專利名稱：濕式氣體處理方法和濕式氣體處理裝置的制作方法
專利說明濕式氣體處理方法和濕式氣體處理裝置 本發明涉及利用堿處理液對酸性氣體進行處理的濕式氣體處理方法和濕式氣體處理裝置。本發明的優選實施形式涉及串聯連接多個填料塔的多塔結構的處理方法。還有，本發明優選適用于處理對聚硅烷進行氣體凈化后產生的酸性氣體的情況下的析出物的處理方法和處理裝置。過去，作為可適用于大風量的濕式洗滌器的方式，已知有噴淋塔、填料塔或多孔板塔等。在這些的方式中，從塔下部導入排放氣體，利用塔外部的風扇形成排放氣體的氣流。另一方面，處理液從塔上部下落形成液流，結果，排放氣體流和處理液流形成對流。即，該方式為，從塔上部呈淋浴狀噴霧的處理液和排放氣體發生氣液反應，或者排放氣體潛入多孔板上的處理液層中并被分散，產生氣液反應(參照《半導體工場環境清凈化》編者小野員正、發行所(株)サイエンスフオ-ラム、發行日1980年12月10日)。
填料塔的內部結構如下所述。
在塔下部具有氣體導入口，在略靠其上的部位設置篩網(金屬網)。該篩網形成排放氣體的滯留空間，還有在其上承載著填充料。而且，填充料疊層在篩網上，在填充料的上端部之上設置噴灑處理液的霧化噴嘴。進而，塔上部出口經由配管與吸風扇連接。(也有在排放氣體導入口設置吹入的風扇的情況。)該填料塔的設計方法記載于《化學機械的理論和計算》(亀井三郎編、產業圖書)氣體吸收、第7章吸收問題、p177～p202中。在該文獻中記載了，當氣體質量速度大時，降低填料塔的高度、增大塔的內徑以減小壓力損失的方式。還有，作為吸收問題，公開了當排放氣體的回收率和填料的種類確定時，計算被填料填滿的填充塔的高度和塔的內徑的方法。
USP Re.35,234公開了作為串聯連接多個這種填料塔的多塔式的例子。其中，將空氣中的硫化氫吸收到處理液中，形成所需的濃度。還有，分別設置在各塔下部的處理液槽，形成處理液從形成空氣出口的第n塔溢流到作為空氣入口的第1塔中的結構。即，空氣流和處理液流對向流動。
酸性氣體的濕式洗滌器的用途為，可以用作在對作為CVD裝置的附屬生成物堆積起來的聚硅烷進行氣體凈化時產生的排放氣體的處理裝置。作為該用途的析出對策，在前述文獻中代替通常的霧化噴嘴采用旋轉噴嘴。還有，在下述各公報中，公開了機械地汲出析出物、使清洗液呈螺旋狀流動以溶解析出物、為了防止在排放氣體處理裝置和生產裝置之間的排氣管堵塞而在該管內部設置噴灑溶解媒質的噴嘴等技術。
首先，在特開平9-186093號公報中，為了防止由于氯化物排放氣體和水的反應生成堆積物所造成的堵塞，設置配管內部的析出物汲出裝置和藥液的自動更換裝置(例1)。
還有，在特公平6-77669號公報中，在從頂板部高速噴射堿性清洗液的噴射洗滌裝置側面部上，設置含有鹵素的硅化合物氣體、氟化氫或鹽酸等酸性氣體等未處理的排放氣體導入口，清洗液呈螺旋狀向下流向該排放氣體導入口，防止由于粉塵或粘稠度高的析出物造成的堵塞(例2)。
進而，在特開2000-334409號公報中公開了防止前述排氣管堵塞的方案。在本公報所記載的例子中，在集合從多個生產裝置排出的排放氣體的排氣管中，進行酸堿反應，產生反應生成物(鹽)。在本公報中，利用從多個噴嘴噴灑的溶劑溶解該反應生成物，以防止堵塞(例3)。本發明的目的是，在具有氟化氫氣體或氯氣等酸性氣體的除害功能的濕式洗滌器中，防止SiO2等硅化合物的析出物造成配管堵塞。即，本發明同時控制氟化氫氣體或氯氣等的“除害”和“析出”。在下述的本發明中，利用處理液的“除害”和“氣液反應”具有相同的含義。還有，“處理塔”和“處理室”以相同的含義使用。
