專利名稱：用于過濾開槽雙面研磨機漿料的裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種半導體材料加工設備漿料過濾裝置，尤其是用于開槽雙 面研磨機漿料終端過濾，去除研磨漿料中大顆粒雜質的一種過濾裝置。
背景技術：
隨著半導體材料加工技術的快速發展，早期半導體雙面研磨機為平板磨盤， 研磨速率很低，產能小，晶片旋轉阻力大，研磨過程中容易產生碎片，而且僅適
合加工3~6英寸小尺寸晶片，伴隨半導體晶片尺寸增加和產能提升需求和開槽 雙面研磨機還具有研磨漿料均勻分布在晶片與研磨盤之間，荷重較為均勻；溝槽 可以用來排出研磨屑與研磨漿料；減少晶片與研磨盤之間的吸附力，利于研磨晶 片的取出等優點，因此平板雙面研磨機漸漸被開槽雙面研磨機所代替。
由于開槽雙面研磨機磨一般放在普通工作環境里，配制漿料和漿料輸送時很 難必免有大顆粒雜質進入漿料里，這樣會導致研磨出來有劃痕的不良晶片，既影 響研磨加工良率同時又浪費研磨加工原輔材料。
鑒于此，實有必要設計一種新的用于過濾開槽雙面研磨機上漿料的裝置，'用 于去除與晶片接觸的漿料中的大顆粒終端過濾裝置。
實用新型內容
本實用新型要解決的技術問題在于提供一種用于過濾開槽雙面研磨機漿料 的裝置，在漿料與加工晶片接觸的終端加裝該過濾裝置，即可避免漿料配制時產 生大顆粒雜質風險，也避免雙面開槽磨片機漿料攪拌初4成系統磨損時大顆粒雜質 進入漿料輸送系統的風險。
為了解決上述技術問題，本實用新型采用如下技術方案
一種用于過濾開槽雙面研磨機漿料的裝置，包括上接頭、下接頭、置于上 接頭與下接頭中間的過濾網、以及套接下接頭與上接頭連接的連接件。
進一步地，所述連接件包括底面和由底面邊緣向上延伸的側壁，底面中部設 有通孔，側壁內設有內螺紋。進一步地，所述下接頭的頂端設有凸臺，所述下接頭的底端可從連接件上方 穿過連接件，從連接件底面的通孔伸出，其凸臺卡置于連接件的底面上。
作為本實用新型的優選方案，所述下接頭還包括自頂端向底端依次變細的中 間部分和接頭部分。
進一步地，所迷上接頭的底端設有底座，所述底座設有與所述連接件的內螺 紋相配合的外螺紋，通過螺紋配合安裝于連接件內。
作為本實用新型的優選方案，所述上接頭還包括自底座向頂端依次變細的中 間部分和接頭部分。
進一步地，所述下接頭及上接頭中部都設有通孔，兩通孔對接連通，過濾網 持于兩通孔對接處。
作為本實用新型的優選方案，所述裝置還包括與過濾網相匹配的墊圈，所述 上接頭的底面設有凹槽，所述墊圏部分收容于凹槽內。
作為本實用新型的優選方案，所述墊圏為環形，過濾網收容于墊圏內。所述 墊圈優選為圓環形，所述過濾網優選為圓形。
作為本實用新型的優選方案，所述過濾網3的材質為不4秀鋼，規j各為140~ 280目，厚度為0. 2~ 0. 6mm。
相較于現有技術，本實用新型所述的用于過濾開槽雙面研磨機漿料的裝置， 其有益效果在于
本實用新型通過采用一種在漿料輸送終端加裝過濾裝置，濾掉漿料中的大顆 粒雜質，減少研磨加工產生的劃痕，提高硅晶片研磨良率的同時節約加工使用的 原輔材料。
雙面開槽研磨^L漿料由攪拌桶通過蠕動泵輸送到集液盤，再由集液盤通過多 根漿料管均勻輸送到晶片與開槽磨盤之間進行晶片研磨加工。整個研磨漿料供應 系統如果有大顆粒雜質進入，不增加終端過濾裝置，勢必會導致大顆粒雜質與漿 料一起參與上下磨盤與晶片研磨加工，就會產生大量研磨晶片劃痕。在漿料與晶 片接觸前進行過濾去除漿料中的大顆粒雜質，便可以防止大顆粒在研磨加工中對 晶片產生劃痕，提高研磨晶片的良率和減少研磨加工原輔材料的消耗。
本實用新型所述的漿料過濾裝置運用了整體可拆卸式設計，容易組裝且方便過濾網及時清洗，故其還具有結構簡單、拆卸方便、可用水清洗、使用壽命長等特點。
