專利名稱：有害物質除去方法
技術領域：
本發明涉及有害物質除去方法，詳細地說，涉及從內燃機或焚燒爐排出的氣體中， 不使用稀有金屬催化劑，除去一氧化碳、二氧化碳及顆粒狀物質等有害物質的有害物質除 去方法。
背景技術：
如內燃機或焚燒爐那樣，通過燃料或垃圾燃燒而排出的氣體中作為有害物質含有 一氧化碳。作為除去該一氧化碳的技術，已知從前采用鉬或鈀等稀有金屬制成過濾裝置的 氧化催化劑。采用這種氧化催化劑，氣體通過該過濾裝置時，稀有金屬使其發生氧化反應， 氣體中的一氧化碳轉換為二氧化碳。另外，從柴油發動機或焚燒爐排出的氣體中，大量含有作為有害物質的顆粒狀物 質。作為除去該顆粒狀物質的技術，專利文獻1公開一種采用開有多孔的耐熱板構成的過 濾裝置，捕集顆粒狀物質的技術。然而，采用上述氧化催化劑的排氣凈化水平，為了符合日益嚴格的環保標準，必需 大量使用鉬或鈀等稀有金屬。因此，稀有金屬日益枯竭，價格高騰趨勢，已變成人們關注的 社會問題。另外，通過氧化反應產出的二氧化碳，是招致地球變暖的溫室效應氣體，減少該二 氧化碳排放量已成為國際性課題。還有，顆粒狀物質易在大氣中懸浮，在人體呼吸道或肺中沉積而損害健康，成為大 氣污染的主要原因，希望進一步除去。專利文獻1 特開平11-257048號公報
發明內容
發明要解決的課題本發明的目的是為了解決上述問題，提供一種從內燃機或焚燒爐排出的氣體中， 不使用稀有金屬催化劑，除去一氧化碳、二氧化碳及顆粒狀物質等有害物質的有害物質除 去方法。用于解決課題的手段為了解決上述問題，本發明采用的技術手段是除去氣體中有害物質的方法，該方 法是在至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群所構成的微生物、及 含乳酸菌的菌群所構成的微生物的液體中，放出含有害物質的氣體，除去該氣體中的有害 物質的有害物質除去方法。另外，有害物質除去方法，即除去氣體中的有害物質的方法，其特征在于，該方法 具有從至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群所構成的微生物、及 含乳酸菌的菌群所構成的微生物的液體中，放出含有害物質的氣體，除去該氣體中的有害 物質的一次工序；以及，使至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群所構成的微生物、及含乳酸菌的菌群所構成的微生物的焙燒體，與通過上述一次工序的氣體 接觸，把氣體中殘留的有害物質進一步除去的二次工序。還有，有害物質除去方法，即除去氣體中的有害物質的方法，其特征在于，該方法 具有從至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群所構成的微生物、及 含乳酸菌的菌群所構成的微生物的液體中，放出含有害物質的氣體，除去該氣體中的有害 物質的一次工序；使至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群所構成 的微生物、及含乳酸菌的菌群所構成的微生物的焙燒體，與通過上述一次工序的氣體接觸， 把氣體中殘留的有害物質進一步除去的二次工序；以 及，從通過上述二次工序的氣體中，進 一步除去該氣體中殘留的有害物質的殘留有害物質除去工序。另外，有害物質除去方法，即除去氣體中的有害物質的方法，其特征在于，該方法 具有從至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群所構成的微生物、及 含乳酸菌的菌群所構成的微生物的液體中，放出含有害物質的氣體，除去該氣體中有害物 質的一次工序；從通過上述一次工序的氣體，把氣體中殘留的有害物質進一步除去的殘留 有害物質除去工序；以及，使至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群 所構成的微生物、及含乳酸菌的菌群所構成的微生物的焙燒體，與通過上述殘留有害物質 除去工序的氣體接觸，把氣體中殘留的有害物質進一步除去的二次工序。