部配置有噴射清洗液的清洗噴嘴11a，在內部殼體4的上部空間配置有噴射清洗液的清洗噴嘴4c、4d。
[0110]圖7是從上方觀察噴嘴移動機構9而得到的局部剖視圖。在本實施方式中，噴嘴移動機構9具備:使前表面面板2b與噴射噴嘴單元5 —起向旋轉滾筒I的軸線X方向移動的軸向移動機構9A ;使前表面面板2b與噴射噴嘴單元5 —起在圖2中單點劃線所示的第一位置Pl和實線所示的第二位置P2之間進行回旋移動的噴嘴位置調整機構9B。軸向移動機構9A將相互平行地配置的滑動軸9a、9b、對滑動軸9a、9b的沿著軸線X1、X2 (與旋轉滾筒I的軸線X平行)的軸向移動進行滑動引導的滑動軸承部9c、9d及滑動導軌9e、9f作為主要的構成要素。另外，噴嘴位置調整機構9B將對滑動軸9a、9b的繞軸線X1、X2的轉動進行支承的轉動軸承部9g、9h和使滑動軸9b轉動的轉動驅動部9i作為主要的構成要素。
[0111]滑動軸9a的前端部與在前表面面板2b的內表面側安裝的上下運動機構8的箱8a連接，滑動軸9a的后端部經由在轉動軸承部9g的殼體上設置的滑動銷9j而以滑動自如的方式裝配于滑動導軌9e。另外，在滑動軸9a的內部貫通裝配有配管硬管9k。在該配管硬管9k的內部收容有向噴射噴嘴單元5的各噴射噴嘴5a供給噴霧化氣體(霧化空氣)等的配管軟管，上述的配管軟管經由支承管6的內部而與各噴射噴嘴5a連接。
[0112]滑動軸9b的前端部與在前表面面板2b的內表面側安裝的回旋軸部9m連接，滑動軸％的后端部經由在轉動軸承部9h的殼體上設置的滑動銷9n而以滑動自如的方式裝配于滑動導軌9f。回旋軸部9m具備:在滑動軸9b的前端部裝配的偏心構件9ml ;固定于偏心構件9ml上的偏心銷9m2 ;將偏心銷9m2支承為相對于前表面面板2b的內表面壁轉動自如的偏心軸承部9m3。偏心銷9m2的軸心X3從滑動軸9b的軸線X2偏離規定量。
[0113]轉動驅動部9i具備驅動電動機9il、將驅動電動機9il的轉動力向滑動軸9b傳遞的齒輪機構9i2。驅動電動機9iI安裝在轉動軸承部9h (及/或轉動軸承部9g)的殼體上，轉動驅動部9i能夠與滑動軸9b (及/或滑動軸9a) —起進行軸向移動。當轉動驅動部9i的驅動電動機9il旋轉時，其轉動力經由齒輪機構9i2而向滑動軸9b傳遞，使滑動軸9b繞軸線X2轉動。并且，當滑動軸9b繞軸線X2轉動時，裝配在滑動軸9b的前端部上的偏心構件9ml進行轉動，使固定在偏心構件9ml上的偏心銷9m3 (軸心X3)由偏心軸承部9m3進行轉動支承的同時繞滑動軸％的軸線X2進行回旋移動。由此，如圖2所示，前表面面板2b以與旋轉滾筒I的軸線X平行的滑動軸9a的軸線Xl為回旋中心(在與軸線Xl正交的平面內)，在該圖中單點劃線所示的第一位置Pl與實線所示的第二位置P2之間進行回旋移動。
[0114]圖2所示的前表面面板2b的第一位置Pl和第二位置P2與圖8所示的噴射噴嘴單元5的第一位置P1’和第二位置P2’對應。第一位置Pr是噴射噴嘴單元5位于比旋轉滾筒I的前端開口部Ie的直徑靠內徑側的位置的噴射噴嘴單元5的位置，換言之，是噴射噴嘴單元5在不旋轉滾筒I的前端開口部Ie與發生干涉的情況下能夠進行軸向移動的噴射噴嘴單元5的位置。第二位置P2’是噴射噴嘴單元5的至少噴射噴嘴5a位于比旋轉滾筒I的前端開口部Ie的直徑靠外徑側，且相對于包含旋轉滾筒I的軸線X的鉛垂面V而位于旋轉滾筒I的旋轉方向A的前方側的噴射噴嘴單元5的位置。在該第二位置P2’處，當噴射噴嘴單元5進行軸向移動時，與旋轉滾筒I的前端開口部Ie發生干涉。第二位置P2’既可以是粉粒體的處理時的噴射噴嘴單元5的設置位置，也可以是比該設定位置靠上方或下方的位置。在后者的情況下，通過上下運動機構8使噴射噴嘴單元5從第二位置P2’向上述設定位置移動或從上述設定位置向第二位置P2’移動。在圖7所示的例子中，第二位置P2’是粉粒體的處理時的噴射噴嘴單元5的設置位置。需要說明的是，圖8表示粉粒體層S的表層部SI位于相對高的位置時(粉粒體的處理量多時)的噴射噴嘴單元5的設置位置P2’(實線)和粉粒體層S的表層部SI位于相對低的位置時(粉粒體的處理量少時)的噴射噴嘴單元5的設置位置P2’(虛線)。另外，在本實施方式中，在第二位置P2’處以噴射噴嘴單元5的噴射噴嘴5a向鉛垂下方噴霧出噴射液的方式(以噴射噴嘴5a的噴出口朝向鉛垂下方的方式)設定噴射噴嘴5a的方向。需要說明的是，噴射噴嘴5a的噴霧位置能夠通過上下運動機構8在上下方向上進行調整。
[0115]圖9表示在旋轉滾筒I的前端開口部Ie側設置的供氣部Al。在本實施方式中，供氣部Al具備:在外殼2的前端部的腔室2a配置的作為氣流控制部的氣流引導板20 ;用于形成將經由供氣管道21供給的熱風或冷風等處理氣體向氣流引導板20引導的通路部24a的通路構件24。氣流引導板20具備朝向從前端開口部Ie離開的方向的一邊部20a和從一邊部20a向接近前端開口部Ie的方向折彎的另一邊部20b，該氣流引導板20在前端開口部Ie的范圍內，相對于包括旋轉滾筒I的軸線X的鉛垂面V而配置在成為旋轉方向后方側(在該圖中為右側)的區域所對應的位置上。另外，氣流引導板20以從下方朝向上方而逐漸接近鉛垂面V的方向的傾斜姿態配置。通路構件24裝配在外殼2的前端壁上，前表面側由前表面面板2b閉塞，由此在腔室2a內形成通路部24a。通路部24a的上部與供氣管道21的供氣口 21a連通。氣流引導板20固定在通路構件24的下部的前表面側部分上，或與通路構件24的下部的前表面側部分一體形成。需要說明的是，在腔室2a的內部配置有噴出清洗液的清洗噴嘴22，在通路部24a的內部配置有噴出清洗液的清洗噴嘴23。從供氣管道21的供氣口 21a供給的處理氣體通過通路部24a而被導向氣流引導板20，并由上述的形態的氣流引導板20引導而從前端開口部Ie向旋轉滾筒I的內部流入。因此，如圖8所示，向旋轉滾筒I的內部流入的處理氣體成為指向旋轉滾筒I內的空間部的流動，該旋轉滾筒I內的空間部相對于粉粒體的處理時的噴射噴嘴單元5的設置位置P2’靠粉粒體層S的上方，且相對于噴射噴嘴單元5而成為背面側。
[0116]如圖1所示，在旋轉滾筒I的后端開口部Ig側設置的供氣部A2構成為:在供氣腔室31內配置氣流引導板32，該供氣腔室31由具有與未圖示的供氣管道連接的連接口 30a的腔室構件30的內部空間和旋轉滾筒I的延伸部If的內部空間構成，通過氣流引導板32對經由供氣管道而向供氣腔室31供給的熱風或冷風等處理氣體進行引導，來將該處理氣體從后端開口部Ig向旋轉滾筒I的內部供給。腔室構件30與延伸部If的后端部連接。在本實施方式中，氣流引導板32由一個或多個支承構件32a支承，具有規定角度0 I而呈傾斜狀地配置在延伸部If的內部空間中。另外，在本實施方式中，氣流引導板32由圖10所示那樣的半圓形狀的板構件形成，以圓弧部32a沿著延伸部If的內周面(與后端開口部Ig直徑相同或大致相同)且邊部32b朝向噴射噴嘴單元5的背面側的方式，配置成相對于包含旋轉滾筒I的軸線X的鉛垂面V傾斜規定角度0 2的姿態。因此，經由供氣管道向供氣腔室31供給的處理氣體由氣流引導板32引導，由此指向旋轉滾筒I內的空間部而從后端開口部Ig向旋轉滾筒I的內部流入，該旋轉滾筒I內的空間部相對于粉粒體的處理時的噴射噴嘴單元5的設置位置P2’靠粉粒體層S的上方，且相對于噴射噴嘴單元5而成為背面偵U。需要說明的是，噴出清洗液的清洗噴嘴33將氣流引導板32貫通而設置。另外，在腔室構件30的內部配置有噴出清洗液的清洗噴嘴34。
[0117]如圖6所示，在粉粒體的處理時，旋轉滾筒I向該圖中A方向進行旋轉，由此周壁部Ia的密封環13和分隔部14與通氣構件10的滑動接觸部IOa滑動接觸。尤其是分隔部14的密封構件14b在內外周方向上可動，其受到伴隨旋轉滾筒I的旋轉的離心力而向外周方向移動，且以與上述的離心力相稱的力而與通氣構件10的滑動接觸部IOa壓力接觸。從旋轉滾筒I的前端部側的供氣部Al和后端部側的供氣部A2向旋轉滾筒I的內部供給的處理氣體通過粉粒體層S而有助于粉粒體層S的干燥之后，經由旋轉滾筒I的周壁部Ia的通氣部(多孔部)向上述的通氣空間Cl進入，并從通氣空間Cl經由通氣口 IOb而向通氣構件10排出。
[0118]分隔部14的密封構件14b在與旋轉滾筒I的旋轉相伴的離心力的作用下，與通氣構件10的滑動接觸部IOa壓力接觸而對通氣空間Cl進行密封，因此密封構件14b不受分隔部14的尺寸或安裝的誤差、密封構件14b的磨損引起的尺寸變化、旋轉滾筒I的軸心的振動、外殼的變形等影響，始終以規定力(與離心力相稱的力)與通氣構件10的滑動接觸部IOa壓力接觸。因此，對通氣空間Cl的密封性穩定，能夠更有效地防止排氣的泄漏、短路的產生。另外，構成分隔部14的各部件的尺寸形狀管理也比較容易。而且，沒有過大的壓力接觸力引起的密封構件14b的異常磨損，且污染的產生降低，并且密封構件14b的更換頻率也變少。另一方面，即使在更換密封構件14b的情況下，其更換作業也比較容易。并且，在本實施方式中，通過將分隔部14配置在多邊形的周壁部Ia的各頂部la2和各邊面Ial上，由此在通氣口 IOb的區域形成比周壁部Ia的頂部la2的個數(邊面Ial的個數)多的個數的通氣空間Cl，因此進一步有效地防止排氣的短路的產生。