圖1為本實用新型所述用于過濾開槽雙面研磨機漿料的裝置的剖面爆炸圖； 圖2為所述墊圈結構示意圖； 圖3為所述過濾網結構示意圖4為本實用新型所述用于過濾開槽雙面研磨機漿料的裝置使用示意圖。 圖中標記"^兌明
2墊圈 5連接件
12上接頭的中間部分 15凹槽
42下接頭的接頭部分 51內螺紋
a本實用新型所述用于過濾開槽雙面研磨機漿料的裝置 b集液盤
c漿料管具體實施方式
以下結合附圖進一步詳細說明本實用新型的具體實施例
參看圖l， 一種用于過濾開槽雙面研磨機漿料的裝置，該裝置包括上接頭 1、下接頭4、置于上接頭1與下接頭4中間的過濾網3、以及套接下接頭4與上 接頭1連接的連接件5。
所述連接件5包括底面和由底面邊緣向上延伸的側壁，底面中部設有通孔 50,側壁內設有內螺紋51。
所述下接頭4的頂端設有凸臺40,所述下接頭4的底端可從連接件5上方
1上接頭4下接頭
11底座
14上接頭通孔
41下接頭的中間部分
50底面通孔
3過濾網 10外螺紋
13上接頭的接頭部分 40凸臺
43下接頭通孔穿過連接件5，從連接件5底面的通孔50伸出，其凸臺40卡持于連接件5的底 面上。
所述下接頭4還包括自頂端向底端依次變細的中間部分41和接頭部分42。 所迷上接頭1的底端設有底座11,所述底座11設有與所述連接件5的內螺
紋51相配合的外螺紋10，通過螺紋配合安裝于連接件5內。
所述上接頭1還包4舌自底座向頂端依次變細的中間部分12和4妄頭部分13。 所述下接頭4中部設有通孔43，上接頭1中部設有通孔14,兩通孔對接連
通，過濾網3置于兩通孔對接處。
所述裝置還包括與過濾網3相匹配的墊圏2，所述上4妄頭1的底面設有凹槽
15，所迷墊圈2部分收容于凹槽15內。
所述墊圈2為環形，過濾網3收容于墊圈2內。
所述過濾網3的材質為不銹鋼，規格為140 ~ 280目，厚度為0. 2 ~ 0. 6咖。 本實施例中所述過濾漿料的裝置是適合開槽雙面磨片機(USB-22B)的，其 具體尺寸如下
上接頭1各部分優選為圓柱狀，其接頭部分13橫截面的直徑為19~12mra (3/4， ~1/2， inch)，本實施例中采用16mm(5/8， inch),其通孔14橫截面的 直徑尺寸為16~6mm (5/8， ~1/4， inch),本實施例中采用12咖(1/2， inch), 其底座外螺紋10尺寸為36mm。
連接件5優選為圓柱狀，其外直徑為45,,內螺紋51尺寸為36mm，底面通 孔50的直徑可為30 - 34mm,本實施例優選為32mm。
下接頭4的凸臺40為圓柱狀臺階，凸臺40橫截面的直徑應小于連接件內螺 紋的直徑并大于底面通孔的直徑，本實施例為小于36mm并大于32 mm,使之能 套接于連接件5內并卡于連接件5的底面上，下接頭4的中間部分41橫截面的 直徑應小于底面通孔50的直徑，使之能穿過底面通孔50,其直徑尺寸可為17 ~ 33mm,本實施例采用31腿，其接頭部分42橫截面的直徑為19-12mm(3/4， ~ 1/2， inch),本實施例中采用16mtn (5/8， inch),其通孔43橫截面的直徑為16 ~ 6mm(5/8' ~1/4， inch),本實施例中采用12mm(l/2， inch)。如圖2、 3所示，墊圈2優選為圓環形，其內直徑為16mm，外直徑為21mm， 墊圈2圈體厚度為2mm，材質為橡膠或聚四氟乙烯；過濾網3優選為圓形，其規 格為140 - 280目，直徑為16mm,厚度為0. 2 ~ 0. 6mm,本實施例中采用200目， 材質為不銹鋼。
本過濾裝置整體采用PVC或CPVC材質，優選為PVC材質，該材質具有較好 的硬度、良好的耐腐蝕性，管壁光潔且不易磨損，成本低廉等優點。過濾網材質 采用不銹鋼，該材質具有很好的強度、易清理和使用壽命長等特點。