還有，有害物質除去方法，即除去氣體中的有害物質的方法，其特征在于，該方法 是把至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群所構成的微生物、及含 乳酸菌的菌群所構成的微生物的焙燒體，配合在至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生 物、含酵母菌的菌群所構成的微生物、及含乳酸菌的菌群所構成的微生物的液體中，從該液 體中放出含有害物質的氣體，除去該氣體中的有害物質。另外，有害物質除去方法，即除去氣體中的有害物質的方法，其特征在于，該方法 具有把至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群所構成的微生物、及 含乳酸菌的菌群所構成的微生物的焙燒體，配合在至少含有含光合成菌的菌群所構成的微 生物、含酵母菌的菌群所構成的微生物、及含乳酸菌的菌群所構成的微生物的液體中，從該 液體中放出含有害物質的氣體，除去該氣體中的有害物質的一次工序；以及，從通過上述一 次工序的氣體，把該氣體中殘留的有害物質進一步除去的殘留有害物質除去工序。再有，上述各有害物質除去方法，作為最終處理，也可具有從氣體中進行脫臭的脫 臭工序，另外，從液體中放出氣體時也可使氣體形成細微氣泡狀放出。發明效果按照本發明，提供一種從內燃機或焚燒爐排出的氣體中，不使用稀有金屬催化劑， 除去一氧化碳、二氧化碳及顆粒狀物質等有害物質的有害物質除去方法。
圖1 (a)為表示實施例1的有害物質除去方法的工序的流程圖。(b)為實施例1的 有害物質除去方法使用的處理裝置一構成例的概略構成說明圖。圖2(a)為表示實施例2的有害物質除去方法的工序的流程圖。(b)為實施例2的 有害物質除去方法使用的處理裝置一構成例的概略構成說明圖。圖3(a)為表示實施例3的有害物質除去方法的工序的流程圖。(b)為實施例3的有害物質除去方法使用的處理裝置一構成例的概略構成說明圖。圖4(a)為表示實施例4的有害物質除去方法的工序的流程圖。(b)為實施例4的 有害物質除去方法使用的處理裝置一構成例的概略構成說明圖。圖5(a)為表示實施例5的有害物質除去方法的工序的流程圖。(b)為實施例5的 有害物質除去方法使用的處理裝置一構成例的概略構成說明圖。圖6 (a)為表示實施例6的有害物質除去方法的工序的流程圖。(b)為實施例6的 有害物質除去方法使用的處理裝置一構成例的概略構成說明圖。符號說明A內燃機或焚燒爐B 一次工序 C殘留有害物質除去工序D 二次工序E 脫臭工序L焙燒體M脫臭裝置S 液體
具體實施例方式下面對本發明的該有害物質除去方法加以詳細說明。還有，本發明中所謂除去， 不僅包括有害物質全部除去的場合，還包括6僅除去部分有害物質的狀態(有害物質排出 量減輕的狀態)的概念。另外，本發明中的所謂有害物質，作為一例，不僅可以舉出一氧化 碳、二氧化碳及顆粒狀物質等，但又不限于這些，在本發明的范圍內還包括其他周知的有害 物質的概念。另外，在以下說明的各實施例中，各工序可以除去的有害物質的概念也有所不 同。另外，顆粒狀物質只要是空氣中懸浮的非常細微的粒子即可，包括塵埃、煤灰或粉塵的 概念。實施例1圖1 (a)為表示實施例1的有害物質除去方法的工序的流程圖。另夕卜，圖1 (b)表 示除去有害物質的處理裝置的本實施例的概略構成。本實施例中，采用把從內燃機或焚燒爐(A)排出的含一氧化碳、二氧化碳及顆粒 狀物質等有害物質的氣體，導入有害物質處理工序B進行處理后排出(F)的方法。通過有害物質處理工序B，使液體S中含有的微生物與氣體反應，進行處理。