作為應對現有的濕式洗滌器的堵塞對策，如前面所述，存在汲出方式或藥液更換、擠壓流動、防止干燥或使霧化噴嘴旋轉等方式，但是這些均不能被認為是從根本上抑制析出的技術。
特別地，在應處理的酸性氣體的排出量大的情況下，在霧化噴嘴附近或霧化噴嘴的背面、多孔板端部或與酸性氣體流相對的噴嘴·多孔板的下游(以下簡稱稱“下游側”)的配管內部，產生大量的凝膠狀的析出物。易于堵塞該下游側的配管內部，當該配管堵塞時，不得不使裝置停止以分解清理配管內部。這時，產生未處理的酸性氣體擴散、污染大氣的環境問題。還有，由于酸性氣體是對人體有害的氣體，所以需要一邊局部排氣一邊由分解清理人員穿著化學防護服和防毒面具等進行作業。即，必須對安全問題作充分的準備。
另外，在通過旋轉霧化噴嘴來抑制析出物的情況下，在噴嘴的非噴霧部產生析出物，不能避免在前述下游側的連接配管內的堵塞。
若采用容量非常大的處理塔，則可以緩解上述問題，但是增大了裝置的成本，也增大了裝置設置場所的面積。
本發明的目的是以低成本提供控制上述析出物造成的配管堵塞和霧化噴嘴背面的析出物的產生，可以連續長時間運轉的安全的濕式氣體處理方法或濕式氣體裝置。
在此，本發明為濕式氣體處理方法，在配有兩個以上串聯連接的處理塔的處理酸性氣體的方法中，其特征在于，出口處酸性氣體濃度Ce1相對于最初導入前述酸性氣體的第1處理塔的入口處的酸性氣體濃度Ci1的比R1＝Ce1/Ci1，大于第n個處理塔(n≥2)中的至少一個的出口處酸性氣體濃度相對于入口處酸性氣體濃度的比Rn＝Cen/Cin。
在上述濕式氣體處理方法中，前述R1優選大于所有第n個處理塔(n≥2)的Rn(即，所有處理塔的Rn中R1最大)。還有，R1優選在0.4以上。
還有，本發明為濕式氣體處理方法，在配有兩個以上串聯連接的處理塔的處理酸性氣體的方法中，其特征在于，在第k個處理塔(k為自然數)內部設置的霧化噴嘴噴霧的堿處理液產生的流向第k+1個處理塔的霧流，在連接處理塔之間的配管中的任何空間內均保持堿性。
進而，本發明為濕式氣體處理方法，在配有兩個以上串聯連接的處理塔的處理酸性氣體的方法中，其特征在于，控制堿處理液的噴霧流量或濃度，以便使在對第1處理塔內噴霧的堿處理液的第1處理塔下部的處理液槽中測定的pH值在9以上。
在所述的處理方法中，優選在各處理塔中進行的處理是相同的。
還有，本發明為濕式氣體處理裝置，在配有兩個以上用連接配管串聯連接的處理塔、利用堿處理液對酸性氣體進行處理的濕式氣體處理裝置中，其特征在于，填充到第1處理塔中的填充料的量比填充到第2處理塔以后的任何一級處理塔中的填充料的量都少。
在該處理裝置中，優選填充到第1處理塔中的填充料的量比填充到第n個處理塔(n≥2)中的填充料的量中的任何一個都少(在填充到各處理塔中的填充料的量中，填充到第1處理塔中的填充料的量最少)。
進而，本發明為濕式氣體處理裝置，在配有兩個以上用連接配管串聯連接的處理塔、利用堿處理液對酸性氣體進行處理的濕式氣體處理裝置中，其特征在于，在連接配管內部具有前述連接配管中的至少在第1處理塔和第2處理塔之間的連接配管的彎曲數+1個以上的霧化噴嘴，這些霧化噴嘴各自以從其它噴嘴被直接噴射堿處理液的方式配置。
上述本發明，在不相互矛盾的限度內，可以進行適當的組合。還有，采用上述裝置的處理方法也包括在本發明的范圍內。
還有，在上述本發明中，處理塔的串聯數在3個以上，有利于提高處理能力。
圖1是說明本發明的實施例1的圖示。
圖2是圖1的第1處理塔和第2處理塔的局部放大圖。
