專利名稱：一種水處理反滲透膜化學清洗方法
一種水處理反滲透膜化學清洗方法技術領域一種水處理反滲透膜化學清洗方法，涉及一種工業水處理過程中的水處理 反滲透膜的化學清洗方法。
技術背景在工業水處理過程中，反滲透膜表面在運行中由于給水帶入物質的污染而 產生污垢，例如原水中所含微生物；生水水質泥沙污染；金屬氧化物的水合物、 鈣的沉淀物、有機物等，當反滲透膜污堵時，其產水量、脫鹽率、回收率明顯 下降，嚴重時，反滲透將無法投入運行，造成生產被迫停止，即使預處理設計 合理、運行正常， 一般半年至一年反滲透需清洗一次。清洗工作通常依賴廠家 專業人員完成，但受時間、空間、設備、條件等諸多因素限制，專業清冼常常 具有很大的滯后性，對生產造成嚴重的影響，且清冼費用高。發明內容本發明的目的就是針對上述已有技術存在的不足，提供一種不受生產、工 藝、設備、時間、空間限制的，能有效解決處理過程滯后性問題的水處理反滲 透膜化學清洗方法。本發明的目的是通過以下技術方案實現的。一種水處理反滲透膜化學清洗方法，其特征在于采用含有EDTA的NaOH溶 液對反滲透膜上的微生物、有機物和二氧化硅的污染物進行清洗；采用HCL溶 液對反滲透膜上的碳酸氫鈣、碳酸氫鎂垢進行清洗。本發明的一種水處理反滲透膜化學清洗方法，其特征在于所述的NaOH溶液 的pH值為11-12，溶液中含有重量比為0. 5%-1%的EDTA。本發明的一種水處理反滲透膜化學清洗方法，其特征在于所述的HCL溶液 的pH值為2-3。本發明的一種水處理反滲透膜化學清洗方法，其特征在于清洗過程依次為(1) 清洗液注入在溫度為25-30。C、壓力為0.1-0. 15 MPa條件下，控制 流量為正常流量一半注入清洗液；(2) 循環清洗在溫度為25-30，壓力為0. 1-0. 15MPa條件下進行反復循 環清洗60分鐘；壓力控制為產水側無滲透液；(3) 浸泡浸泡1-15小時；(4) 清洗在常溫、壓力為0.35MPa、流量為正常流量1-1.5倍條件下， 清洗30-60分鐘；(5) 沖掉清洗液在常溫、壓力為0.35MPa、條件下，反滲透產水或超濾 產水沖掉清洗液。本發明的一種水處理反滲透膜化學清洗方法，清洗微生物膜、有機物和二 氧化硅對反滲透膜的污染時，采用NaOH+EDTA溶液，其中配有部分螯合劑，對,丐、 鎂、鐵等污垢離子均有絡合的作用，在PH值11-12條件下可除去部分碳酸氫f丐、 碳酸氫鎂垢并剝離微生物黏膜、有機物等，起到協同處理的效果。采用HCL在 PH值2-3條件下進行清洗碳酸鹽水垢、多數金屬氧化物引起污堵。其清洗過程 和步驟相同。清洗時，將水處理反滲透設備完全打開一段濃水側清洗閥及滲透液回流閥， 打開一段清洗液進口閥，關閉對應機組的其它閥門。低流量進藥啟動反滲透化學清洗泵，緩慢調節保安過濾器出口門用出口 閥控制流量，以低流量注入清洗液，并用低壓排除壓力容器內的余水，用僅夠 補償從進水到濃縮出水的壓降的壓力進行清洗。此壓力應低于基本不產生滲透 液為宜，低壓可使濃縮物在膜上再沉積減至最少，對于防止清洗液被稀釋是必 不可少的。反復循環清洗清洗液將以濃縮液的流態和透過液的形態兩種形式存在，反復循環這兩種液體至清洗液水箱。循環一定時間后，取樣測清洗液的濃度和ra值，如果PH值變化0.5左右，則應加試劑進行調節，若清洗液過于渾濁，則 應重新配制清洗液。浸泡關閉清洗泵，對清洗單元進行浸泡。
一般情況下，浸泡時間為1小時已足夠，就污染情況而定，如果反滲透膜污染嚴重，則應浸泡在10-15小時 左右，在較長時間的浸泡期間，若反滲透清洗液溫度下降，需用較慢的循環流 量注入溫度較高的清洗液，保持恒定的浸泡溫度對反滲透清洗大有好處。在浸 泡的同時也可采用振蕩式沖洗法。大流量清洗在大流量的前提下進藥和清洗30-60分鐘，8英寸膜流量為 9. lm3/h乘以清洗段的膜元件個數。沖掉清洗液 一段、二段清洗完畢后，關閉清洗液進出口閥門，打開沖洗排 水門，采用過濾水箱水進行漂洗15-30分鐘，時間的長短主要以沖洗水水樣的ra值、電導率等為依據。此過程可有效地清洗剝落的污垢。清洗采取兩種和兩種以上藥液配方，須將原藥液沖洗干凈后，再開始用另 一種藥液清洗。動態清洗在一定的流速下依靠其動能會有利于污物沖刷和剝落，靜態時對 于剝落的和未剝落的死角處又有機會溶解，動靜交替的效果不容置疑。清洗后的反滲透裝置在開始運行時，應先將運行初期的產品水排放掉，排 放時間至少為io分鐘。采用本發明的方法，可以對氧化鋁生產過程中的自備電站化學水處理反滲 透進行有效清冼，清冼效果良好，技術成熟可靠，操作方便易行。采用將高壓 泵出口逆止倒裝技術，成功地對污堵的保安過濾器濾芯進行清洗，延長了保安 過濾器濾芯的使用壽命，降低了生產成本。