上述液體S至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群所構 成的微生物、及含乳酸菌的菌群所構成的微生物。這些微生物，通過與通過液體中的上述氣體反應，使這些氣體中含有的一氧化碳、 二氧化碳及顆粒狀物質等有害物質被除去處理。其次，對本實施例的有害物質除去方法中使用的處理裝置一構成例概要加以說 明。本實施例采用的處理裝置具有導入成為處理對象的氣體的導入孔2d，以及把處 理過的氣體排出外部的排出孔2e ；除該導入孔及排出孔外，還由形成密閉狀的有害物質處理槽2a，以及，該有害物質處理槽2a內盛放的上述液體S構成，上述有害物質處理工序B， 是在該處理裝置的內部進行處理。導入孔2d，設置在有害物質處理槽2a的下部區域2c，該導入孔2d，與把從內燃機 或焚燒爐(A)排出的氣體導入有害物質處理槽2a內部的導管AP連接。
排出孔2e，設置在有害物質處理槽2a的上部區域2b，與通過該有害物質處理槽2a 內的液體S中有害物質被除去的氣體排至外部的導管BP連接。還有，在本實施例中，在有害物質處理槽2a中盛放的上述液體S被放入，以使在有 害物質處理槽2a的上部區域2b留有空間。在本實施例中，上述導管AP的構成如下。導管AP具有從有害物質處理槽2a外部，通過導入孔2d，向有害物質處理槽2a內 部的下部區域2c內插入，在該下部區域2c中以被覆有害物質處理槽2a底面那樣構成的延 長部PE。而且，該延長部PE上形成許多細孔。如果形成這樣的結構，則在液體S的最深部 位，氣體從多個孔向形成細微泡H，從液體S中放出。此時，與大的泡相比，細微泡H，由于液 體S中含有的微生物與泡H的接觸積極，可促進氣體的處理，是優選的。另外，該導管AP，在上述下部區域2c中也可具有多個。另外，在本實施例中，導管AP可以形成直的管狀，但也可以螺旋狀處在上述下部 區域2c中。還有，導管AP不限于本實施例采用的形態，例如，也可以是僅從外部緊密嵌入導 入孔2d的形態等，在本發明的范圍內可作設計變更。按照上述處理裝置，從內燃機或焚燒爐㈧的排氣，通過導管AP排放至有害物質 處理槽2a內部的液體S中。而且，排放至上述液體S中的氣體，通過液體S中含有的微生物的作用，氣體中的 一氧化碳與二氧化碳被除去處理的同時，顆粒狀物質從氣體中被分離處理，進入液體S中， 沉淀至有害物質處理槽2a的底部(有害物質處理工序B)。即，在有害物質處理工序B被處 理過的、通過液體S中，暫時停留于有害物質處理槽2a的上部區域2b的氣體，一氧化碳、二 氧化碳及顆粒狀物質已被除去。因此，從上部區域2b通過導管BP排出(F)的氣體，如上所述，是有害物質被除去 的清潔氣體。實施例2圖2(a)為表示實施例2的有害物質除去方法的工序的流程圖。在本實施例中，具有一次工序B與二次工序D。即，采用以下方法把從內燃機或焚 燒爐(A)排出的含一氧化碳、二氧化碳及顆粒狀物質等有害物質的氣體，導入一次工序B， 實施有害物質除去處理，再把上述一次工序未除去的殘留有害物質，在二次工序D除去處 理后排出(F)0在該二次工序D，一次工序B未除去的一氧化碳或二氧化碳等有害物質殘留時，其 一氧化碳或二氧化碳被進一步除去。因此，即使在本實施例中，在采用與實施例1同樣一次 工序B的除去處理的階段，有害物質也可完全除去。還有，本實施例的一次工序B，由于是與上述實施例1中說明的有害物質處理工序B同樣內容的工序，故本實施例中省略其說明。因此，在這里對二次工序D加以說明。在該二次工序D中，焙燒體L中含有的微生物與經過一次工序B的氣體反應進行
