專利名稱：一種潔凈微環(huán)境的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
一種潔凈微環(huán)境技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實(shí)用新型涉及一種潔凈微環(huán)境，可用于半導(dǎo)體晶圓制造領(lǐng)域中。
背景技術(shù)：
[0002]目前，由于集成電路的集成度越來(lái)越高，而且環(huán)境的要求越來(lái)越嚴(yán)，費(fèi)用越來(lái)越大，且由于沒(méi)有能最大限度地消除人在芯片的加工和清洗過(guò)程中的污染，因此即使生產(chǎn)環(huán)境很好，也不一定能生產(chǎn)出合格產(chǎn)品。在生產(chǎn)工藝中，最終需要有單個(gè)硅晶片的裝卸操作， 通常是操作人員用特殊設(shè)訓(xùn)的鑷子夾住品片的邊緣，或者借助真宅棒產(chǎn)生的吸力從硅晶片的背面拿起或吸起來(lái)。然而，在這過(guò)程中來(lái)自人、鑷子或真空棒的直接粒子污染或非粒子污染仍無(wú)法完全避免。針對(duì)上述問(wèn)題，人們發(fā)明了潔凈微環(huán)境，其可以把生產(chǎn)、加工芯片的部位用高潔凈的微環(huán)境封閉起來(lái)，使操作人員與硅晶片徹底隔開(kāi)。[0003]在潔凈微環(huán)境中，潔凈氣流以均勻的斷面風(fēng)速流經(jīng)工作區(qū)，從而形成高潔凈的工作環(huán)境。潔凈微環(huán)境的風(fēng)量可調(diào)，并可根據(jù)客戶的需要配備日光燈及紫外燈。此外，微環(huán)境可以進(jìn)行拆裝，安裝在客戶指定的任何位置。因此，潔凈微環(huán)境在生物、制藥、航天、航空、半導(dǎo)體、制造等行業(yè)取得了較好的應(yīng)用，是一種理想的輔助設(shè)備。[0004]現(xiàn)有的潔凈微環(huán)境參見(jiàn)附圖f 2所示，包括一潔凈空間I，潔凈空間的頂部設(shè)有氣相過(guò)濾器2和風(fēng)機(jī)3，潔凈空間的底部設(shè)有通氣孔，使?jié)崈艨臻g與整個(gè)潔凈室底部的出氣空間相連通；此外，潔凈空間的側(cè)面還設(shè)有工作臺(tái)4，工作臺(tái)和潔凈空間之間設(shè)有工作臺(tái)出氣口。工作時(shí)，待過(guò)濾氣體由風(fēng)機(jī)吸入，并經(jīng)過(guò)氣相過(guò)濾器過(guò)濾之后進(jìn)入潔凈微環(huán)境的潔凈空間內(nèi)，這些過(guò)濾后的潔凈氣體中，一部分經(jīng)過(guò)潔凈空間底部的通氣孔流出，另一部分通過(guò)潔凈空間的工作臺(tái)出氣口流出，從而形成一空氣循環(huán)系統(tǒng)，如圖2所示。 然而，對(duì)于一些需要深度過(guò)濾的場(chǎng)合，例如待過(guò)濾氣體中的雜質(zhì)含量為lOppb， 而潔凈微環(huán)境的潔凈空間內(nèi)需要達(dá)到的雜質(zhì)含量為lppb，這就需要其氣相過(guò)濾器一直處于高負(fù)荷的工作狀態(tài)，這不僅加重了氣相過(guò)濾器的工作負(fù)擔(dān)，而且也很容易導(dǎo)致氣相過(guò)濾器發(fā)生吸附飽和，降低了氣相過(guò)濾器的使用壽命。發(fā)明內(nèi)容[0006]本實(shí)用新型的發(fā)明目的是提供一種潔凈微環(huán)境。[0007]為達(dá)到上述發(fā)明目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是一種潔凈微環(huán)境，包括一潔凈空間，潔凈空間的頂部設(shè)有氣相過(guò)濾器和風(fēng)機(jī)；潔凈空間的側(cè)面設(shè)有工作臺(tái)，工作臺(tái)和潔凈空間之間設(shè)有工作臺(tái)出氣口 ；所述潔凈空間的一側(cè)設(shè)有一循環(huán)空間，循環(huán)空間和潔凈空間之間設(shè)有氣體通道，循環(huán)空間的出氣口與所述氣相過(guò)濾器連通，使?jié)崈艨臻g、循環(huán)空間和氣相過(guò)濾器構(gòu)成一空氣循環(huán)系統(tǒng)；[0008]所述潔凈空間的底部為封閉系統(tǒng)。[0009]上文中，所述潔凈空間的底部為封閉系統(tǒng)，即潔凈空間的底部是封閉的，不設(shè)有通氣孔；因而該潔凈空間與整個(gè)潔凈室底部的出氣空間是不連通的。[0010]所述氣相過(guò)濾器和風(fēng)機(jī)，以及工作臺(tái)、工作臺(tái)出氣口均為現(xiàn)有技術(shù)。[0011]上述技術(shù)方案中，所述氣體通道內(nèi)設(shè)有氣體調(diào)節(jié)閥。[0012]由于上述技術(shù)方案運(yùn)用，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn)[0013]1、本實(shí)用新型設(shè)計(jì)得到了一種新的潔凈微環(huán)境，在潔凈空間的一側(cè)設(shè)置循環(huán)空間，并使?jié)崈艨臻g、循環(huán)空間和氣相過(guò)濾器構(gòu)成一空氣循環(huán)系統(tǒng)，因而可以利用一部分從潔凈空間里出來(lái)的過(guò)濾后氣體作為氣源，而這部分過(guò)濾后氣體由于具有較低的雜質(zhì)含量，從而降低了氣相過(guò)濾器的工作負(fù)荷，有利于氣相過(guò)濾器的長(zhǎng)期使用。[0014]2、本發(fā)明的裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，易于制備，適于推廣應(yīng)用。