[0119]在粉粒體的處理時(旋轉滾筒I的旋轉時)，粉粒體層S的表層部SI成為朝向旋轉方向A的前方側而以上升斜度傾斜的狀態，從噴射噴嘴5a接受噴射液的噴霧后的表層部SI的粉粒體粒子從接受噴射液的噴霧后的位置(噴射區段)向傾斜下方側(圖6所示的B方向)流動的期間，受到噴射液的延展和適度的干燥(干燥區段)。通過將噴射噴嘴單元5設置在相對于粉粒體層S的表層部SI而成為傾斜方向上位的位置的第二位置P2’，由此從噴射噴嘴5a接受噴射液的噴霧后的表層部SI的粉粒體粒子向傾斜下方側B流動時的流動距離變得相當大，能夠有效地進行噴射液的延展和干燥。而且，在本實施方式中，在第二位置P2’處，噴射噴嘴單元5的噴射噴嘴5a朝向粉粒體層S而向鉛垂下方噴霧出噴射液，因此從噴射噴嘴5a接受噴射液的噴霧后的表層部SI的粉粒體粒子通過噴射液的噴霧壓力而促進向傾斜下方側的流動。
[0120]在旋轉滾筒I的前端部側的供氣部Al中，由氣流引導板20引導且指向旋轉滾筒I內的空間部而供給到旋轉滾筒I的內部的處理氣體在該空間部內流速降低之后，如圖6中空心箭頭所示，從比噴射區段靠傾斜下方側的干燥區段向粉粒體層S進入，并通過粉粒體層S而從通氣構件10的通氣口 IOb排出，其中，該旋轉滾筒I內的空間部在粉粒體層S的上方，且相對于噴射噴嘴單元5成為背面側。指向噴射噴嘴單元5的背面側的空間部而供給處理氣體的結構、處理氣體從比噴射區段靠傾斜下方側的干燥區段向粉粒體層S進入的情況、以及上述空間部內的處理氣體的流速降低的效果相結合，從而進一步有效地防止從噴射噴嘴5a噴霧出的噴射液的噴射圖案因處理氣體的氣流而紊亂的現象。另外，通過處理氣體的流速降低，從而不會引起粉粒體層S的表層部SI處的處理氣體的氣流的回彈，因此難以產生氣流的回彈引起的灰塵的產生或飛散。而且，在粉粒體層S的傾斜方向上位的位置(噴射區段)被從噴射噴嘴5a噴霧出噴射液后的表層部SI的粉粒體粒子向傾斜下方側的干燥區段流動，從而噴射液在該粉粒體粒子的表面進行某程度延展之后與處理氣體的氣流接觸，因此更難以發生灰塵的產生或飛散。
[0121]另外，在旋轉滾筒I的后端部側的供氣部A2中，由氣流引導板32引導且從后端開口部Ig指向旋轉滾筒I內的空間部而供給到旋轉滾筒I的內部的處理氣體在該空間部內流速降低之后，從比噴射區段靠傾斜下方側的干燥區段向粉粒體層S進入，并通過粉粒體層S而排出，其中，該旋轉滾筒I內的空間部在粉粒體層S的上方，且相對于噴射噴嘴單元5成為背面側。指向噴射噴嘴單元5的背面側的空間部而供給處理氣體的結構、處理氣體從比噴射區段靠傾斜下方側的干燥區段向粉粒體層S進入的情況、以及上述空間部內的處理氣體的流速降低的效果相結合，從而進一步有效地防止從噴射噴嘴5a噴霧出的噴射液的噴射圖案因處理氣體的氣流而紊亂的現象。另外，通過處理氣體的流速降低，從而不會引起粉粒體層S的表層部SI處的處理氣體的氣流的回彈，因此難以產生氣流的回彈引起的灰塵的產生或飛散。而且，在粉粒體層S的傾斜方向上位的位置(噴射區段)被從噴射噴嘴5a噴霧出噴射液后的表層部SI的粉粒體粒子向傾斜下方側的干燥區段流動，從而噴射液在該粉粒體粒子的表面進行某程度延展之后與處理氣體的氣流接觸，因此更難以發生灰塵的產生或飛散。
[0122]如上所述，從噴射噴嘴單元5的噴射噴嘴5a向粉粒體層S噴霧出的膜材料液等噴射液在與旋轉滾筒I的旋轉相伴的攪拌混合作用下，在各粉粒體粒子的表面上延展，并由通過粉粒體層S的處理氣體干燥。由此，在各粉粒體粒子的表面形成涂敷被膜。
[0123]在粉粒體的處理完成而將噴射噴嘴單元5從旋轉滾筒I的內部向外部拉出時，首先，使噴嘴移動機構9中的噴嘴位置調整機構9B的轉動驅動部9i的驅動電動機9il (參照圖7)工作，使滑動軸9b繞軸線X2轉動，并且使偏心銷9m3 (軸心X3)繞軸線X2進行回旋移動，從而使前表面面板2b以滑動軸9a的軸線Xl為回旋中心，從圖2中實線所示的第二位置P2向單點劃線所示的第一位置Pl進行回旋移動。由此，在前表面面板2b上安裝的噴射噴嘴單元5從圖8所示的第二位置P2’向第一位置P1’進行回旋移動，從而能夠在不與旋轉滾筒I的前端開口部Ie發生干涉的情況下向旋轉滾筒I的軸線X方向移動。需要說明的是，在將噴射噴嘴單元5設定為圖8中實線所示的第二位置P2’時，通過上下運動機構8，使噴射噴嘴單元5移動到虛線所示的第二位置P2’后，使其進行回旋移動。之后，通過手動或者通過氣缸等適當的軸向驅動機構使噴嘴移動機構9中的軸向移動機構9A工作，從而使噴射噴嘴單元5和前表面面板2b —起向旋轉滾筒I的軸線X方向移動，由此能夠將噴射噴嘴單元5從前端開口部Ie向旋轉滾筒I的外部拉出(參照圖1)。此時，軸向移動機構9A的滑動軸9a、9b由滑動軸承部9c、9d及滑動導軌9e、9f進行滑動引導，由此前表面面板2b及噴射噴嘴單元5能夠向旋轉滾筒I的軸線X方向順利地移動。
[0124]另一方面，在將噴射噴嘴單元5從旋轉滾筒I的外部向內部插入時，與上述相反，首先，在使前表面面板2b位于圖2中單點劃線所示的第一位置Pl的狀態下，使噴射噴嘴單元5和前表面面板2b —起向旋轉滾筒I的軸線X方向移動，從而將噴射噴嘴單元5從前端開口部Ie向旋轉滾筒I的內部插入。之后，使噴嘴移動機構9的噴嘴位置調整機構9B的轉動驅動部9i的驅動電動機9il工作，從而使前表面面板2b以滑動軸9a的軸線Xl為回旋中心而回旋移動到圖2中實線所示的第二位置P2。由此，在前表面面板2b上安裝的噴射噴嘴單元5從圖8所示的第一位置P1’向第二位置P2’進行回旋移動而設定在粉粒體的處理時的位置上。需要說明的是，在將噴射噴嘴單元5設定在圖8中實線所示的第二位置P2’時，通過上下運動機構8，使噴射噴嘴單元5從虛線所示的第二位置P2’向實線所示的第二位置P2’移動。
[0125]在清洗旋轉滾筒I時，如圖6所示，首先，向清洗桶4a供給清洗水等清洗液L。供給到清洗桶4a中的清洗液L從旋轉滾筒I的周壁部Ia的通氣部(多孔部)向旋轉滾筒I的內部進入，并且從通氣構件10的通氣口 IOb還向排氣構件的內部進入。這樣，在清洗桶4a中積存了清洗液之后，使旋轉滾筒I旋轉，并從未圖示的氣泡流噴射噴嘴向清洗液中噴射清洗液的氣泡流的同時進行清洗。通過清洗桶4a的清洗液中的旋轉滾筒I的旋轉和從氣泡流噴射噴嘴向清洗液中噴出的清洗液的噴流及氣泡的協作效果，從而能夠有效地清洗旋轉滾筒I的周壁部或通氣部、旋轉滾筒I的內部或通氣構件10的內部等。
[0126]并且，在本實施方式中，由于在旋轉滾筒I的周壁部Ia設有分隔部14，因此在旋轉滾筒I的旋轉時，通過分隔部14使清洗桶4a的清洗液向旋轉方向前方流動，并且將清洗液中的氣泡保持在分隔部14的旋轉方向前方側，且使其經由周壁部Ia的通氣部(多孔部)而向旋轉滾筒I的內部流通。即，通過周壁部Ia的通氣部的清洗液的流通速度容易變得緩慢，在通氣部(通氣孔)的孔壁面等中封存清洗液中的氣泡，從而存在無法充分地得到清洗力的情況，但通過分隔部14使通過通氣部的清洗液的流通速度提高，因此難以引起氣泡的封存，使氣泡的流通性提高。因此，將特別難以清洗的周壁部Ia的通氣部也能夠有效地清洗。另外，清洗桶4a的清洗液由分隔部14從液面L向旋轉方向前方掬起，從而還能夠期待向周壁部Ia飛濺起到的飛濺清洗的效果。通過這樣的飛濺清洗的效果，從而不僅是旋轉滾筒I的周壁部la，還能夠期待促進旋轉滾筒I的內部的噴射噴嘴單元5或擋板等的清洗。而且，通過分隔部14向旋轉方向的移動，從而在分隔部14的旋轉方向前面側的清洗液中產生正壓，在旋轉方向背面側的清洗液中產生負壓，因此產生清洗液從分隔部14的旋轉方向前方側的通氣部(通氣孔)向旋轉滾筒I的內部流入，并從旋轉方向背面側的通氣部(通氣孔)向旋轉滾筒I的外部流出這樣的清洗液的循環流/渦流。通過該清洗液的循環流/渦流，使清洗力提高。需要說明的是，周壁部Ia的各頂部即使在未設置分隔部14的情況下，在其周邊部也產生某程度的上述的清洗液的循環流/渦流，但周壁部Ia的各邊面在未設置分隔部14時，尤其在旋轉方向中央的周邊部，清洗液的循環變得緩慢。因此，從清洗性這一點出發，分隔部14設置在周壁部Ia的各邊面上設置是有效的，為了促進各邊面的旋轉方向中央的周邊部處的清洗液的循環，優選將一個或多個分隔部14設置在各邊面上。另夕卜，優選在旋轉方向上相鄰的分隔部14間的間隔比具有最大高度的分隔部14的高度大。
