專利名稱：一種去除四氯化鍺中含氫雜質的精餾塔的制作方法
技術領域：
一種去除四氯化鍺中含氫雜質的^i^
M領域本實用新型涉及一種在生產光纖用四氯化鍺產品中，去除四氯化鍺
中含氫雜質的精餾塔，特別是去除CH和HC1雜質的精餾塔。屬專用設備領域。
背景絲目前常規的精餾塔可較好地去除金屬雜質，如Fe、 Co、 Cr、 Mn、 Cu 等，但無法有效地去除含氫雜質(如CH、 HC1)。單獨采用氯化氫氣體或無水氯氣來 提純四氯化鍺，只能去除砷和其他類似的雜質，而不能有效地去除含氫雜質；雖然 可通過高溫裝置在80(TC以上的高溫下處理四氯化鍺，使其中的氫原子被氯氣氯化 為氯化氫，最終實現對含氫雜質的去除，但該工藝對設備的要求非常高，且操作復 雜。
發明內容本實用新型的目的在于提供一種去除四氯化鍺中含氫雜質的精餾 塔，它能夠在低于10(TC的驢下，高效、便捷地去除四氯化鍺中含氫雜質(CH和 HC1)，以滿足生產光纖用四氯化鍺的需要。
本實用新型去除四氯化鍺中含氫雜質的精餾塔的技術方案是
此精餾塔主要由底部的塔釜(1)、頂部的塔頭(3)以及連接塔釜(1)和塔頭 (3)的塔管(2)組成。
在塔釜(1)頂部留有進料口 (4)、氣體補給口 (5)以及溫度監測口 (6)，在 塔釜(1)中部有紫外線，器(7)，在塔釜(1)底部有加熱管(8)及廢料排放 口 (9)，塔管(2)沒有塔板，為一根空管。
塔頭(3)設置螺旋狀水管(16)、冷卻水進口 (10)和冷卻水出口 (11)，塔 頭(3)最高處有一尾氣出口 (12)，塔頭(3)右下部M液體收集管(14)，液體 收集管(14)與尾氣出口 (12)由尾氣余液回流管(13) ，且在液體收集管(14) 下部接有擺頭出料口 (15)，擺頭出料口 (15)的左下部有一回流管(17)通入塔 管(2)的上側部。
紫外線發射器(7)安裝在塔釜(1)的中軸線上。齡去除精餾塔為透明體，
全部采用石英材料制作。
本實用新型的有益效果在于可以直觀方便地觀察整個雜質去除過程，并在低 于10(TC溫度下進行，結構簡單，易操作，安全可靠，雜質去除效報高。
下面結合本實用新型的附圖，進一步詳細說明其具體實施方式
。
圖1為本實用新型去除四氯化鍺中CH和HC1雜質的精餾塔示意圖。 圖中所示l-塔釜，2-塔管，3-塔頭，4-進料口， 5-氣體補給口， 6-溫度監測 口， 7-紫外線發射器，8-加熱管，9-廢料排放口， 10-冷卻水進口， 11-冷卻水出口， 12-尾氣出口， 13-尾氣余液回流管，14-液體收集管，15-擺頭出料口， 16-螺旋狀 水管，17-回流管
具體實施例
實施例精餾塔由底部的塔釜l、上部的塔頭3和連通塔釜1和塔頭3的中部
塔管2構成，在塔釜1內設置有加熱管8和紫外線發射器7。在塔釜1頂部留有進 料口 4和氣體補給口 5，在塔釜1側部開有Mit監測口 6，在塔釜1底部開有廢料 排放口 9。
塔頭3設置螺旋狀水管16、冷卻水進口 10和冷卻水出口 11，塔頭3最高處有 一尾氣出口 12， 塔頭3右下部接有液體收集管14，液體收集管14與尾氣出口 12 由尾氣余液回流管13超雖，且在液體收集管14下部接有擺頭出料口 15，擺頭出料 口 15的左下部有一回流管17通入塔管2的上側部。
旨精餾塔，明的，全部采用石英材料制作。