圖3是參考例子的洗滌器的說明圖。在說明本發明之前，先利用參考例對本發明的課題作原理性的說明。圖3是串聯配置五個作為處理塔的填料塔的排放氣體處理裝置。在圖3中，301～305順序為第1填料塔～第5填料塔，306是酸性氣體導入口、307是連接配管、308是處理液槽、309是霧化噴嘴、310是填充料、311是篩網。
連接配管307從第1塔301的頂部連接到第2塔302的底部上。第2塔以后也一樣。第5塔305的頂部連接到圖中未示出的排放氣體鼓風機上。
通過排放氣體鼓風機的吸引形成排放氣體流，從第1塔301向第5塔305的方向流動。還有，利用圖中未示出的耐蝕性泵從處理液槽308抽吸處理液，利用分別配置在各塔頂附近的霧化噴嘴309進行噴霧，流到各塔內部的填充料310之間，并通過篩網返回到處理液槽308。
各塔的內部以及塔外部的風扇，與現有技術中所說明的一樣，從第1塔至第5塔均放入相同量的同樣形狀的填充料310。
在本參考例中，處理液為25％的NaOH水溶液，酸性氣體為CVD裝置副產物的聚硅烷用三氟化氯(以下簡稱為ClF3)氣體進行蝕刻(etching)時產生的氣體。聚硅烷與ClF3反應并氣化，生成SiH3Cl、SiH2Cl2、SiHCl3、SiCl4、SiH3F、SiH2F2、SiHF3、SiF4等。而且，這些氣體與NaOH水溶液進行水解反應而被除害。
例如，對每分鐘1000升的由氮稀釋至1％的ClF3，也就是流過10小時(600分鐘)的10升/分的ClF3和990升/分的氮的情況下，即通過流過6000升的ClF3可以清理規定量的聚硅烷的情況進行說明。這時，當塔的截面面積為1.5m2時，ClF3的流量(體積速度)為400升/小時·m2。當以該氣體流量連續運轉時，在該參考例中，已判明在3小時內第1處理塔和第2處理塔的連接配管(內徑φ150mm)完全被SiO2的析出物堵塞。
本發明人通過對析出物的發生情況的確認結果，判明以下事實。
在第一處理塔內部的緊靠霧化噴嘴的下方的填充物中，幾乎未發現析出物，在霧化噴嘴的背側和作為氣流下游側的前述連接配管中發現大量析出物。還有，在填充料的最底部和篩網中，截面面積的一半以上被堵塞。進而，在第2處理塔以下，未發現堵塞。
本發明人從上述事實得出以下知識。作為處理液的NaOH水溶液為強堿性，剛從霧化噴嘴噴出的處理液的霧保持與處理液槽中的處理液相同的pH值。但是，與含有大量ClF3的酸性氣體氣液接觸，其氣液接觸時間越長，pH值越低。具體而言，當從霧化噴嘴對NaOH處理液進行噴霧時，除了圓錐形的噴淋(由NaOH處理液形成的噴淋)之外，還產生由前述排氣風機形成的霧的流動。噴淋相對于酸性氣體流是對向流動，而霧的流動則是并行流動。因此，霧與酸性氣體接觸時間較長。還有，由于霧的顆粒小、表面積/體積的比大，所以接觸效率高。即，隨著從第1處理塔的霧化噴嘴至第1處理塔和第2處理塔之間的連接配管內部的下游側，霧的pH值逐漸下降。而且，在pH＝2.5附近時，在配管內部大量產生SiO2的析出物，使配管堵塞。以同樣的解釋，篩網附近的堵塞也可以由pH值來說明。即，從第1處理塔的霧化噴嘴噴霧的堿處理液，與濃度最高的未處理的酸性氣體通過填充料進行氣液反應。在填充料上部的第1處理塔的頂部較近的部分也就距霧化噴嘴近。因此，從堿處理液噴霧、與酸性氣體進行氣液反應直到填充料的上部的時間縮短，堿處理液仍保持堿性。另一方面，在與填充料下部的篩網接觸的部分中，遠離霧化噴嘴。因而，由于從噴霧到一邊與酸性氣體進行氣液反應一邊到達填充料的下部的時間加長，所以堿處理液變成酸性。而且，當pH值接近2.5時，急劇地析出SiO2。在處理大量的酸性氣體時，當第1處理塔中的處理量大于必要的處理量時，填充料中的孔堵塞、或配管的堵塞隨著處理時間的推移而加劇。