[0127]在上述那樣進行旋轉滾筒I的清洗之后，將清洗液從排液口 10c、4b經由圖1所示的排液管4c而排出。
[0128]圖11?圖13簡要地表示分隔部14的變形例。在圖11所示的變形例中，在3形截面的基部14a上裝配平板狀的密封構件14b。在圖12所示的變形例中，在具有長度方向的開口部的四方筒狀的基部14a上裝配具有矩形截面的寬幅部14bl的平板狀的密封構件14b，在圖13所示的變形例中，在具有長度方向的開口的三角筒狀的基部14a上裝配具有梯形截面的寬幅部14bl的平板狀的密封構件14b。在上述的變形例中，密封構件14b當受到與旋轉滾筒I的旋轉相伴的離心力時，與基部14a進行滑動接觸的同時向外周方向移動(在圖11?圖13中，將基部14a與密封構件14b之間的間隙非常夸張地示出)，且其前端部以與上述離心力相稱的力而與通氣構件10的滑動接觸部IOa壓力接觸。需要說明的是，在圖12及圖13所示的變形例中，在組裝、分解時等，密封構件14b的寬幅部14bl與基部14a的開口部卡合，由此來防止密封構件14b從基部14a的脫落。
[0129]圖14簡要地示出分隔部14的又一變形例。在該變形例中，在圓形截面的基部14a上以轉動自如的方式裝配平板狀的密封構件14b。密封構件14b當受到與旋轉滾筒I的旋轉相伴的離心力時，向相對于基部14a而立起的方向轉動，且其前端部以與上述離心力相稱的力而與通氣構件10的滑動接觸部IOa壓力接觸。
[0130]圖15簡要地表示分隔部14的又一變形例。在該變形例中，在基部14a與密封構件14b的相對置的滑動接觸面上分別形成多個槽14a2和多個槽14b2。槽14a2和槽14b2分別向外周方向延伸。在旋轉滾筒I的清洗時，清洗液經由槽14a2、槽14b2而向基部14a與密封構件14b的滑動接觸部進入，由此使該滑動接觸部的清洗性提高。需要說明的是，這樣的槽只要在基部14a與密封構件14b的相對置的滑動接觸面中的至少一方形成即可。另夕卜，這樣的槽也可以在相對于外周方向傾斜或正交的方向上形成。
[0131]圖16表示另一實施方式的旋轉滾筒I。在該實施方式中，旋轉滾筒I的周壁部Ia由圓筒狀的通氣構件40隔開規定的間隔而從外周側覆蓋,在通氣構件40的內周40a與周壁部Ia的外周之間遍及整周而形成有空間部C。在周壁部Ia的軸向兩端部設有從端部側閉塞該空間部C的密封環13，在周壁部Ia的外周設有多個分隔部14，這多個分隔部14沿旋轉方向以規定間隔對空間部S進行分隔。上述的密封環13和分隔部14與上述的實施方式同樣，在旋轉滾筒I的旋轉時，分別與通氣構件40的內周面40a滑動接觸。通過多個分隔部14沿旋轉方向以規定間隔將空間部C分隔，由此在周壁部Ia的外周側形成被劃分成規定的旋轉方向尺寸的多個通氣空間Cl。S卩，由通氣構件40的內周40a、軸向兩端部的密封環13、在旋轉方向上相鄰的兩個分隔部14及周壁部Ia的外周形成一個通氣空間Cl，該通氣空間Cl在周壁部Ia的外周側沿著旋轉方向形成有多個。
[0132]通氣構件40在其一部分上具有通氣口(排氣口)40b。在本實施方式中，通氣口40在通氣構件40的下部以規定的旋轉方向尺寸和軸向尺寸形成。另外，在通氣構件40的通氣口 40b上連接通氣腔室41，在通氣腔室41上連接通氣管道42。在通氣構件40的通氣口 40b與通氣腔室41的連接部分上設有用于防治干燥氣體的泄漏的封閉構件43。
[0133]從旋轉滾筒I的前端部側的供氣部Al和后端部側的供氣部A2供給到旋轉滾筒I的內部的處理氣體通過粉粒體層S，有助于粉粒體層S的干燥之后，經由旋轉滾筒I的周壁部Ia的通氣部(多孔部)向上述的通氣空間Cl進入，并從通氣空間Cl經由通氣口 40b而向通氣腔室41排出。需要說明的是，也可以是在通氣構件40的規定位置設置供氣口，從該供氣口向旋轉滾筒I的內部供給氣體的結構。其他的事項依照上述的實施方式，因此省略重復的說明。
[0134]圖17表示在旋轉滾筒I的前端開口部Ie側設置的供氣部Al的另一實施方式。該實施方式的供氣部Al在外殼2的前端部設置供氣腔室40，且在供氣腔室40中設置氣流回旋部43來作為氣流控制部。供氣腔室40的前表面由前表面面板2b閉塞，供氣腔室40的后部與旋轉滾筒I的前端開口部Ie連通。另外，在供氣腔室40上連接供氣管道41，從而經由供氣管道41供給的熱風或冷風等處理氣體流入到供氣腔室40中之后，從供氣腔室40經由前端開口部Ie而向旋轉滾筒I的內部流入。
[0135]如圖17(A)所示，供氣管道41在從旋轉滾筒I的前方側觀察時，在如下位置具有供氣口 41a，該位置為相對于包含旋轉滾筒I的軸線X的鉛垂面V而靠該圖右側，且相對于包含旋轉滾筒I的軸線X的水平面而靠該圖上側的位置。另外，如圖17(B)所示，供氣管道41從斜上方對設定在上述的位置的供氣口 41a供給處理氣體。因此，從供氣管道41經由供氣口 41a而供給到供氣腔室40中的處理氣體的流動在從旋轉滾筒I的前方側觀察時，在供氣腔室40內繞順時針回旋。而且，在本實施方式中，如圖17(B)所示，在供氣腔室40的規定區域，即在以旋轉滾筒I的軸線X為中心的區域設置對處理氣體的回旋進行引導的凸起部42。在該圖所示的例子中，凸起部42具有使前表面面板2b的一部分在上述規定區域向旋轉滾筒I的前端開口部Ie的方向凸起的形態。另外，該凸起部42的周面形成為朝向前端開口部Ie逐漸縮徑的圓錐狀的引導表面42a，在凸起部42的前端裝配有檢修窗42b。在供氣腔室40內產生的處理氣體的回旋由凸起部42的圓錐狀的引導表面42a進行引導，由此回旋的流動增強且穩定，并且被朝向旋轉滾筒I的前端開口部Ie引導。
[0136]從供氣管道41供給到供氣腔室40中的處理氣體在供氣腔室40內回旋，并指向旋轉滾筒I內的空間部而從前端開口部Ie向旋轉滾筒I的內部流入，該旋轉滾筒I內的空間部相對于粉粒體的處理時的噴射噴嘴單元5的設置位置P2’靠粉粒體層S的上方，且相對于噴射噴嘴單元5而成為背面側。其他的事項依照上述的實施方式，因此省略重復的說明。
[0137]圖18表示在旋轉滾筒I的后端開口部Ig側設置的供氣部A2的另一實施方式。該實施方式的供氣部A2在與旋轉滾筒I的后端側的延伸部If連接的腔室構件30的內部空間(供氣腔室30a)設有氣流回旋部51來作為氣流控制部。在腔室構件30上連接供氣管道52，熱風或冷風等處理氣體從供氣管道52沿切線方向向供氣腔室30a供給。
[0138]從供氣管道52沿切線方向供給到供氣腔室30a中的處理氣體的流動在從旋轉滾筒I的后方側觀察時，在供氣腔室30a內繞順指針回旋。而且，在本實施方式中，在供氣腔室30a的規定區域，即在以旋轉滾筒I的軸線X為中心的區域設置對處理氣體的回旋進行引導的凸起部53。該凸起部53的周面形成為朝向后端開口部lg(參照圖1)逐漸縮徑的圓錐狀的引導表面53a，在凸起部53a的前端裝配有檢修窗53b。在供氣腔室30a內產生的處理氣體的回旋由凸起部53的圓錐狀的引導表面53a引導，由此回旋的流動變強且穩定，并且被朝向旋轉滾筒I的后端開口部Ig引導。
[0139]從供氣管道52供給到供氣腔室30a中的處理氣體在供氣腔室30a內回旋，向延伸部lf(參照圖1)的內部空間(在本實施方式中，未配置圖1所示的氣流引導板32。)進入，并指向旋轉滾筒I內的空間部而從后端開口部Ig向旋轉滾筒I的內部流入，該旋轉滾筒I內的空間部相對于粉粒體的處理時的噴射噴嘴單元5的設置位置P2’靠粉粒體層S的上方，且相對于噴射噴嘴單元5而成為背面側。其他的事項依照上述的實施方式，因此省略重復的說明。
[0140]在以上的實施方式中，在旋轉滾筒I的前端部側設置供氣部Al，且在后端部側設置供氣部A2，但也可以形成為僅設置前端部側的供氣部Al或進僅設置后端部側的供氣部A2的結構。另外，供氣部Al可以形成為與供氣部A2同樣的結構，相反，供氣部A2也可以形成為與供氣部Al同樣的結構。
[0141]另外，在以上的實施方式中，噴嘴移動機構9具有具備兩根滑動軸9a、9b的兩軸結構，但也可以形成為僅具備與滑動軸9對應的一根滑動軸的單軸結構。這種情況下，設置對該一根滑動軸進行滑動引導的滑動軸承部、對該滑動軸的繞軸線的轉動進行支承的轉動軸承部、對該滑動軸進行轉動驅動的轉動驅動部，通過該轉動驅動部來對該滑動軸進行轉動驅動，由此使前表面面板2b以該滑動軸的軸線為回旋中心而進行回旋移動。