圖4為該漿料過濾裝置使用時的示意圖。其中，本裝置a安裝于集液盤b 的終端，使漿料通過本裝置a過濾后輸送到集液盤b,再由集液盤b通過多根漿 料管c均勻輸送到晶片與開槽磨盤之間進行晶片研磨加工。這樣便可以在漿料與 晶片接觸前進行過濾去除漿料中的大顆粒雜質，防止大顆粒在研磨加工中對晶片 產生劃痕，提高研磨晶片的良率和減少研磨加工原輔材料的消耗。
本實用新型的描述和應用是說明性的，并非想將本實用新型的范圍限制在上 述實施例中。這里所披露的實施例的變形和改變是可能的，對于那些本領域的普 通技術人員來說實施例的替換和等效的各種部件是公知的。本領域技術人員應該 清楚的是，在不脫離本實用新型的精神或本質特征的情況下，本實用新型可以以 其他形式來實現。在不脫離本實用新型范圍和精神的情況下，可以對這里所披露 的實施例進行其他變形和改變。
權利要求1.一種用于過濾開槽雙面研磨機漿料的裝置，其特征在于，包括上接頭(1)、下接頭(4)、置于上接頭(1)與下接頭(4)中間的過濾網(3)、以及套接下接頭(4)與上接頭(1)連接的連接件(5)。
2. 根據權利要求1所述的用于過濾開槽雙面研磨機漿料的裝置，其特征在于 所述連接件(5)包括底面和由底面邊緣向上延伸的側壁，底面中部設有通 孔(50),側壁內設有內螺紋(51)。
3. 根據權利要求1所述的用于過濾開槽雙面研磨機漿料的裝置，其特征在于 所述下接頭(4)的頂端設有凸臺(40)，所述下接頭(4)的底端可從連接 件(5 )上方穿過連接件(5 )，從連接件(5 )底面的通孔(50 )伸出，其 凸臺(40)卡持于連接件(5)的底面上。
4. 根據權利要求3所述的用于過濾開槽雙面研磨機漿料的裝置，其特征在于 所述下接頭(4)還包括自頂端向底端依次變細的中間部分(41)和接頭部 分(42)。
5. 根據權利要求1所述的用于過濾開槽雙面研磨機漿料的裝置，其特征在于 所述上接頭(1)的底端設有底座(11),所迷底座(11)設有與所迷連接 件(5)的內螺紋(51)相配合的外螺紋(10),通過螺紋配合安裝于連接 件(5)內。
6. 根據權利要求1所述的用于過濾開槽雙面研磨機漿料的裝置，其特征在于 所述上接頭(1)還包括自底座向頂端依次變細的中間部分(12)和接頭部 分(13)。
7. 根據權利要求l所述的用于過濾開槽雙面研磨機漿料的裝置，其特征在于所述下接頭(4)中部設有通孔(43)，上接頭(1)中部設有通孔(14), 兩通孔對接連通，過濾網(3)置于兩通孔對接處。
8. 根據權利要求1所述的用于過濾開槽雙面研磨機漿料的裝置，其特征在于 還包括與過濾網(3)相匹配的墊圏(2)，所述上"l姿頭(1)的底面設有凹 槽(15 )，所述墊圏(2 )部分收容于凹槽(15 )內。
9. 根據權利要求8所述的用于過濾開槽雙面研磨機漿料的裝置，其特征在于 所述墊圈(2)為環形，過濾網(3)收容于墊圈(2)內。
10. 根據權利要求1所述的用于過濾開槽雙面研磨機漿料的裝置，其特征在于 所述過濾網(3 )的材質為不銹鋼，規格為140 ~ 280目，厚度為0. 2 ~ 0. 6mm。
專利摘要本實用新型公開了一種用于開槽雙面研磨機漿料終端過濾，去除研磨漿料中大顆粒雜質的過濾裝置。該用于過濾開槽雙面研磨機漿料的裝置，包括下接頭、上接頭、置于下接頭與上接頭中間的過濾網、以及套接下接頭與上接頭連接的連接件。在漿料與加工晶片接觸的終端加裝該過濾裝置，即可避免漿料配制時產生大顆粒雜質風險，也避免雙面開槽磨片機漿料攪拌機械系統磨損時大顆粒雜質進入漿料輸送系統的風險。
文檔編號B01D35/02GK201419358SQ20092007627
公開日2010年3月10日 申請日期2009年6月15日 優先權日2009年6月15日
發明者強 李, 欒興偉, 洪羿達, 謝江華, 黃春峰 申請人:上海合晶硅材料有限公司