當填充料的量大時，酸性氣體和堿處理液的接觸面積增大(反應量增加)，成為對堿處理液流動的阻力。因此，在存在大量的酸性氣體的氣氛下，在堿處理液到達填充料下方之前，pH值減小，處理能力下降，析出物開始析出。結果，引起填充料中的孔堵塞，進而阻礙了堿處理液的流動，最終造成配管堵塞。
作為其對策，若簡單地增加堿處理液的流量，由于單位時間內可以流過填充料的間隙的堿處理液的量是一定的，所以處理液不能流入到填充料之間，將從處理塔中溢出。
即，第1處理塔中的酸性氣體的處理量有必要控制在最佳的范圍內。
下面，對本發明的實施形式進行說明。
首先，對本發明的第一個優選實施形式進行說明。
如前面所述，為了抑制SiO2的析出，使處理液的pH值應遠離2.5而為堿性(pH＞7)。為了防止在第1處理塔中由于酸性氣體而使處理液酸性化，有必要抑制氣液反應、相對于導入的酸性氣體的流量提供充分的處理液的噴淋流量和濃度。在實施例1中說明相關的流量。以下，對利用酸性氣體的濃度抑制氣液反應進行說明。
表1表示在參考例和本發明(本實施形式)的情況的各處理塔的入口處的酸性氣體濃度和出口處的酸性氣體濃度。為了簡單起見，第1處理塔簡稱為第1塔。還有，在表1中，第3塔入口＝第2塔出口、第4塔入口＝第3塔出口、第5塔入口＝第4塔出口。
表2表示第k處理塔(k為自然數)的出口處的酸性氣體濃度Cek和入口處的酸性氣體濃度Cik的比Rk＝Cek/Cik。Rk的數字越小，則處理塔內部的反應越劇烈。
在參考例的氣體處理裝置的情況下，酸性氣體的濃度以等比級數的方式下降，在本發明中，與參考例相比，濃度下降緩慢，在第5塔中不再下降。(表1)送入10000ppm的酸性氣體時，各塔中的酸性氣體濃度測定值ppm
(表2)各處理塔入口處的酸性氣體濃度和出口處的酸性氣體濃度的比Rk
還有，在表1的本發明一欄中，第1塔出口的酸性氣體濃度與第2塔入口酸性氣體濃度不同的原因為，在第1處理塔和第2處理塔的連接配管內部，設置有供給堿性噴淋的霧化噴嘴。
從表2可知，在本發明中，前述濃度比R1為0.4時不發生堵塞，而在參考例中濃度比R1為0.11時發生堵塞。因此，該濃度比R1只要在0.4以上就不會發生堵塞。
還有，在參考例中有酸性氣體的濃度為1200ppm的第2處理塔入口以后不會發生堵塞的事實。由該事實可以判斷，由于在本發明的第3處理塔入口處為700ppm，所以不需要在第3塔以后的連接配管內部設置的霧化噴嘴。
還有，優選在整個處理塔中以控制析出反應的方式將pH值保持在7以上。以下，將處理液槽的數目分類成①②，對pH值的控制方法進行說明。
① 在各個處理塔中單獨設置處理液槽的情況(參照圖1)② 正各處理塔共用一個處理液槽的情況(參照圖3)對①的pH值控制的說明。
在圖1的處理液槽111～115中，分別設置圖中未示出的pH值計和NaOH處理液供應泵，根據各處理塔的酸性氣體的濃度，以可以保持各塔中處理液的堿性的方式經由NaOH泵從外部供應NaOH處理液，以控制pH值。
對②的pH值控制的說明。
在這種情況下，由于不能對前述處理液的不同塔中的pH值進行控制，所以用填充料的量來進行調整。在對各個塔填入相同量的填充料的參考例中，在第1處理塔中酸性氣體的濃度呈等比級數下降。酸性氣體的濃度在10000ppm的第1處理塔中使NaOH處理液酸性化，易于析出SiO2。因而，本發明人認為，若減緩酸性氣體的濃度變化，避免NaOH處理液的酸性化，便不會析出SiO2。