處理。 上述焙燒體L，以陶瓷作為主成分，其中至少含有含光合成菌的菌群所構成的微 生物、含酵母菌的菌群所構成的微生物、及含乳酸菌的菌群所構成的微生物而構成。另外，在本實施例采用的焙燒體L中形成了可通過氣體的貫穿孔。如這樣形成的 結構，氣體與焙燒體L的接觸面積增大，可促進微生物所致的處理，是優選的。這些微生物，在焙燒體L的表面，與經過一次工序B的氣體反應，該氣體中含有的 (殘留的)一氧化碳、二氧化碳等有害物質被除去處理。其次，對本實施例的有害物質除去方法中使用的處理裝置一構成例的概要加以說 明(圖 2(b))。還有，本實施例的一次工序B的處理裝置，由于與上述實施例1中說明的有害物質 處理工序B的處理裝置具有同樣的構成，故在這里省略一次工序B的處理裝置的說明。還 有，上述實施例1中說明的有害物質處理槽2a，在本實施例中稱作一次工序處理槽2a。本實施例中采用的處理裝置，具備把從一次工序B介由導管BP排出的氣體導入 的導入孔4d以及把處理過的氣體排至外部的排出孔4e ；除該導入孔及排出孔外，還由形成 密閉狀的二次工序處理槽4a，以及，該二次工序處理槽4a內盛放的上述焙燒體L構成，上述 二次工序D，在該處理裝置的內部進行處理。導入孔4d，設置在二次工序處理槽4a的下部區域4c，該導入孔4d，與把有害物質 處理槽2a的氣體導入二次工序處理槽4a內部的導管BP連接。排出孔4e，設置在二次工序處理槽4a的上部區域4b，與把通過該二次工序處理槽 4a內的焙燒體L除去了有害物質的氣體排至外部的導管DP連接。上述焙燒體L，以在上述二次工序處理槽4a的內部，于上部區域4b及下部區域4c 內留有空間地設置。另外，焙燒體L的貫穿孔，貫穿孔的方向為流過二次工序處理槽4a的氣體的方向， 艮口，在本實施例中，相應上下方向而配置。由此，氣體可通過焙燒體L的貫穿孔。按照上述處理裝置，從一次工序處理槽2a排出的氣體，通過導管BP排放至二次工 序處理槽4a內部的上部區域4b。此時，由于內燃機或焚燒爐(A)連續排出氣體，故該氣體 經過一次工序處理槽2a，連續地流入二次工序處理槽4a。因此，在二次工序處理槽4a中氣 體從上部區域4b向下部區域4c流動。而且，在氣體流動時，邊與上述焙燒體L外表面接 觸，或邊與貫穿孔的內表面接觸邊通過，焙燒體L含有的微生物與氣體反應，氣體中殘留的 一氧化碳與二氧化碳等有害物質被除去處理。而且，二次工序處理完成灼氣體，從二次工序處理槽4a的導管DP排至二次工序處 理槽4a的外部。因此，從下部區域4b通過導管DP排出(F)的氣體，如上所述，是有害物質被除去 的清潔氣體。還有，采用本實施例的處理裝置，焙燒體L的貫穿孔的方向按氣體的流動方向配 置，但又不限于此，貫穿孔的方向與氣體的流動方向成一定角度配置也可。此時，焙燒體L 的貫穿孔內流動的氣體，由于比焙燒體L的外表面流動的氣體緩慢，在貫穿孔內，氣體與微生物的反應時間比較長，可促進有害物質的除去處理。實施例3圖3(a)為表示實施例3的有害物質除去方法的工序的流程圖。在本實施例中，除一次工序B與二次工序D外，還具有把氣體中殘留的有害物質進 一步除去的殘留有害物質除去工序C。即，可以采用把內燃機或焚燒爐(A)的氣體，采用一 次工序B把一氧化碳或二氧化碳，或顆粒狀物質等有害物質進行除去處理，再把通過一次 工序B的氣體中未除去的一氧化碳或二氧化碳等殘留的有害物質，用二次工序D進行除去 處理，而且，經過該二次工序D的氣體中未除去的顆粒狀物質等殘留的有害物質，用殘留有 害物質除去工序C加以除去處理后排出(F)至外部的方法。采用該殘留有害物質除去工序C時，當一次工序B中未除去的顆粒狀物質等有害 物質殘留時，該顆粒狀物質可被進一步除去。因此，在本實施例中，在與實施例1同樣用一 次工序B的除去處理的階段，有害物質也可完全除去。
