專利名稱：還原氧化鎢用氫氣凈化干燥塔的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種凈化氫氣用干燥塔，尤其指還原氧化鎢用氫氣的凈化干燥 +
-tB。
背景技術：
在鎢鋼產業中，還原氧化鎢用的氫氣凈化干燥塔，是將一層干燥氫氣用吸附劑層3 設置于所述的進氣口 1與出氣口間2，該層干燥氫氣用吸附劑層3高度超過1. 5米。經測試， 凈化后的氫氣露點高，并且不穩定，所以生產出的碳化鎢中粗顆粒粉末粗細不均，細顆粒粉末則無法生產。
實用新型內容針對現有技術中存在的不足之處，本實用新型提供一種還原氧化鎢用氫氣凈化干燥塔，其生產出的碳化鎢中粗顆粒粉末粗細均勻，且生產出的細顆粒粉末也較均勻。為實現上述目的，本實用新型技術方案為還原氧化鎢用氫氣凈化干燥塔，該干燥塔于上端部設有氫氣進氣口、于下端部設有氫氣出氣口，干燥氫氣用吸附劑層設置于所述的進氣口與出氣口間，所述的干燥氫氣用吸附劑層設為三層，每層間隔設置，且每高度小于1.5米。所述的干燥氫氣用吸附劑層為硅膠層或分子篩層。上述技術方案的有益之處在于本實用新型摒棄了現有技術干燥塔內僅采用一層高度超過1. 5米的干燥氫氣用吸附劑層的結構。由于超過1.5米的硅膠層再生時間短，再生不完全，常達不到最佳的氫氣凈化干燥效果，故，本實用新型是在干燥塔內間隔設置三層的硅膠層或分子篩層，且每高度小于1.5米。經上述結構改造后的干燥塔凈化干燥后氫氣露點明顯降低，狀態穩定。并且生產出的碳化鎢中粗顆粒粉末粗細均勻，細顆粒粉末也較均勻。
圖1是現有技術還原氧化鎢用氫氣凈化干燥塔結構示意圖；圖2是本實用新型還原氧化鎢用氫氣凈化干燥塔結構示意圖。
具體實施方式
現結合附圖和實施例說明本實用新型。如圖1所示的還原氧化鎢用氫氣凈化干燥塔，該干燥塔于上端部設有氫氣進氣口 1、于下端部設有氫氣出氣口 2。本實用新型在現有技術的干燥塔內增加兩層隔板41，硅膠層或分子篩層42堆放于三層隔板41上，且每層高度小于1. 5米，每層硅膠層或分子篩層42 間具有一定的間隙。于進氣口與出氣口間間隔設置的，所述的干燥氫氣用吸附劑層設為，每層間隔設置，且每高度小于1.5米。[0013] 經測試，吸附劑采用硅膠的干燥塔，其凈化干燥的氫氣露點為-20°C，狀態穩定。而吸附劑采用分子篩的干燥塔，其凈化干燥的氫氣露點為_35°C，狀態非常穩定。
權利要求1.還原氧化鎢用氫氣凈化干燥塔，該干燥塔于上端部設有氫氣進氣口、于下端部設有氫氣出氣口，干燥氫氣用吸附劑層設置于所述的進氣口與出氣口間，其特征在于所述的干燥氫氣用吸附劑層設為三層，每層間隔設置，且每高度小于1. 5米。
2.如權利要求1所述的還原氧化鎢用氫氣凈化干燥塔，其特征在于所述的干燥氫氣用吸附劑層為硅膠層。
3.如權利要求1所述的還原氧化鎢用氫氣凈化干燥塔，其特征在于所述的干燥氫氣用吸附劑層為分子篩層。
專利摘要本實用新型公開一種還原氧化鎢用氫氣凈化干燥塔，該干燥塔于上端部設有氫氣進氣口、于下端部設有氫氣出氣口，干燥氫氣用吸附劑層設置于所述的進氣口與出氣口間，所述的干燥氫氣用吸附劑層設為三層，每層間隔設置，且每高度小于1.5米。所述的干燥氫氣用吸附劑層為硅膠層或分子篩層。本實用新型摒棄了現有技術干燥塔內僅采用一層高度超過1.5米的干燥氫氣用吸附劑層的結構。本實用新型是在干燥塔內間隔設置三層的硅膠層或分子篩層，且每高度小于1.5米。經上述結構改造后的干燥塔凈化干燥后氫氣露點明顯降低，狀態穩定。并且生產出的碳化鎢中粗顆粒粉末粗細均勻，細顆粒粉末也較均勻。
文檔編號B01D53/26GK202136912SQ20112020468
公開日2012年2月8日 申請日期2011年6月17日 優先權日2011年6月17日
發明者廖永樂 申請人:春保材料科技(廈門)有限公司