以下，進行更詳細的說明。
為了抑制在酸性氣體濃度高的第1處理塔中的析出反應，堿處理液的流量充分大于由于酸性氣體而進行中和反應的量。在第1處理塔中堿處理液的流量大的情況下，優選構建噴淋塔(填充料的量為零或比其它處理塔中的任何一個塔的填充料都少)。在該噴淋塔中也產生氣液反應，但是其反應量比不上在填料塔中的反應量。因此，處理塔的入口和出口的酸性氣體濃度比與參考例的填料塔的情況相比，噴淋塔中的濃度比值較大，即反應受到抑制。在第2處理塔中，堿處理液的流量比[參考例]更多，同時，填充料的量投入比參考例的要相當于一個塔中的填充料的量少(參照表4)。在第3處理塔以后，以補充第1處理塔、第2處理塔中的比參考例中相當于一個塔的填充料所少的量的方式進行配置。這時，以壓力損失不大于規定值的方式適當地設計處理塔的高度和內徑。
在上述本發明中，由于第1處理塔對一定程度的酸性氣體進行同樣的處理，所以即使在第2處理塔以后采用比第1處理塔更多的量的填充料，也不會引起填充料的孔堵塞、或配管的堵塞，可以有效地進行處理。
另外，為了避免前述連接配管內部的堵塞，如知識1所述，前述霧流在第1處理塔和第2處理塔的連接配管中的任何空間中均保持堿性。具體的裝置結構如后面所述。
還有，在本發明中，各處理塔中的處理優選是相同的(至少包含同樣的處理)。在此，“處理相同”是指被處理氣體經受的化學反應相同。利用該結構，將全部處理量最佳地分配到各處理塔中，可以有效地進行處理。
在本發明的第1個優選實施形式中，作為典型的例子，以第1處理塔的填充料的量為零的噴淋塔為例，但是，只要可以抑制第1塔的氣液反應、在塔下部的處理液的pH值在7以上，填充料的量不為零也可以(第二個優選實施形式)。即，如(表2)所示，第1處理塔的入口和出口的酸性氣體濃度比應大于其它至少一個處理塔的濃度比。當以填充料的量進行說明時，第1處理塔的填充料的量比第2塔以后的任何一個塔的填充料的量少。
另外，由知識2可知，為了避免第1處理塔內部的堵塞，優選以在塔內部處理液不變成酸性的方式進行控制。因此，優選以從第1處理塔上部噴霧的堿處理液使在該塔下部的處理液槽中的pH值在9以上的方式控制堿處理液的噴霧流量或pH值濃度。關于該流量和pH值濃度，在對于作為前述連接配管的堵塞原因的霧的酸性化，優選在該連接配管內部增設供給堿處理液噴淋的霧化噴嘴，使霧保持堿性。霧化噴嘴的個數為在該連接配管的每個彎曲處設置一個，霧化噴嘴的配置優選以直接將堿處理液噴到相鄰的其它噴嘴使不會在相鄰的噴嘴的背面產生析出物的方式進行。為了噴到連接配管內部的噴嘴整個背面上，所必需的霧化噴嘴個數為連接配管的彎曲數+1個。關于霧化噴嘴，在實施例1進行詳細說明。
以下，利用實施例對本發明作更為詳細的說明。本實施例的濕式洗滌器(氣體處理裝置)，為5塔式，填充料的總量、配管連接方法和配管內徑、風扇位置均與參考例的裝置相同。與參考例不同之處為，霧化噴嘴數目和位置、以及各塔的填充料的分配率、第5塔的高度和處理液槽的分割。圖1中表示其原理圖。圖1按照后面所述的(表4)的填充料的分配率進行說明。
在圖1中，101～105順次為第1處理塔～第5處理塔，106為酸性氣體導入口、107為連接配管、108～110為霧化噴嘴、111～115為處理液槽、116為填充料。
圖2是圖1的第1處理塔和第2處理塔的局部放大圖。在圖2中，201～212為霧化噴嘴，213、214為處理液槽。還有，酸性氣體流由虛線箭頭表示，噴淋由實線箭頭表示。以下，對(1)噴淋和(2)各塔的填充料的量進行說明。