[0142]圖19表示與旋轉滾筒I的清洗相關的另一實施方式。在旋轉滾筒I的下方外周側設有清洗槽17。清洗槽17設置在內部殼體4的內部，相對于旋轉滾筒I的旋轉方向A，由旋轉方向前方側的桶部17a和旋轉方向后方側的延伸部17b構成。桶部17a的與旋轉滾筒I的周壁部對置的部分開口(開口部17al)，且在圖19的紙面垂直方向的側壁部17a2、17a3上分別具備與旋轉滾筒I的密封環13和流動板14’滑動接觸的圓弧狀的滑動接觸部17a4。在本實施方式中，流動板14’由上述的實施方式的分隔部14的基部14a和密封構件14b構成。另外，桶部17a在圖19的紙面垂直方向里側的側壁部17a2上具備排氣口 17a5。在該排氣口 17a5上連接未圖示的排氣管道。并且，桶部17a具備將混有氣泡的清洗液向清洗槽17中噴射的氣泡流噴射噴嘴(發泡射流噴嘴)17a5。延伸部17b具備圓弧狀的滑動接觸部17bl，該滑動接觸部17bl從桶部17a的旋轉方向后端部沿著旋轉滾筒I的周壁部Ia而向旋轉方向后方側呈圓弧狀地延伸，且與旋轉滾筒I的密封環13 (及流動板14’)滑動接觸。該滑動接觸部17bl與桶部17a的滑動接觸部17a4平滑地連續。需要說明的是，延伸部17b也可以由單純的圓弧板構成，來與旋轉滾筒I的密封環13(及流動板14’ )滑動接觸。
[0143]在桶部17a的底壁部17a6和側壁部17a7上分別設有排水口 17a8和溢流口 17a9。排水口 17a8經由排水閥17a9而與配水管17al0連接，溢流口 17a9經由溢流閥17all而與配水管17al0連接。
[0144]在清洗旋轉滾筒I時，首先，在使排水閥17a9關閉且使溢流閥17all打開的狀態下，通過氣泡流噴射噴嘴17a4或其他供液機構將清洗水等清洗液向清洗槽17供給。供給到清洗層17上的清洗液從旋轉滾筒I的周壁部Ia的通氣部(多孔部)還向旋轉滾筒I的內部進入,使清洗槽7內水位上升到圖19所示的液面L。這樣，在清洗槽17中積存清洗液后，使旋轉滾筒I旋轉，并從氣泡流噴射噴嘴17a4向清洗液中噴射清洗液的氣泡流的同時進行清洗。通過清洗桶17的清洗液中的旋轉滾筒I的旋轉和從氣泡流噴射噴嘴17a4向清洗液中噴出的清洗液的噴流及氣泡的協作效果，從而能夠有效地清洗旋轉滾筒I的周壁部或通氣部、旋轉滾筒I的內部等。另外，通過從氣泡流噴射噴嘴17a4噴射的清洗液的氣泡流，從而還促進桶部17a的內部的清洗。
[0145]清洗時，因從氣泡流噴射噴嘴17a4向清洗液中始終噴射的氣泡流，而液面L的附近的清洗液從溢流口 17a9溢出，并經由溢流閥17all而向配水管17al0排出。分散在清洗液中的不溶性的污染成分(粒子狀的污染物或油成分等)通過氣泡的作用而向液面L浮起，并伴隨從溢流口 17a9溢出的清洗液而向配水管17al0排出。因此，能夠維持清洗槽17中的清洗液的清潔度，防止清洗液中的污染成分向旋轉滾筒I再附著，從而提高清洗效果。
[0146]在上述那樣進行旋轉滾筒I的清洗之后，打開排水閥17a9而將清洗槽17的清洗液向配水管17al0排出。在排出清洗液之后，當將排水閥17a9和溢流閥關閉時，在清洗槽17的桶部17a的內部形成空間部，而該空間部在粉粒體的處理時成為排氣腔室。即，桶部17a兼作排氣構件。
[0147]在本實施方式中，流動板14’由固定在周壁部Ia的外周的基部14a和以向周壁部Ia的內外周方向的移動被允許的狀態裝配于基部14a的密封構件14b構成，但也可以將流動板的整體由氟系樹脂(PTFE等)的合成樹脂材料或硬質橡膠等合成橡膠材料等形成為一體的平板狀而固定于周壁部Ia的外周。另外，各流動板還可以以相對于旋轉滾筒I的旋轉方向成為前傾姿態的方式固定于周壁部Ia的外周。由此，在流動板的旋轉方向前面側促進上述的清洗液的正壓產生。而且，各流動板不局限于平板狀的構件，也可以為具有旋轉方向尺寸從周壁部Ia朝向外周側逐漸增大的截面形狀、例如倒三角形狀或倒梯形形狀的截面形狀的板狀的構件。由此，在流動板的旋轉方向前面側促進上述的清洗液的正壓產生，并且在流動板的旋轉方向背面側促進上述的清洗液的負壓產生。另外，也可以取代氣泡流噴射噴嘴7a，而使用使清洗槽7的清洗液中產生氣泡的氣泡生成噴嘴。其他的事項依照上述的實施方式，因此省略重復的說明。
[0148]圖20表示與旋轉滾筒I的清洗相關的另一實施方式。在旋轉滾筒I的下方外周側設有清洗槽17。清洗槽17設置在內部殼體4的內部，相對于旋轉滾筒I的旋轉方向A，由旋轉方向前方側的桶部18和旋轉方向后方側的延伸部19構成。
[0149]桶部18的與旋轉滾筒I的周壁部Ia對置的部分開口(開口部18a)，且在圖20的紙面垂直方向的側壁部18b、18c分別具備與旋轉滾筒I的密封環13滑動接觸的圓弧狀的第一環滑動接觸部18d(參照圖21)。流動板14’不與第一環滑動接觸部18d滑動接觸。
[0150]另外，桶部18具備:在側壁部18b與側壁部18c之間從上壁部18e的旋轉滾筒I側的端部到清洗液的液面LI的位置周邊而在側視下沿著密封環13延伸的圓弧壁部18f ；從圓弧壁部18f的端部向斜下方延伸的第一引導部18g。
[0151]桶部18的圓弧壁部18f為其旋轉滾筒I側的面與密封環13的周緣曲率相同的圓弧板，具有與流動板14’的軸線方向的整個區域滑動接觸的第一流動板滑動接觸部18h，但密封環13不與圓弧壁部18f滑動接觸。第一引導部18g為在側視下隨著向旋轉方向后方側轉移而從密封環13逐漸分離的形狀的板。
[0152]另外，桶部18在圖20的紙面垂直方向里側的側壁部18b上具備連接口 18i。在該連接口 18i上連接有未圖示的通氣管道。而且，桶部18具備將混有氣泡的清洗液向清洗槽17中噴射的氣泡流噴射噴嘴(發泡射流噴嘴)10’。
[0153]延伸部19從桶部18的旋轉方向后端部沿著旋轉滾筒I的周壁部Ia而向旋轉方向后方側呈圓弧狀延伸。在本實施方式中，延伸部19為板狀，具備主體部19a和第二引導部19b。主體部19a為沿著密封環13的單純的圓弧板。
[0154]延伸部19的主體部19a的旋轉滾筒I側具有:與旋轉滾筒I的一對密封環13滑動接觸的一對第二環滑動接觸部19c ;與在上述的第二環滑動接觸部19c之間形成的流動板14’滑動接觸的第二流動板滑動接觸部19d(參照圖21)。第二環滑動接觸部19c與桶部18的第一環滑動接觸部18d平滑地連續。流動板14’的軸線方向的整個區域與主體部19a的第二流動板滑動接觸部19d滑動接觸。延伸部19的第二引導部19b為隨著向旋轉方向后方側轉移而從密封環13逐漸分離的形狀的板。需要說明的是，延伸部19的沿著軸線方向的截面也可以為-狀，從而與流動板14’的軸線方向的僅兩端部和密封環13滑動接觸。
[0155]在桶部18的底壁部18 j和側壁部18k上分別設有排水口 81和溢流口 18m。排水口 81經由排水閥11a’而與排水管lib’連接，溢流口 18m經由溢流閥11c’而與排水管lib’連接。
[0156]在清洗旋轉滾筒I時，首先，在使排水閥11a’關閉且使溢流閥11c’打開的狀態下，通過氣泡流噴射噴嘴10’或其他供液機構，將清洗水等清洗液向清洗槽17供給。供給到清洗槽17中的清洗液從旋轉滾筒I的周壁部Ia的通氣部(多孔部)還向旋轉滾筒I的內部進入，使清洗槽17內水位上升到圖20所示的液面LI。這樣，在清洗槽17中積存清洗液后，使旋轉滾筒I旋轉，并從氣泡流噴射噴嘴10’向清洗液中噴射清洗液的氣泡流的同時進行清洗。
[0157]當旋轉滾筒I旋轉時，在旋轉滾筒I內，通過旋轉滾筒I的內壁(通過旋轉滾筒I的旋轉能量)使清洗液流動，從而使旋轉滾筒I內的清洗液的液面L2以旋轉方向前方側變高且旋轉方向后方側變低的方式傾斜。
[0158]并且，在清洗液內形成有將流動板14’的密封構件14b限制在比最外周側的位置靠內周側的位置的限制區域R1、使密封構件14b相對于外周側開放的開放區域R2。在限制區域Rl中，通過作為限制構件的延伸部19的主體部19a來限制密封構件14b的位置。在開放區域R2中，在開口部18a處使密封構件14b相對于外周側開放，且使密封構件14b通過離心力而位于最外周側。開放區域R2比限制區域Rl靠旋轉滾筒I的旋轉方向前方側。
[0159]需要說明的是，在第一及第二引導部18g、19b，對流動板14’的密封構件14b進行引導。通過第一引導部18g，在開放區域R2能夠使位于最外周側的密封構件14b向圓弧壁部18f的旋轉滾筒I側順利地移動。在第二引導部19b，能夠使在限制區域的旋轉方向后方側通過離心力而位于外周側的密封構件14b向延伸部19的主體部19a的旋轉滾筒I側順利地移動。另外，第一引導部18g還具有將向旋轉滾筒I的旋轉方向前方流動過來的清洗液向旋轉滾筒I內部引導的功能。
[0160]并且，通過旋轉滾筒I進 行旋轉，從而周壁部Ia的密封環13和流動板14’分別與延伸部19的第二環滑動接觸部19c和第二流動板滑動接觸部19d滑動接觸。由此，在旋轉滾筒I的周壁部Ia的外周側形成由流動板14’劃分出的空間S。換言之，在限制區域Rl處，相鄰的流動板14’之間的空間S的軸線方向兩端側由密封環13閉塞，并且該空間S的外周側由延伸部19的主體部19a閉塞。另外，流動板14’的密封構件14b在內外周方向上可動，其受到與旋轉滾筒I的旋轉相伴的離心力而向外周方向移動，并以與該離心力相稱的力而與延伸部19的第二流動板滑動接觸部19d壓力接觸。