[0015]圖1是背景技術(shù)中潔凈微環(huán)境的結(jié)構(gòu)示意圖；[0016]圖2是圖1的氣流不意圖；[0017]圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例一的結(jié)構(gòu)示意圖；[0018]圖4是圖3的氣流示意圖。其中1、潔凈空間；2、氣相過(guò)濾器；3、風(fēng)機(jī)；4、工作臺(tái)；5、循環(huán)空間；6、氣體通道。
具體實(shí)施方式
[0020]
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述[0021]實(shí)施例一[0022]參見(jiàn)圖3 4所示，一種潔凈微環(huán)境，包括一潔凈空間1，潔凈空間的頂部設(shè)有氣相過(guò)濾器2和風(fēng)機(jī)3 ;潔凈空間的側(cè)面設(shè)有工作臺(tái)4，工作臺(tái)和潔凈空間之間設(shè)有工作臺(tái)出氣口 ；所述潔凈空間的一側(cè)設(shè)有一循環(huán)空間5，循環(huán)空間和潔凈空間之間設(shè)有氣體通道6，循環(huán)空間的出氣口與所述氣相過(guò)濾器連通，使?jié)崈艨臻g、循環(huán)空間和氣相過(guò)濾器構(gòu)成一空氣循環(huán)系統(tǒng)；[0023]所述潔凈空間的底部為封閉系統(tǒng)，可以采用盲板結(jié)構(gòu)。[0024]所述氣體通道內(nèi)設(shè)有氣體調(diào)節(jié)閥。采用該氣體調(diào)節(jié)閥可以調(diào)節(jié)從潔凈空間出去的過(guò)濾后氣體的氣體量。[0025]例如，假設(shè)從整個(gè)潔凈室內(nèi)的某一雜質(zhì)含量(如氯氣含量)為10 ppb，對(duì)于潔凈微環(huán)境而言，待過(guò)濾氣體中的雜質(zhì)含量為10 ppb，而假設(shè)潔凈微環(huán)境內(nèi)要求改雜質(zhì)含量為I ppb，在進(jìn)氣流量相同的條件下，則現(xiàn)有的氣相過(guò)濾器的工作負(fù)荷為從10 ppb處理到I ppb; 而采用本實(shí)施例的潔凈微環(huán)境，假設(shè)所述循環(huán)空間和潔凈空間之間設(shè)有氣體通道6的氣流量為進(jìn)氣量的一般，則此時(shí)的進(jìn)氣口出的雜質(zhì)含量為10*0. 5+1*0. 5=5. 5 ppb，即本實(shí)施例中的氣相過(guò)濾器的工作負(fù)荷為從5. 5 ppb處理到I ppb。由此可見(jiàn)，本實(shí)用新型的潔凈微環(huán)境可以有效降低氣相過(guò)濾器的工作負(fù)荷，有利于氣相過(guò)濾器的長(zhǎng)期使用。
權(quán)利要求1.一種潔凈微環(huán)境，包括一潔凈空間(I)，潔凈空間的頂部設(shè)有氣相過(guò)濾器(2)和風(fēng)機(jī)(3);潔凈空間的側(cè)面設(shè)有工作臺(tái)(4)，工作臺(tái)和潔凈空間之間設(shè)有工作臺(tái)出氣口 ；其特征在于所述潔凈空間的一側(cè)設(shè)有一循環(huán)空間(5)，循環(huán)空間和潔凈空間之間設(shè)有氣體通道(6)，循環(huán)空間的出氣口與所述氣相過(guò)濾器連通，使?jié)崈艨臻g、循環(huán)空間和氣相過(guò)濾器構(gòu)成一空氣循環(huán)系統(tǒng)；所述潔凈空間的底部為封閉系統(tǒng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的潔凈微環(huán)境，其特征在于所述氣體通道內(nèi)設(shè)有氣體調(diào)節(jié)閥。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種潔凈微環(huán)境，包括一潔凈空間，潔凈空間的頂部設(shè)有氣相過(guò)濾器和風(fēng)機(jī)；潔凈空間的側(cè)面設(shè)有工作臺(tái)，工作臺(tái)和潔凈空間之間設(shè)有工作臺(tái)出氣口；所述潔凈空間的一側(cè)設(shè)有一循環(huán)空間，循環(huán)空間和潔凈空間之間設(shè)有氣體通道，循環(huán)空間的出氣口與所述氣相過(guò)濾器連通，使?jié)崈艨臻g、循環(huán)空間和氣相過(guò)濾器構(gòu)成一空氣循環(huán)系統(tǒng)；所述潔凈空間的底部為封閉系統(tǒng)。本實(shí)用新型利用了一部分從潔凈空間里出來(lái)的過(guò)濾后氣體作為氣源，而這部分過(guò)濾后氣體由于具有較低的雜質(zhì)含量，從而降低了氣相過(guò)濾器的工作負(fù)荷，有利于氣相過(guò)濾器的長(zhǎng)期使用。
文檔編號(hào)B01D46/00GK202839558SQ201220483579
公開(kāi)日2013年3月27日 申請(qǐng)日期2012年9月20日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月20日
發(fā)明者楊政諭, 周步東 申請(qǐng)人:亞翔系統(tǒng)集成科技(蘇州)股份有限公司