還有，本實施例的一次工序B，由于與上述實施例1中說明的有害物質處理工序B 的工序具有相同的內容，本實施例的二次工序D與上述實施例2中說明的工序具有相同的 內容，故在這里省略一次工序B與二次工序D的說明。以殘留有害物質除去工序C的構成 為中心加以說明。采用殘留有害物質除去工序C時，在殘留有害物質除去裝置J，與經過二次工序D 的氣體反應，取出氣體中殘留的顆粒狀物質，進行除去氣體顆粒狀物質的處理。其次，對本實施例的有害物質除去方法中使用的處理裝置一構成例的概要加以說 明(圖 3(b))。還有，本實施例的一次工序B的處理裝置及二次工序D的處理裝置之后，具有殘留 有害物質除去工序C的處理裝置的構成，該一次工序B的處理裝置及二次工序D的處理裝 置，在上述實施例2中已作了說明，故在這里以殘留有害物質除去工序C的構成為中心加以 說明。本實施例中采用的處理裝置，具有把從二次工序D介由導管DP排出的氣體加以 導入的導入孔3d以及把處理過的氣體排至外部的排出孔3e ；除該導入孔及排出孔外，還由 形成密閉狀的二次工序處理槽3a ；以及，該殘留有害物質除去槽3a內盛放的上述焙燒體L 構成，上述殘留有害物質除去工序C，在該處理裝置的內部進行處理。導入孔3d，設置在殘留有害物質除去槽3a的下部區域3c，該導入孔3d，與從二次 工序處理槽4a導入殘留有害物質除去槽3a內部的氣體的導管DP連接。排出孔3e，設置在殘留有害物質除去槽3a的上部區域3b，通過該殘留有害物質除 去槽3a內的殘留有害物質除去裝置J，與把除去了有害物質的氣體排至外部的導管CP連 接。上述殘留有害物質除去裝置J，在上述有害物質除去槽3a的內部，于上部區域3b 及下部區域3c內殘留空間地設置。本實施例的殘留有害物質除去裝置J，具有可通過氣體的內部空間，通過該空間外 部具有的電源K供給的電荷，在上述殘留有害物質除去裝置J的內部空間內產生負離子。此 時，通過負離子吸附帶正電的顆粒狀物質，從氣體中除去。采用上述處理裝置，從二次工序處理槽4a排出的氣體，通過導管PD，排放至殘留有害物質除去槽3a內部的下部區域3c。此時，由于內燃機或焚燒爐(A)連續地排出氣體， 該氣體經過二次工序處理槽4a連續地流入殘留有害物質除去槽3a。因此，在殘留有害物質 除去槽3a內，氣體從下部區域3c向上部區域3b流動。而且，在氣體流動時，由于通過上述 殘留有害物質除去裝置J的內部空間，負離子反應，氣體中帶正電的 殘留顆粒狀物質被處 理除去。而且，殘留有害物質除去工序處理完成的氣體，從殘留有害物質除去槽3a的導管 CP向殘留有害物質除去槽3a的外部排出。因此，從上部區域3b通過導管CP向外部排出(F)的氣體，如上所述，是有害物質 被除去的清潔氣體。實施例4在上述實施例3中，在一次工序B與二次工序D之后采用殘留有害物質除去工序 C，實施殘留有害物質除去處理，但在本實施例中，殘留有害物質除去工序C如圖4(a)所示 的流程圖，采用在一次工序B與二次工序D之間進行處理的方法。即，內燃機或焚燒爐(A) 的氣體，一氧化碳或二氧化碳，或顆粒狀物質等被除去，另外，如不在一次工序B加以除去， 則氣體中殘留的有害物質中的顆粒狀物質在殘留有害物質除去工序C被處理除去，而且， 經過該殘留有害物質除去工序C，當氣體中殘留一氧化碳或二氧化碳時，該氣體中殘留的一 氧化碳或二氧化碳在二次工序D被處理除去后排出(F)至外部。即使在這種情況下，也可以得到與上述實施例3同樣的效果。本實施例中，作為有害物質除去方法中使用的處理裝置，其構成與實施例3同樣， 在本實施例中，一次工序B采用的處理裝置的導管BP與殘留有害物質除去槽3a的導入孔 連接，排出孔與二次工序D采用的處理裝置的導入孔上連接的導管CP連接。各工序的處理裝置的構成及作用效果，與上述權利要求1至權利要求3同樣，故其 說明省略。實施例5在本實施例中，采用實施例2中說明的焙燒體L進行處理。S卩，如圖5(a)的流程 圖所示，采用在氣體中含有的一氧化碳或二氧化碳以及顆粒狀物質等有害物質的除去處理 方法。即，如圖5(a)的流程圖所示，從內燃機或焚燒爐㈧排出的氣體，采用液體S與焙燒 體L的同時處理工序(G)處理后排出(F)至外部。即使在此情況下，也可以得到與上述實施例2同樣的效果。