[0161]需要說明的是，在桶部18處，周壁部Ia的密封環13也與側壁部18b、18c的第一環滑動接觸部18d滑動接觸，且流動板14’也與桶部18的圓弧壁部18f的第一流動板滑動接觸部18h滑動接觸。由此，在旋轉滾筒I的周壁部Ia的外周側形成由流動板14’劃分出的空間。換言之，相鄰的流動板14’之間的空間的軸線方向兩端側由密封環13閉塞，且該空間的外周側由桶部18的側壁部18b、18c和圓弧壁部18f閉塞。另外，在桶部18的圓弧壁部18f?處，流動板14’的密封構件14b通過離心力而與延伸部19的第一流動板滑動接觸部18h壓力接觸。
[0162]在清洗液內，通過這樣的限制區域R1、開放區域R2或第一引導部18g，產生例如圖20中箭頭所示的流動。
[0163]在開放區域R2處，流動板14’的密封構件14b相對于外周側開放，因此密封構件14b通過離心力而位于最外周側的位置。由此，流動板14’向外周方向伸長，流動板14’整體的內外周方向的長度變長。因此，能夠使流動板14’對清洗液的攪拌力強化。并且，在流動板14’的作用下流動的清洗液通過離心力而從旋轉滾筒I內部向外部噴出的作用也被強化。
[0164]另一方面，在限制區域Rl處，密封構件14b被限制在比最外周側的位置靠內周側的位置，因此與開放區域R2的流動板14’相比，流動板14’整體的內外周方向的長度短。因而，與與開放區域R2相比，上述的流動板14’起到的清洗液的噴出作用弱，從而即使清洗液向外部噴出也容易向旋轉滾筒I內部返回。
[0165]根據上述的理由，在旋轉滾筒I內外產生大的清洗液的流動，流動板14’周邊或旋轉滾筒I內外的清洗液的流動變得活躍。因此，在本發明的涂敷裝置中，能夠有效地清洗旋轉滾筒I。
[0166]另外，如上所述，清洗中，旋轉滾筒I內的清洗液形成以旋轉方向前方變高且后方變低的方式傾斜的液面L2。在該狀態下，根據旋轉滾筒I內的液面與清洗槽內的液面L3的高度的關系，清洗液通常從液面高度低的旋轉滾筒I的旋轉方向的后方側向旋轉滾筒I內部流入。相反，清洗液從液面高度高的旋轉方向前方側向旋轉滾筒I外部流出。此外，通過在限制區域Rl的旋轉方向前方側的開放區域R2處使流動板14開放，從而來自旋轉滾筒I的旋轉方向前方側的清洗液向旋轉滾筒I外部排出的排出量增加。通過來自旋轉滾筒I的前方側的清洗液向旋轉滾筒I外部排出的排出量增加，由此來自旋轉滾筒I的旋轉方向后方側的清洗液向旋轉滾筒I內部流入的流入量增加。其結果是，旋轉滾筒I內外的清洗液的流通變得活躍，清洗性提高。
[0167]另外，如上所述，在流動板14’周邊，在離心力的作用下從旋轉滾筒I的內部向外部產生清洗液的流動。并且，在流動板14’的軸線方向的兩端部，在離心力的作用下也向外部產生清洗液的流動。然而，在流動板14’之間的空間S的軸線方向兩端側未由密封環13閉塞的情況下，例如在流動板14’的軸線方向兩端部與密封環13分離的情況下，可能產生以下這樣的狀態。
[0168]S卩，在流動板14’的軸線方向的兩端部，清洗液未必從旋轉滾筒I內部經由流動板14’而向流動板14’的外部流動。這是由于即使流動板14’的軸線方向端部周邊的清洗液向外部流動，由于清洗液從流動板14’的端部的軸線方向外側向流動板14’的端部周邊流A (流入漏泄)，因此妨礙旋轉滾筒I的內部的清洗液向流動板14’的端部周邊流出的情況。因而，在旋轉滾筒I的周壁部的軸線方向兩端存在通氣部的清洗力降低的情況。
[0169]與此相對，在本實施方式中，由于流動板14’之間的空間S的軸線方向兩端側由密封環13閉塞，因此可抑制上述那樣的流入漏泄。因而，能夠以使清洗液的流動成為旋轉滾筒I內部一通氣部一流動板14’ 一流動板14’的外部的方式對清洗液進行引導，從而使通氣部/旋轉滾筒I的清洗力提高。
[0170]另外，在清洗時，伴隨滾筒的旋轉而通過流動板14’使清洗液流動，因此清洗槽17內的清洗液整體產生大循環的流動。另外，在流動板14’從清洗液抽出時，在液面附近產生清洗液的往復的流動，在清洗槽17內的液面上產生用L3例示出的波浪。上述的清洗液的流動或波浪有助于清洗槽17自身的清洗，因此也能夠將清洗槽17有效地清洗。
[0171]圖22、23表示將內部殼體4的下部作為清洗槽17使用的實施方式。清洗槽17由內部殼體4的下部的底壁部17a和側壁部17b、17c構成，底壁部17a相對于旋轉滾筒I保持規定的間隔，且沿著旋轉滾筒I的旋轉方向延伸。另外，在本實施方式中，如圖23所示，清洗槽17在其內部具有桶部18。桶部18的底壁部由清洗槽17的底壁部17a構成。桶部18的側壁部18b、18c分別相對于清洗槽17的側壁部17b、17c分離規定距離。桶部18經由向旋轉滾筒I的旋轉方向前方延伸的排氣通路18n而與未圖示的排氣管道連通。在粉粒體處理時，清洗槽17的桶部18作為通氣管道的一部分而發揮功能。另外，在清洗時，將清洗液向清洗槽17及桶部18供給至液面LI為止。
[0172]桶部18整體從旋轉滾筒I旋轉方向的后方側的側壁部18o沿著旋轉滾筒I的旋轉方向向前方延伸規定距離，且在與旋轉滾筒I對置的部位具有開口部18a。并且，桶部18在側壁部18b、18c之間具備側視下沿著密封環13延伸的圓弧壁部18p。圓弧壁部18p從側壁部18o的上端延伸到開口部18a的側緣。圓弧壁部18p為其旋轉滾筒I側的面與密封環13的周緣曲率相同的圓弧板，且為與旋轉滾筒I旋轉方向前方(在圖22中為左側)的圓弧壁部18f同樣的形狀。流動板14’的軸線方向的整個區域與圓弧壁部18p的旋轉滾筒I側的面滑動接觸，但密封環13不與圓弧壁部18p的旋轉滾筒I側的面滑動接觸。在清洗時，桶部18的圓弧壁部18p作為限制構件發揮功能，來限制密封構件14b的位置，從而形成限制區域R1。另外，在清洗槽17中的桶部18的旋轉滾筒I的旋轉方向后方(在圖22中為右側)不存在限制構件，在清洗時形成開放區域R2。另一方面，在本實施方式中，在桶部18的開口部18a也形成開放區域R2。因此，桶部18的開口部18a的開放區域R2比限制區域Rl靠旋轉滾筒I的旋轉方向前方側。其他的結構與上述的實施方式實質上相同，因此省略說明。
[0173]以下，說明與在旋轉滾筒的內部配設的擋板相關的實施方式。
[0174]如圖24所示，旋轉滾筒的側壁部I’將周壁部62、端部63、64、連接周壁部62和端部63、64的端壁部65、66作為主要的構成要素。端部63構成旋轉滾筒的口環部和前端開口部。
[0175]周壁部62在側壁部I’的軸線方向中間沿著周向而與軸線平行地形成。在本實施方式中，周壁部62的橫截面形狀為十邊形，且該周壁部62由與該十邊形的各邊對應的10個矩形平板狀的邊壁部67構成。并且，周壁部62的各邊壁部67由多孔板構成，具有通氣性。而且，為了提高粉粒體層的攪拌混合效果，在周壁部62的內表面設有上層擋板68和下層擋板69這兩種擋板。周壁部62的內表面在端壁部65側的設有擋板的擋板設置區域R1’和端壁部66側的未設置擋板的擋板未設置區域R2’的軸線方向(圖24的縱向)上被劃分為兩個區域。在本實施方式中，上層擋板68設置20片，全部為同一形狀及同一尺寸，下層擋板69設置5片，全部為同一形狀及同一尺寸。上層擋板68和下層擋板69都為平板狀，以相對于邊壁部67垂直的方式設置。雖然后面詳述，但上層擋板68距邊壁部67的內表面的高度能夠調整。與此相對，下層擋板69相對于邊壁部67固定，距邊壁部67的內表面的高度無法變更。
[0176]5片下層擋板69沿周向等間隔設置。另外，各下層擋板69跨4個邊壁部67從擋板設置區域R1’的端壁部65側端緣延伸到端壁部66側端緣。在周向上相鄰的下層擋板69的一半設置在相同的2個邊壁部67上。并且，在下層擋板69之間分別各設有4片上層擋板68。在下層擋板69之間，上層擋板68分別設置在不同的邊壁部67上。各上層擋板68在邊壁部67內從周向一端側附近延伸到另一端側附近。上層擋板68和下層擋板69的延伸方向相對于旋轉滾筒的周向(圖24的橫向)都以同一角度傾斜，但它們的傾斜的方向彼此相反。另外，上層擋板68的延伸方向中央位于邊壁部67的周向中央。下層擋板69的延伸方向中央位于在4片邊壁部67的周向中央側相鄰的邊壁部67的邊界線上。另外，在軸線方向(圖24的縱向)上將擋板設置區域R1’劃分為4個時，以在各區域配置5片上層擋板68的方式配設上層擋板68。[0177]端壁部65由以端壁部65的周壁部62側的端緣為底邊的10個三角形狀面和以端壁部65的端部63側的端緣為底邊的10個三角形狀面構成，端壁部66由以端壁部66的周壁部62側的端緣為底邊的10個三角形狀面和以端壁部66的端部64側的端緣為底邊的10個三角形狀面構成。在端壁部65上，在本實施方式中設有一片排出板70，該排出板70在將粉粒體排出時對粉粒體進行引導。排出板70跨4個三角形狀面而從端壁部65的周壁部62側的端緣延伸到端壁部65的端部63側的端緣，其延伸方向相對于旋轉滾筒的周向(圖24的橫向)傾斜。