使用時，將需要提純的四氯化鍺通艦料口 4加入到塔釜1中，經過加熱管8 進行加溫后使四氯化鍺沸騰揮發，揮發出來的四氯化鍺通過塔管(2)上升到達本 精餾塔頂端的塔頭(3)，經螺旋狀水管(16)冷凝，冷凝后的四氯化鍺經尾氣余液 回流管(13)流入液體收集管(14)內，并通過控制擺頭出料口 (15)收集或通過 回流管(17)回流到塔釜l中。本發明除雜質工藝過程可以在此精餾塔中不斷重復
循環，直至四氯化鍺中雜質含量達到光纖用四氯化鍺標準，從擺頭出料口 15進行
正式出料并進行收集合格產品。
冷卻水從螺旋狀水管(16)的冷卻進口 10進入循環后從冷卻水出口 ll排出。 溫度監測口 6 Xti荅釜1中運行纟鵬的實時監測并及時調整加熱管，使加熱溫度
達到工藝所需的要求。
在加熱過程中，根據工藝需要，可以從塔釜1氣體補給口5通入保護氣體，避
免本發明裝置在用于去除含氫雜質過程中四氯化鍺被二次污染。 除雜質過程中，需打開紫外線皿器7對四氯化ltit行光照。 本精餾塔塔釜1中提純后的余液通過廢料排放口 9排出本精餾塔。 本實用新型用于光纖用四氯化鍺生產中去除雜質CH和HC1，以滿足光纖用四氯
化鍺產品的純度要求。
權利要求1、一種去除四氯化鍺中含氫雜質的精餾塔，其特征是此精餾塔主要由底部的塔釜(1)、頂部的塔頭(3)以及連接塔釜(1)和塔頭(3)的塔管(2)組成。
2、 根據權利要求1所述的去除四氯化鍺中含氫雜質的精餾塔，其特征是在塔 釜(1)頂部留有進料口 (4)、氣體補給口 (5)以及溫度監測口 (6),在塔釜(1) 中部有紫外線發射器(7)，在塔釜(1)底部有加熱管(8)及廢料排放口 (9)。
3、 根據權利要求1所述的去除四氯化鍺中含氫雜質的精餾塔，其特征是塔管(2) 沒有塔板，為一根空管。
4、 根據權利要求1所述的去除四氯化鍺中含氫雜質的精餾塔，其特征是塔頭(3) 設置螺旋狀水管(16)、冷卻7jC進口 (10)和冷卻水出口 (11)，塔頭(3)最 高處有一尾氣出口 (12)，塔頭(3)右下部接有液體收集管(14)，液體收集管(14) 與尾氣出口 (12)由尾氣余液回流管(13)連通，且在液體收集管(14)下部接有 擺頭出料口 (15)，擺頭出料口 (15)的左下部有一回流管(17)通入塔管(2)的 上側部。
5、 根據權利要求1和2所述的去除四氯化鍺中含氫雜質的精餾塔，其特征是紫外線刻寸器(7)安裝在塔釜(1)的中軸線上。
6、 根據權利要求1所述的去除四氯化鍺中含氫雜質的精餾塔，其特征是旨去除精餾塔為透明體，全部采用石英材料制作。
專利摘要本實用新型涉及一種去除光纖用四氯化鍺中CH雜質和HCl雜質的精餾塔，主要用于解決去除四氯化鍺中CH雜質和HCl雜質的問題，屬專用設備領域。其結構主要由塔釜、塔管和塔頭組成。塔頭設置有螺旋冷卻水管，冷卻水進口，冷卻水出口，在塔頭頂部設有尾氣出口，該尾氣出口上有與擺頭出料口相聯的管道，并且其下部通入塔頭的底端，擺頭出料口的底部有管道通入塔管的上部，在塔釜設置有進料口，氣體補給口，溫度監測口，廢料排放口。
文檔編號B01D3/14GK201208516SQ20082008116
公開日2009年3月18日 申請日期2008年5月7日 優先權日2008年5月7日
發明者斌 何, 馮玉庭, 周廷熙, 張文金, 張院萍, 彭明清, 勇 晏, 李雪寅, 楊光玉, 王少龍, 王瑞山, 趙永波, 文 鐘, 閻建英 申請人:云南馳宏鋅鍺股份有限公司