其次，采用本實施例的有害物質除去方法，按照圖5(a)的流程圖處理的處理裝置 一構成例的概略示于圖5(b)。采用含微生物的液體S與含微生物的焙燒體L的同時處理工序(G)，在有害物質除 去槽2a的內部進行處理。S卩，本實施例的處理裝置，其結構是在盛放上述實施例2的一次工序B中使用的 液體S的有害物質除去槽2a內，配置二次工序D使用的焙燒體L。此時，有害物質除去槽2a的下部區域2c中設置的導入孔2d，與從內燃機或焚燒 爐(A)向有害物質除去槽2a的內部導入排氣的導管AP連接，另外，有害物質除去槽2a的 上部區域2b上設置的排出孔2e，具有導管BP，把經同時處理工序(G)處理后的氣體排出。還有，即使在本實施例中，與上述實施例2同樣，焙燒體L具有可通過氣體的貫穿孔是優選的。另外，與上述實施例1同樣，采用氣體在液體S中作為細微氣泡H放出的結構 (具有延長部PE的導管AP的結構)是優選的。因此，在同時處理工序(G)的處理中，氣體被含微生物的液體S及含微生物的焙燒 體L的雙方同時進行處理。其他的構成及作用效果，與上述實施例2同樣，故其說明省略。還有，本實施例的同時處理工序(G)處理后，也可用實施例3說明的殘留有害物質 除去工序C進行處理。
此時的處理裝置中除有害物質除去槽2a外，還可以具有實施例3說明的殘留有害 物質除去槽3a。另外，本實施例的同時處理工序(G)，也可用上述實施例2至實施例4的一次工序 (B)取代。此時，由于用焙燒體L重復進行處理，故有害物質的除去效率更加提高。實施例6在上述實施例1至實施例5說明的處理工序的最后，作為最終處理也可具備消臭工序。在本實施例中，作為一例，除上述實施例4中說明的處理工序以外，作為最終處理 還可具備消臭工序(參照圖6(a)的流程圖)。即，內燃機或焚燒爐㈧的氣體，可以采用 在一次工序B處理除去一氧化碳或二氧化碳，或顆粒狀物質等有害物質，再把一次工序B從 氣體中未除去的顆粒狀物質等殘留有害物質，用殘留有害物質除去工序C進行除去處理， 另外，把用一次工序B從氣體中未除去的一氧化碳或二氧化碳等殘留有害物質，用二次工 序D進行除去處理，再用脫臭工序E進行脫臭處理后排出(F)至外部的方法。還有，本實施例的一次工序B，與上述實施例1中說明的有害物質處理工序B的工 序具有相同的內容，本實施例的殘留有害物質處理工序C的工序與上述實施例3中說明的 殘留有害物質處理工序C的工序具有相同的內容，本實施例的二次工序D與上述實施例2 說明的工序具有相同的內容，故在這里，對一次工序B與殘留有害物質處理工序C與二次工 序D的說明省略，以脫臭工序E的構成為中心進行說明。在脫臭工序E，在脫臭裝置M中，經過殘留有害物質處理工序C的氣體發生反應，進 行氣體中不愉快的臭味的脫臭處理。其次，沿上述圖6(a)的流程圖進行處理的處理裝置一構成例的簡要構成示于圖 6(b)，按照該圖進行說明。對本實施例的有害物質處理方法使用的處理裝置一構成例的簡要構成加以說明 (圖 6(b))。還有，本實施例的構成是在一次工序B的處理裝置及殘留有害物質處理工序C及 二次工序D的處理裝置之后具有脫臭工序E的處理裝置，該一次工序B的處理裝置及二次 工序D的處理裝置在上述實施例2中已作了說明，殘留有害物質處理工序C的處理裝置在 上述實施例3中已作了說明，故在這里以脫臭工序E的處理裝置的構成為中心加以說明。本實施例中采用的處理裝置，具有把從二次工序D通過導管DP排出的氣體導入 的導入孔5d以及把處理過的氣體排出至外部的排出孔5e ；除該導入孔及排出孔以外，還以 具有形成密閉狀的脫臭工序處理糟5a以及該脫臭工序處理糟5a內盛放的上述脫臭裝置M 而構成，上述脫臭工序E在該處理裝置的內部進行處理。導入孔5d，設在脫臭工序處理糟5a的下部區域5c，該導入孔5d，與從二次工序處理槽4a向脫臭工序處理糟5a內部導入氣體的導管DP連接。排出孔5e，設在脫臭工序處理糟5a的上部區域5b，通過該脫臭工序處理糟5a內 的脫臭裝置M,與把不愉快的臭味脫除了的氣體排出至外部的導管EP連接。上述脫臭裝置M，以在上述脫臭工序處理糟5a的內部，于上部區域5b及下部區域 5c中殘留空間地設置。