[0178]旋轉滾筒在粉粒體的處理中，向圖24中空心箭頭所示的方向旋轉。由于上層擋板68的延伸方向和下層擋板69的延伸方向不同，因此通過上層擋板68使粉粒體移動的方向和通過下層擋板69使粉粒體移動的方向不同。由此，與擋板的延伸方向為I種的情況相比，能夠使攪拌混合效率良好。
[0179]在從旋轉滾筒排出粉粒體時，旋轉滾筒向圖24的空心箭頭的相反方向旋轉。粉粒體通過下層擋板69向端壁部65移動，而且，在端壁部65處由排出板70引導而移動到端部63，并積存于端部63，之后被后續的粉粒體壓出而從開口部排出。
[0180]如圖25所示，上層擋板68的上端68a距邊壁部67的內表面的高度Hl比下層擋板69的上端69a的高度H2高。需要說明的是，在此，高度的方向或上下方向為相對于邊壁部67垂直的方向(只要沒有特別說明，以下相同)。另外，上和下是指圖中的上下，根據旋轉滾筒的旋轉狀態而與實際的上下不同(只要沒有特別說明，以下相同)。在圖25中，上層擋板68的存在區域與下層擋板69的存在區域不重疊。即，上層擋板68的下端68b的高度H1’比下層擋板69的上端69a的高度H2高。在本實施方式中，上層擋板68的寬度Wl與下層擋板69的寬度W2相同。
[0181]如圖26所示，上層擋板68為一對側邊朝向上端68a逐漸接近的大致梯形形狀的板狀。在該實施方式的涂敷裝置上設有高度調整機構71，該高度調整機構71能夠從旋轉滾筒的外部對上層擋板68的上端68a距邊壁部67的內表面的高度Hl進行調整。在本實施方式中，通過高度調整機構71來沿著高度方向變更上層擋板68的位置，從而對上層擋板68的高度Hl進行調整。高度調整機構71具有將旋轉滾筒的邊壁部67以進退自如的方式貫通的高度調整銷72。如以下詳述的那樣，高度調整銷72的一端部72a以裝拆自如的方式裝配于上層擋板68，另一端部72b以裝拆自如的方式裝配于旋轉滾筒的外側，通過將該高度調整銷72更換成長度不同的高度調整銷，能夠沿著高度方向變更上層擋板68的位置。
[0182]如圖27(A)所示，高度調整銷72包括一端部72a、另一端部72b、從一端部72a沿著高度方向延伸到另一端部72b的截面圓形狀的棒狀的主體部72c。在一端部72a上形成有外螺紋。在另一端部72b設有相對于主體部72c而向徑向外側突出的截面六邊形形狀的凸緣。
[0183]如圖26所示，在上層擋板68的下端相互分離而設有一對銷接受部68c。該銷接受部68c為截面圓形狀的棒狀，其上端側例如通過焊接等固定于上層擋板68。在銷接受部68c的下端設有螺紋孔68d，該螺紋孔68d在內周面形成有與高度調整銷72的一端部72a的外螺紋螺合的內螺紋。銷接受部68c的外徑與高度調整銷72的主體部72c的外徑相同。
[0184]在邊壁部67上相互分離地設有一對貫通孔67a，在邊壁部67的外側的貫通孔17a的周緣例如通過焊接等固定有安裝凸臺73。在安裝凸臺73的外周形成有外螺紋。并且，在安裝凸臺73上安裝有截面六邊形形狀的固定螺母74，該固定螺母74在螺紋孔中形成有與安裝凸臺73的外螺紋螺合的內螺紋。在安裝凸臺73的下端面與固定螺母74的螺紋孔的底面之間夾持固定高度調整銷72的另一端部72b的凸緣。貫通孔67a和安裝凸臺73的內徑設定得比高度調整銷72和上層擋板68的銷接受部68c的外徑稍大，以使高度調整銷72和上層擋板68的銷接受部68c相對于邊壁部67進退自如。
[0185]另行準備相對于圖27(A)所示的高度調整銷72而與其主體部72c的長度L不同的高度調整銷、例如圖27(B)所示那樣的主體部72c的長度L為0的(不具有主體部72c)高度調整銷72’。通過將一對高度調整銷72更換為一對高度調整銷72’，由此沿著高度方向變更上層擋板68的位置，從而調整上層擋板68的高度。在此，以下說明通過將高度調整銷72更換為高度調整銷72’來變更上層擋板68的高度Hl的情況。
[0186]首先，從圖26所示的狀態將一對固定螺母74這兩方從安裝凸臺73取下。接著，將一對高度調整銷72同時向外側拉出，由此如圖26的雙點劃線所示，使上層擋板66向下方移動到其下端6b與邊壁部67抵接為止。在該狀態下，上層擋板68的一對銷接受部68c嵌合到貫通孔67a及安裝凸臺73內，銷接受部68c的下端面和安裝凸臺73的下端面成為同一高度方向位置。
[0187]然后，通過六角扳手等使高度調整銷72的另一端部72b的凸緣旋轉，來解除高度調整銷72的一端部72a的外螺紋與上層擋板68的銷接受部68c中的螺紋孔68d的內螺紋的螺合，由此將高度調整銷72從上層擋板68取下。然后，將該高度調整銷72更換為高度調整銷72’，并通過六角扳手等使該高度調整銷72’的另一端部72b的凸緣旋轉，由此使一端部72a的外螺紋與銷接受部68c的內螺紋螺合。之后，旋轉固定螺母74而將其安裝于安裝凸臺73，由此將上層擋板68以圖26中雙點劃線所示的下端68b與邊壁部67抵接的狀態固定。在該狀態下，上層擋板68的上端68a距邊壁部67的內表面的高度為H3。因此，上層擋板68的從高度Hl向高度H3的變更作業完成。需要說明的是，若與以上的說明同樣地更換為主體部72c的長度L與高度調整銷72’不同的高度調整銷，則能夠使上層擋板68成為另外的聞度。
[0188]上層擋板68無論在高度Hl的狀態下，還是在高度H3的狀態下，都沿著相對于邊壁面67垂直的方向。另外，在本實施方式中，由于上層擋板68的寬度Wl與下層擋板69的寬度W2相等，因此上層擋板68的變更后的高度H3與圖25所示的下層擋板69的高度H2相等。
[0189]需要說明的是，在該上層擋板68的從高度Hl向高度H3的變更作業時，優選安裝有成為對象的上層擋板68的邊壁部67在旋轉滾筒整體中位于下方且成為水平。在該情況下，即使將兩方高度調整銷72取下的狀態下，銷接受部68c也成為嵌合到貫通孔67a及安裝凸臺73內的狀態，因此容易實施作業。
[0190]以上那樣構成的本實施方式的涂敷裝置的旋轉滾筒能有享有以下這樣的效果。
[0191]能夠從旋轉滾筒的外部調整上層擋板68的上端68a距邊壁部67的內表面的高度。因此，通過該上層擋板68的高度的調整，能夠使上層擋板68的高度與粉粒體量對應。另外，該上層擋板68的高度的調整能夠從旋轉滾筒的外部實施，因此人不需要為了該調整而進入到旋轉滾筒中。因而，用于上層擋板68的高度調整的作業容易，即使一個人也能夠進行作業，并且，還能夠使作業時間變短。另外，在用于上層擋板68的高度調整的作業之后不需要進行清洗，因此也不需要該清洗所需要的時間或成本。
[0192]另外，在本實施方式中，通過更換高度調整銷72來調整上層擋板68的高度，因此能夠較大地變更上層擋板68的高度。
[0193]另外，在現有的盤涂敷裝置中，如圖28所示，在旋轉滾筒D向空心箭頭Ahl所示的方向旋轉時，在粉粒體層G中產生下面這樣的區域。即，為通過旋轉滾筒D的旋轉而形成在旋轉滾筒D的內表面附近，且使粉粒體向箭頭Ah2所示的方向運動的輸送區域；在重力的作用下形成在粉粒體層G的表面附近，且使粉粒體向箭頭Ah3所示的方向運動的滾落區域；形成在輸送區域與滾落區域之間(粉粒體層G的中央附近)，且粉粒體的運動緩慢的停滯區域Rs0在該停滯區域Rs中，粉粒體的運動緩慢，因此粉粒體層G整體的混合可能不充分。與此相對，在本實施方式的旋轉滾筒中，如圖25所示，通過使上層擋板68的高度成為高的狀態，由此能夠將擋板形成為上層擋板68和下層擋板69這兩層結構。若在該擋板為兩層結構的狀態下使旋轉滾筒旋轉，則能夠使上述的成為停滯區域Rs的區域的粉粒體運動，從而能夠使粉粒體層G整體適當地混合。
[0194]在上述的實施方式中，通過高度調整機構71沿著高度方向變更上層擋板68的位置，由此來調整上層擋板68的高度，但也可以如以下說明的那樣，通過高度調整機構71使擋板相對于高度方向傾斜，來調整擋板的高度。
[0195]在圖29?圖31所示的實施方式中，擋板75也為平板狀且相對于邊壁部67垂直地配設。擋板75的高度調整機構71具有以擺動自如的方式支承于邊壁部67的擺動軸76，在該擺動軸76上安裝對擋板75進行支承的一對支承棒77。若詳細敘述，則擺動軸76使其外周面以擺動自如的方式支承于在基板78的內側設置的凹部78a，該基板78作為邊壁部67的一部分而固定于邊壁部67。在基板78的外側設有部分圓柱狀的安裝部78b。并且，支承棒77以擺動自如的方式穿過在基板78和基板78的安裝部78b上形成的長孔的貫通孔78c，且該支承棒77的一端固定于擋板7。在支承棒77的另一端形成有外螺紋，在該外螺紋上經由罩構件79而螺合螺母80的內螺紋，由此支承棒77的另一端以裝拆自如的方式裝配于安裝部78b的外周。