具體實施方式
一種水處理反滲透膜化學清洗方法，采用含有EDTA的NaOH溶液對反滲透 膜上因微生物、有機物和二氧化硅等引起的污染物進行清洗；采用HCL溶液對 反滲透膜上因碳酸氫鈣、碳酸氫鎂等垢物進行清洗。所述的NaOH溶液的pH值 為11-12，溶液中含有重量比為0. 5%-1%的EDTA。所述的HCL溶液的pH值為2-3。 清洗過程依次為(1) 清洗液注入在溫度為25-30°C、壓力為0.1-1 MPa條件下，控制流 量為正常流量一半注入清洗液；(2) 循環清洗在溫度為25-30，壓力為5MPa條件下進行反復循環清洗 60分鐘；壓力控制為產水側無滲透液；(3) 浸泡浸泡1-15小時;(4) 清洗在常溫、壓力為0.35MPa、流量為正常流量1-1. 5倍條件下，清 洗30-60分鐘；(5) 沖掉清洗液在常溫、壓力為0.35MPa、條件下，用反滲透產水或超濾產 水沖掉清洗液。實施例1采用含有EDTA的NaOH溶液對反滲透膜上的微生物、有機物和二氧化硅的 污染物進行清洗；采用HCL溶液對反滲透膜上的碳酸氫鈣、碳酸氫鎂垢進行清 洗。清清過程中NaOH溶液的pH值為11，溶液中含有重量比為0. 5%的EDTA。所述的HCL溶液的pH值為2。其清洗過程依次為(1) 清洗液注入在溫度為25。C、壓力為O. lMPa條件下，控制流量為正 常流量一半注入清洗液；(2) 循環清洗在溫度為25°C，壓力為0. 1-0. 15MPa條件下進行反復循環 清洗60分鐘；壓力控制為產水側無滲透液；(3) 浸泡浸泡1-15小時；(4) 清洗在常溫、壓力為0.35MPa、流量為正常流量1-1. 5倍條件下，清洗60分鐘；(5) 沖掉清洗液在常溫、壓力為0.35MPa、條件下，用超濾產水或反滲透 沖掉清洗液。實施例2一種水處理反滲透膜化學清洗方法，NaOH溶液的pH值為12，溶液中含有 重量比為1。/。的EDTA。所述的HCL溶液的PH值為3。其清洗過程依次為(1) 清洗液注入在溫度為3(TC、壓力為O. 15 MPa條件下，控制流量為 正常流量一半注入清洗液；(2) 循環清洗在溫度為3CTC，壓力為0. 1-0. ]5MPa條件下進行反復循環 清洗60分鐘；壓力控制為產水側無滲透液；(3) 浸泡浸泡1-15小時；(4) 清洗在常溫、壓力為0.35MPa、流量為正常流量1-1. 5倍條件下，清洗30分鐘；(5) 沖掉清洗液在常溫、壓力為0.35MPa、條件下，用超濾產水或反滲透 沖掉清洗液。
權利要求
1.一種水處理反滲透膜化學清洗方法，其特征在于采用含有EDTA的NaOH溶液對反滲透膜上的微生物、有機物和二氧化硅的污染物進行清洗；采用HCL溶液對反滲透膜上的碳酸氫鈣、碳酸氫鎂垢進行清洗。
2. 根據權利要求1所述的一種水處理反滲透膜化學清洗方法，其特征在于 所述的NaOH溶液的pH值為11-12，溶液中含有重量比為0. 5%-1%的EDTA。
3. 根據權利要求1所述的一種水處理反滲透膜化學清洗方法，其特征在于 所述的HCL溶液的pH值為2-3。
4. 根據權利要求1所述的一種水處理反滲透膜化學清洗方法，其特征在于 清洗過程依次為(1) 清洗液注入在溫度為25-30°C、壓力為0. 1-0. 15MPa條件下，控制 流量為正常流量一半注入清洗液；(2) 循環清洗在溫度為25-30，壓力為5MPa條件下進行反復循環清洗 60分鐘；壓力控制為產水側無滲透液；(3) 浸泡浸泡1-15小時；(4) 清洗在常溫、壓力為0.35MPa、流量為正常流量1-1. 5倍條件下，清 洗30-60分鐘；(5) 沖掉清洗液在常溫、壓力為0.35MPa、條件下，用反滲透產水或超濾產 水沖掉清洗液。
全文摘要
一種水處理反滲透膜化學清洗方法，涉及一種工業水處理過程中的水處理反滲透膜的化學清洗方法。其特征在于采用含有EDTA的NaOH溶液對反滲透膜上的微生物、有機物和二氧化硅的污染物進行清洗；采用HCl溶液對反滲透膜上的碳酸氫鈣、碳酸氫鎂垢進行清洗。采用本發明的方法，可以對氧化鋁生產過程中的自備電站化學水處理反滲透進行有效清冼，清冼效果良好，技術成熟可靠，操作方便易行。
文檔編號B01D65/00GK101224391SQ200710175988
公開日2008年7月23日 申請日期2007年10月17日 優先權日2007年10月17日
發明者瑛 王 申請人:中國鋁業股份有限公司