本實施例的脫臭裝置M，具有可通過氣體的內部空間，當氣體通過該空間時，把氣 體中不愉快的臭味進行脫臭處理。作為脫臭裝置M，本實施例中采用用如活性炭等多孔體 的細微的孔吸附臭味分子的脫臭裝置。采用上述處理裝置，從二次工序處理槽4a排出的氣體，通過導管DP，排出至脫臭 工序處理糟5a內部的下部區域5c。此時，內燃機或焚燒爐(A)，由于連續排出氣體，該氣體 經過二次工序處理槽4a，連續地流入脫臭工序處理糟5a。因此，在脫臭工序處理糟5a，氣體 從下部區域5c向上部區域5b流動。而且，在氣體流動時，通過上述脫臭裝置M的內部空間 進行脫臭處理。而且，脫臭處理工序處理完成的氣體，從脫臭工序處理糟5a的導管EP排出至脫臭 工序處理糟5a的外部。因此，從上部區域5b通過導管EP排出(F)至外部的氣體，如上所述，是有害物質 被除去的清潔氣體。還有，上述各實施例的一次工序B及二次工序D使用的含光合成菌的菌群形成的 微生物、含酵母菌的菌群形成的微生物、及含乳酸菌的菌群形成的微生物，既可至少含有， 也可添加其他微生物。此時，可以更加期待微生物的活動被活化。另外，各菌群的比例，可 根據期待的有害物質的濃度等任意設定。上述實施例2至實施例4中說明的處理裝置，各處理槽橫向排列配置，但處理槽的 配置方案也可以是其他配置方案。例如，按照處理工序的順序，也可縱向排列配置。另外， 備處理槽不用導管連接，通過處理槽彼此直接相鄰連接，氣體也可以是在各處理槽中流動 的形態。另外，也可采用多臺處理裝置匯集于一個處理槽中的結構。例如，也可在實施例2 的一次工序處理槽2a的上部區域2b的空間配置二次處理工序D的焙燒體L。
權利要求
有害物質除去方法，其是除去的氣體中的有害物質方法，該方法是從至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群所構成的微生物、及含乳酸菌的菌群所構成的微生物的液體中，放出含有害物質的氣體，除去該氣體中的有害物質的有害物質除去方法。
2.有害物質除去方法，其是除去氣體中的有害物質的方法，其特征在于，該方法具有 從至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群所構成的微生物、及含乳 酸菌的菌群所構成的微生物的液體中，放出含有害物質的氣體，除去該氣體中的有害物質 的一次工序；以及，使至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含光酵母菌的菌群所構 成的微生物、及含乳酸菌的菌群所構成的微生物的焙燒體，與通過了上述一次工序的氣體 接觸，把氣體中殘留的有害物質進一步除去的二次工序。
3.有害物質除去方法，其是除去氣體中的有害物質的方法，其特征在于，該方法具有 從至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群所構成的微生物及、含乳 酸菌的菌群所構成的微生物的液體中，放出含有害物質的氣體，除去該氣體中的有害物質 的一次工序；使至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、及含酵母菌的菌群所構成的 微生物、及含乳酸菌的菌群所構成的微生物的焙燒體，與通過了上述一次工序的氣體接觸， 把氣體中殘留的有害物質進一步除去的二次工序；以及，從通過了上述二次工序的氣體，進 一步除去該氣體中殘留的有害物質的殘留有害物質除去工序。