[0196]在本實施方式中，松開螺母80，并如圖30中空心箭頭所示，將擋板75和支承棒77經由擺動軸76而相對于邊壁部67轉動之后，擰緊螺母80，從而使擋板75相對于高度方向傾斜。由此，變更擋板75的上端75a距邊壁部67的內表面的高度。
[0197]接著，在圖32?圖34所示的實施方式中，擺動軸76使其外周面以擺動自如的方式支承于在軸支承部81上設置的凹部81a，該軸支承部81固定在邊壁部67的內側。并且，支承棒77以擺動自如的方式貫通在邊壁部67上形成的長孔的貫通孔67b，且該支承棒77的一端固定于擋板75。在支承棒77的另一端形成有外螺紋，在該外螺紋上螺合螺母80的內螺紋，由此將支承棒77的另一端以裝拆自如的方式裝配于邊壁部67的外側。在圖32中，擋板75沿著垂直方向，并如圖34(A)所示，相對于高度方向不傾斜。
[0198]在本實施方式中，為了使擋板75相對于高度方向傾斜，而使用相對于邊壁部67或支承棒77裝拆自如的圖33所示的安裝構件82。在該安裝構件82上設有:相對于與邊壁部67抵接的安裝面82a而具有規定的傾斜角度的一對貫通孔82b ;相對于貫通孔82b垂直的面82c。該安裝構件82的一對貫通孔82b設定成能夠供一對支承棒77穿過。
[0199]在本實施方式中，如下面那樣，使擋板75相對于高度方向傾斜。在從圖34(A)所示的狀態(擋板傾斜角度0° )取下螺母80后，將支承棒77穿過安裝構件82的貫通孔82b，并安裝螺母80而使其與面82c抵接。由此，使擋板75相對于高度方向傾斜，成為圖34(B)所示的狀態(擋板傾斜角度30° )，從而來變更擋板75的上端距邊壁部67的內表面的高度。若使用具有相對于安裝面82a傾斜角度不同的貫通孔82b的安裝構件82，則如圖34(C)(擋板傾斜角度45° )、圖34 (D)(擋板傾斜角度60° )所示那樣能夠變更擋板75的傾斜角度。這樣將擋板75變更傾斜角度，從而變更該擋板75的上端75a距邊壁部67的內表面的高度。
[0200]在圖35?圖37所示的實施方式中，擺動軸76使其軸端以擺動自如的方式支承于在一對軸支承部81上設置的凹部81b，這一對軸支承部81固定在邊壁部67的外側。并且，支承棒77以擺動自如的方式貫通在邊壁部67上形成的長孔的貫通孔67c，且該支承棒77的一端固定于擋板75,另一端固定于擺動軸76。在擺動軸76的兩端面的每一面設有螺紋孔76a?76c (參照圖37)。該螺紋孔76a?76c距軸芯的距離全部相同，且彼此所成的中心角為90°。另一方面，在一對軸支承部81上分別設有貫通孔81c?81f。在圖35中，經由軸支承部81的貫通孔81c而向螺紋孔76a螺合螺栓83 (圖37 (A)所示的板傾斜角度0°的狀態)。
[0201]在本實施方式中，為了使擋板75相對于高度方向傾斜，而變更供螺栓83穿過的軸支承部81的貫通孔81c?81f和供螺栓83螺合的螺紋孔76a?76c。例如，在使螺栓83經由貫通孔81d而與螺紋孔76b螺合的情況下，如圖37 (B)所示，使擋板75傾斜30°。另夕卜，在使螺栓83經由貫通孔Sle而與螺紋孔76c螺合的情況下，如圖37 (C)所示，擋板75傾斜45°。進而，在使螺栓83經由貫通孔Slf而與螺紋孔76a螺合的情況下合，如圖37 (D)所示，擋板75傾斜60°。這樣，在本實施方式中，變更擋板75的上端75a距邊壁部67的內表面的高度。
[0202]在圖38所示的實施方式中，高度調整機構11具有擋板24。在邊壁部67上設有長孔的貫通孔85。擋板84經由該貫通孔85而向邊壁部67進退自如。在擋板84的一端設有安裝部84a，該安裝部84a例如通過螺栓等固定機構(圖示省略)而固定于邊壁部67的外表面。
[0203]在變更擋板84的上端84b距邊壁部67的內表面的高度的情況下，解除安裝部84a的固定，將擋板84從邊壁部67卸下。接著，使圖38(B)所示的高度不同的擋板84穿過邊壁部84的貫通孔85，并將該擋板84的安裝部84a固定于邊壁部67的外表面。該擋板84的更換作業也能夠全部從邊壁部7 (旋轉滾筒)的外部進行。
[0204]在圖39所示的又一實施方式中，周壁部62在側壁部I’的軸線方向中間沿著周向與軸線平行地形成。為了提高粉粒體層的攪拌混合效果，在周壁部62的內表面上設有距周壁部的內表面的高度相對高的上層擋板68和相對低的下層擋板69這兩種擋板。周壁部62沿周向劃分為配置有擋板68、69的單位區域U和在單位區域U的軸線方向兩側存在的未配置擋板68、69的區域X。
[0205]在本實施方式中，周壁部62的橫截面形狀為十二邊形，該周壁部62由與該十二邊形的各邊對應的12個矩形平板狀的邊壁部67構成。并且，周壁部62的各邊壁部67由多孔板構成，具有通氣性。
[0206]在圖示例中，上層擋板68設置有8片，全部為同一形狀及同一尺寸。下層擋板69設有4片，全部為同一形狀及同一尺寸。上層擋板68和下層擋板69都為平板狀，以相對于邊壁部67垂直的方式設置。上層擋板68為一對側邊朝向上端68a逐漸接近的大致梯形形狀的板狀。上層擋板68能夠通過與上述的實施方式同樣的高度調整機構，來調整距邊壁部67的內表面的高度。與此相對，下層擋板69相對于邊壁部67固定，無法變更距邊壁部67的內表面的高度。
[0207]4片下層擋板69沿周向等間隔設置。另外，各下層擋板69跨邊壁部67從周壁部62的端壁部65側端緣附近延伸到端壁部66側的端緣附近。在周向上相鄰的下層擋板69的端部設置在同一邊壁部67上。并且，在下層擋板69之間分別各設有2片上層擋板68。上層擋板68分別設置在不同的邊壁部67上。各上層擋板68在邊壁部67內從周向一端側附近延伸到另一端側附近。
[0208]上層擋板68和下層擋板69的延伸方向都以同一角度相對于旋轉滾筒的周向(圖39的橫向)傾斜，但它們的傾斜的方向彼此相反。該延伸方向相對于周向的傾斜角度例如為15?25°。另外，上層擋板68的延伸方向中央位于邊壁部67的周向中央。下層擋板69的延伸方向中央位于在4片邊壁部67的周向中央側相鄰的邊壁部67的邊界線上。
[0209]如圖39中雙點劃線所示那樣沿著周向分割周壁部62中的單位區域U，由此形成為軸線方向的長度彼此相等的多個(在圖1中為4個)區間S時，在區間S中存在的上層擋板68和下層擋板69個數在區間S之間彼此相同。在圖39中，在各區間S中存在2片上層擋板68和4片下層擋板69。
[0210]端壁部65由以端壁部65的周壁部62側的端緣為底邊的12個三角形狀面和以端壁部65的端部63側的端緣為底邊的12個三角形狀面構成。端壁部66由以端壁部66的周壁部62側的端緣為底邊的12個三角形狀面和以端壁部66的端部64側的端緣為底邊的12個三角形狀面構成。在端壁部65上，在本實施方式中設有4片排出板70，該排出板70在排出粉粒體時對粉粒體進行引導。上述的4片排出板70沿周向等間隔設置。各排出板70跨4個三角形狀面而從端壁部65的周壁部62側的端緣延伸到端壁部65的端部63側的端緣，其延伸方向相對于旋轉滾筒的周向(圖39的橫向)傾斜。排出板70的相對于旋轉滾筒的周向的傾斜的方向與下層擋板69的傾斜的方向相同。
[0211]如圖25、圖26所示，上層擋板68的上端68a距邊壁部67的內表面的高度Hl比下層擋板69的上端69a的高度H2高。上層擋板68經由高度調整銷72等固定于邊壁部67的內表面，且與邊壁部67的內表面之間具有間隙。另一方面，下層擋板69的下端直接固定于邊壁部67的內表面,與邊壁部67的內表面之間不具有間隙。上層擋板68的下端68b的高度H1’為下層擋板69的上端69a的高度H2以上，在本實施方式中，下端68b的高度HI’比上端69a的聞度H2聞。
[0212]上層擋板68也可以如圖40所示，使前端部68e相對于其他的部分傾斜。該傾斜的方向為與處理粉粒體時的旋轉滾筒的旋轉方向相反的一側(旋轉方向后方)。該傾斜角度優選為25?45°，更優選為30?45°。
[0213]當使用這樣使前端部68e傾斜的上層擋板68時，能夠抑制處理中的粉粒體與前端部68e垂直地碰撞，從而能夠抑制粉粒體發生破裂或產生缺口。但是，在前端部68e的傾斜角度比25°小的情況下，或者傾斜角度比45°大的情況下，可能無法充分地得到該效果。
[0214]另外，若使用前端部68e傾斜的上層擋板68，則在粉粒體的排出時(旋轉滾筒的逆旋轉時)，該前端部68e起到將粉粒體掬起的作用。通過該作用，前端部68e效率良好地向下層擋板69的基端部側引導粉粒體，因此單位時間的粉粒體的排出量增加，有助于排出工序時間的縮短。但是，在前端部68e的傾斜角度比30°小的情況下，可能無法充分得到該掬起的作用。