4.有害物質除去方法，其是除去氣體中的有害物質的方法，其特征在于，該方法具有 從至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群所構成的微生物、及含乳 酸菌的菌群所構成的微生物的液體中，放出含有害物質的氣體，除去該氣體中的有害物質 的一次工序；從通過了上述一次工序的氣體，把氣體中殘留的有害物質進一步除去的殘留 有害物質除去工序；以及，使至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群 所構成的微生物、及含乳酸菌的菌群所構成的微生物的焙燒體，與通過了上述殘留有害物 質除去工序的氣體接觸，把氣體中殘留的有害物質進一步除去的二次工序。
5.有害物質除去方法，其是氣體中的有害物質除去方法，其特征在于，該方法是把至 少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群所構成的微生物、及含乳酸菌 的菌群所構成的微生物的焙燒體，配合在至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含 酵母菌的菌群所構成的微生物、及含乳酸菌的菌群所構成的微生物的液體中，從該液體中 放出含有害物質的氣體，除去該氣體中的有害物質。
6.有害物質除去方法，其是氣體中的有害物質除去方法，其特征在于，該方法具有把 至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群所構成的微生物、及含乳酸 菌的菌群所構成的微生物的焙燒體，配合在至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物 及、含酵母菌的菌群所構成的微生物及、含乳酸菌的菌群所構成的微生物的液體中，從該液 體中放出含有害物質的氣體，除去該氣體中的有害物質的一次工序；以及，從通過了上述一 次工序的氣體，把該氣體中殘留的有害物質進一步除去的殘留有害物質除去工序。
7.按照權利要求1至權利要求6的任何一項所述的有害物質除去方法，其特征在于，作 為最終處理，具有從氣體中進行脫臭的脫臭工序。
8.按照權利要求1至權利要求7的任何一項所述的有害物質除去方法，其特征在于，從 液體中放出氣體時，使氣體形成細微氣泡而放出。
9.按照權利要求1或權利要求5中所述的有害物質除去方法，其特征在于，被除去的有 害物質為一氧化碳、二氧化碳及顆粒狀物質。
10.按照權利要求2至權利要求4中任何一項所述的有害物質除去方法，其特征在于， 一次工序除去的有害物質為一氧化碳、二氧化碳及顆粒狀物質。
11.按照權利要求3或權利要求4中所述的有害物質除去方法，其特征在于，二次工序 除去的有害物質為二氧化碳與一氧化碳。
12.按照權利要求3或權利要求4中所述的有害物質除去方法，其特征在于，殘留有害 物質除去工序除去的有害物質為顆粒狀物質。
全文摘要
本發明提供一種從內燃機或焚燒爐排出的氣體中，不使用稀有金屬催化劑，除去一氧化碳、二氧化碳及顆粒狀物質等有害物質的有害物質除去方法。該方法具有從至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群所構成的微生物、及含乳酸菌的菌群所構成的微生物的液體S中，放出內燃機或焚燒爐(A)排出的氣體，除去該氣體中的二氧化碳與一氧化碳及顆粒狀物質的一次工序B；進一步去顆粒狀物質的殘留有害物質除去工序C；與至少含有含光合成菌的菌群所構成的微生物、含酵母菌的菌群所構成的微生物、及含乳酸菌的菌群所構成的微生物的焙燒體接觸，把該氣體中二氧化碳及一氧化碳進一步除去的二次工序D；以及，從氣體中采用脫臭裝置M進行脫臭的脫臭工序E。
文檔編號B01D53/81GK101970085SQ20088012559
公開日2011年2月9日 申請日期2008年12月27日 優先權日2007年12月28日
發明者久保田樣規 申請人:雷恩宇宙有限責任公司