[0215]其他的事項全部依照上述的實施方式，因此省略重復的說明。
[0216]作為使具備上述那樣的擋板的旋轉滾筒按比例增加的方法，例如圖41所示，能夠適用使旋轉滾筒的周壁部62沿著其軸線方向擴張的方法。在圖41中例示的周壁部62上，在軸線方向上排列有3個沿周向整周延伸的單位區域U。各單位區域U中的擋板(上層擋板68、下層擋板69)的配置、形狀及尺寸在單位區域U之間彼此相同。在此，配置為至少包圍位置、方向、個數的概念(以下，相同)。
[0217]但是，在本實施方式中，單位區域U隨著從軸線方向的一端的單位區域U向另一端的單位區域U轉移，順次向周向的一方以等距離錯開。例如圖41中虛線所示，相對于最上方的單位區域U的周向位置E，正中間的單位區域U中的對應的周向位置E向左錯開4個邊壁部67的量，最下方的單位區域中的對應的周向位置E比正中間的單位區域U的周向位置E向左方進一步錯開4個邊壁部67的量。需要說明的是，在本實施方式中，單位區域U沿軸線方向連續排列，但也可以隔著未配置擋板的區域排列。
[0218]圖41的周壁部62的單位區域U中的擋板(上層擋板68、下層擋板69)的配置、形狀及尺寸與圖39所示的周壁部62的單位區域U相同。即，圖41所示的旋轉滾筒是如下這樣的旋轉滾筒:以圖39所示的周壁部62為單位區域U，并將單位區域U的周壁部62的軸線方向排列的個數從I個變更為3個，從而將圖39所示的旋轉滾筒按比例增加。通過該旋轉滾筒的按比例增加，周壁部62在軸線方向上按比例增加為3倍，與此相伴，旋轉滾筒的處理容量大約成為3倍。
[0219]這樣，在具有單位區域U的旋轉滾筒中，能夠適用通過增加該單位區域U的軸線方向的排列數來進行按比例增加的方法。在該方法中，能夠與單位區域U的排列數成正比地增加旋轉滾筒的處理容量。另一方面，在單位區域U中混合的粉粒體量幾乎不變化，因此粉粒體的混合性變得大致相同。即，根據該方法，能夠在抑制混合性變化的同時將旋轉滾筒按比例增加。
[0220]另外，如圖42所示，優選使按比例增加后的每單位區域U的噴射噴嘴N的個數(在圖示例中為I個)在單位區域U之間相同，且使該噴射噴嘴N的個數與按比例增加前的每單位區域U的噴射噴嘴N的個數相同。由此，能夠使每單位區域U的噴射面積在按比例增加的前后大致相同，能夠不需要噴射噴嘴N的設計變更等。另外，同樣進一步優選與單位區域U相對的噴射噴嘴N的噴霧方向或噴霧位置也在按比例增加前后相同。
[0221]另外，如上所述，由于單位區域U沿周向錯開排列，因此如圖41所示，下層擋板69在單位區域U之間連續。另外，例如通過雙點劃線包圍而示出的那樣，夾著下層擋板69而配設的一對上層擋板68沿著下層擋板69等間隔排列。即使假設進一步追加單位區域U并將其同樣地錯開排列，下層擋板69也連續，且一對上層擋板沿著下層擋板69等間隔排列。這樣，在使用該實施方式的單位區域U的按比例增加方法中，在軸線方向上連續重復進行同一形態的擋板配置。從另一觀點來看，在將下層擋板69看作基準時，上層擋板68和下層擋板69在軸線方向上連續地配設成螺旋狀。[0222]因此，圖41所示的按比例增加的旋轉滾筒無論在周向上觀察時，還是在軸線方向上觀察時，都成為大致均勻的擋板68、69的配置。因此，在按比例增加后的旋轉滾筒中，為了使混合性良好而使粉粒體向進深方向(軸線方向)循環或移動變得不重要(不需要)。因此，上層擋板68和下層擋板69的各自的結構能夠形成為重視在微小的區域中使各個粉粒體混合或滾動的結構。另外，不需要旋轉滾筒的進深方向整體的粉粒體的大循環或大移動，從而不需要對粉粒體施加用于大循環或大移動的能量，且由于微小的區域內的粉粒體的混合及滾動而能夠有效地利用能量。換言之，不需要為了提高混合力而較多地施加能量，因此不會對粉粒體施加多余的應力。 [0223]另外，下層擋板69在單位區域之間連續，因此在從旋轉滾筒排出粉粒體時，旋轉滾筒的軸線方向的里側(底壁部側)的粉粒體通過下層擋板69而順利地移動到排出板70。因而，能夠縮短粉粒體從旋轉滾筒排出的的排出時間。
[0224]在此，對將旋轉滾筒按比例增加的情況進行了說明，但也可以通過減少單位區域U的軸線方向的排列數，來使例如圖41所示的旋轉滾筒按比例縮小成圖39所示的旋轉滾筒。
[0225]然而，在圖41中，對于周壁部62的軸線方向的兩端的區域Y(最靠軸邊方向兩端側的上層擋板68與端壁部65、66之間的區域)來說，為了避免與端壁部65、66的干涉，有時省略下層擋板69中的存在于區域Y中的部分。在該情況下，可以看作沿軸線方向排列3個從單位區域U的軸線方向兩端除去與區域Y相同的區域后的單位區域U’。各單位區域U’中的擋板(上層擋板68、下層擋板69)的配置、形狀及尺寸在單位區域U’之間彼此相同。
[0226]另外，如圖43所示，還考慮將2.5個單位區域U沿軸線方向排列來構成周壁部62的情況。在該情況下，相對于最上方的單位區域U的周向位置E，最下方的單位區域中的對應的周向位置E向左方錯開6個邊壁部7的量。并且，在該情況下，可以看作沿軸線方向排列5個將單位區域U在軸線方向中央分割成兩部分而形成的單位區域U”。各單位區域U”中的擋板(上層擋板68、下層擋板69)的配置、形狀及尺寸在單位區域U”之間彼此相同。并且，單位區域U，，隨著從軸線方向的一端的單位區域U”向另一端的單位區域U”轉移順次向周向的一方錯開2個邊壁部7的量。
[0227]以上的實施方式的擋板結構能夠適用于上述的實施方式的涂敷裝置的旋轉滾筒
I。并且，不局限于所謂無封套結構的旋轉滾筒，還能夠適用于裝配有封套的旋轉滾筒。而且，還可以適用于不具有通氣部的旋轉滾筒。
[0228]本發明不局限于具備周壁部的橫截面形狀為多邊形的旋轉滾筒的涂敷裝置，也能夠同樣適用于具備周壁部的橫截面形狀為圓形、圓錐形、多邊圓錐形的旋轉滾筒的涂敷裝置。并且，不局限于所謂無封套結構的涂敷裝置，也能夠同樣適用于在旋轉滾筒的周壁部裝配有封套的結構的涂敷裝置。而且，不局限于旋轉滾筒被驅動而繞與水平線平行或大致平行的軸線旋轉的涂敷裝置，也能夠同樣適用于旋轉滾筒被驅動而繞相對于水平線傾斜的軸線旋轉的涂敷裝置。
[0229]【符號說明】
[0230]I旋轉滾筒
[0231]Ia周壁部
[0232]Ial 邊面
[0233]la2 頂部[0234]10通氣構件
[0235]IOa滑動接觸部
[0236]IOb 通氣 口
[0237]13密封環
[0238]14分隔部
[0239]14a 基部
[0240]14b密封構件
[0241]40通氣構件
[0242]40a 內周
[0243]40b 通氣 口
【權利要求】
1.一種涂敷裝置，具備通氣式的旋轉滾筒，該旋轉滾筒在內部收容應處理的粉粒體且被驅動而繞其軸線旋轉，所述涂敷裝置的特征在于， 所述旋轉滾筒具備周壁部和多個分隔部，該周壁部具有使該旋轉滾筒的內部和外部連通的通氣部，所述多個分隔部在該周壁部的外周沿著旋轉方向以規定間隔設置， 在所述旋轉滾筒的周壁部的外周側配置具有通氣口的通氣構件， 所述多個分隔部分別具備基部和密封構件，該基部固定在所述周壁部的外周，該密封構件以向所述周壁部的內外周方向的移動被允許的狀態裝配于該基部，且在所述旋轉滾筒的旋轉時與所述通氣構件滑動接觸。
2.根據權利要求1所述的涂敷裝置，其特征在于， 在所述周壁部的外周的軸向兩端部分別裝配有環狀的密封環，該密封環在所述旋轉滾筒的旋轉時與所述通氣構件滑動接觸。
3.根據權利要求1或2所述的涂敷裝置，其特征在于， 所述通氣構件配置在所述旋轉滾筒的旋轉方向的規定位置。
4.根據權利要求1或2所述的涂敷裝置，其特征在于， 所述通氣構件以從外周側覆蓋所述旋轉滾筒的周壁部的方式配置。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的涂敷裝置，其特征在于， 所述分隔部的密封構件在所述旋轉滾筒的旋轉時的離心力的作用下被施力而與所述通氣構件壓力接觸。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的涂敷裝置，其特征在于， 所述旋轉滾筒的周壁部具有多邊形的橫截面形狀。
7.根據權利要求6所述的涂敷裝置，其特征在于， 所述多個分隔部配置在所述旋轉滾筒的周壁部的各頂部及各邊面上。
【文檔編號】B01J2/00GK103619458SQ201280032567
【公開日】2014年3月5日 申請日期:2012年9月6日 優先權日:2011年9月6日
【發明者】長谷川浩司, 堀田泰宏, 木下直俊, 遠藤太郎, 福田秀一郎, 內田和弘, 富田陽介, 鐮田人志, 若林一憲 申請人:株式會社保銳士