(1)關于噴淋的說明噴淋是由各霧化噴嘴供給。
霧化噴嘴204位于霧化噴嘴203的上方且設置在連接配管的上端部上，以便噴灑處理液(噴淋)到霧化噴嘴203的背面上。進而，霧化噴嘴205沿霧化噴嘴204的橫向方向設置，對霧化噴嘴204的非噴霧部分進行噴灑處理液。即，對前一個霧化噴嘴噴灑處理液。例如，如圖2所示，在從第1塔至第2塔的連接配管具有三個彎曲部和四個直管部的情況下，可以增設四個霧化噴嘴。結果，使噴嘴背面和連接配管的內部的霧流保持堿性(pH＞7)，可以抑制SiO2的析出。
更具體地說，在前述ClF3的質量速度為400升/小時·m2的情況下，利用pH計測定前述處理液槽111～115中的處理液的濃度，以pH＝10的方式供應處理液。在這種情況下，從上述霧化噴嘴噴霧的NaOH處理液的流量如表3所述。另外，實際上，處理液槽111、112、即處理液槽213、214內部的NaOH處理液的pH被控制在9.4至11.6的范圍內。還有，在三個月的觀察期內未發現由于析出而導致的堵塞。還有，pH＝9時也可以獲得與pH＝10相同的效果。因此，為了抑制SiO2的析出，在處理液槽中以pH在9以上(9或比9堿性更強)的方式進行設定。
(表3)從霧化噴嘴而來的NaOH處理液的流量單位升/分
通常，在pH＝2.5時，易于產生SiO2粒子的凝聚，因而，在pH＝9以上時，不易引起凝聚。還有，通過在連接配管內部增設霧化噴嘴，可以在一定程度上促進該空間中的氣液反應，抑制析出反應。
以上，對SiO2粒子的凝聚進行了說明，但是對于其它無機氧化物粒子也一樣，當溶液的pH值變化時，易于析出的狀態也發生變化。因而，對于在酸性條件下易于析出的粒子可以采用上述方法。
(2)對各塔的填充料的量(分配率)進行說明當將與參考例相同量的填充料投入到所有填充塔中時，在第1塔附近，集中地產生SiO2的析出反應。因而，在伴隨有析出反應的濕式洗滌器中，使析出物質分散到堿處理液中，可以延長壽命。而且，使各處理塔的pH值為在7以上的規定值。而且，以可以保持該規定值的方式進行處理液的控制。還有，由于在各塔中進行中和所必需的NaOH處理液的量不同，如圖1所示的處理液槽被分割為111～115。特別是由于濃度高的酸性氣體進入到第1塔中，所以與其它處理室相比，需要增加第1塔的處理液槽111內部的NaOH處理液的更換頻率或補充頻率。
在ClF3的質量速度為400升/小時·m2的情況下，分配率如下(表4)所示。在(表4)中同時還記錄了參考例。
(表4)填充料的分配率(％)
利用這樣的填充料的分配率和增設霧化噴嘴，采用本實施例的方法的洗滌器在斷續地運行200小時之后停止，對洗滌器內部進行觀察。結果，在連接配管的彎曲部發現了微量的析出物，但是配管一點也沒有堵塞。還有，在第1塔的篩網的一部分中發現了析出物，但是析出物的量極少，可以容易地去除。
在上述實施例中，大量使用霧化噴嘴，使處理室內部的pH值保持堿性，可以抑制配管等的析出反應并防止堵塞。特別是在目標pH為10的情況下，實際的pH測定值為9.4～11.6，即使進行三個月時間的運轉，第1處理塔內部、從第1處理塔到第2處理塔之間的連接配管中也僅發現了微量的析出，根本沒有堵塞。
權利要求
1.濕式氣體處理方法，在配有兩個以上串聯連接的處理塔的處理酸性氣體的方法中，其特征在于，出口處酸性氣體濃度Ce1相對于最初導入前述酸性氣體的第1處理塔的入口處的酸性氣體濃度Ci1的比R1＝Ce1/Ci1，大于第n個處理塔(n≥2)中的至少一個的出口處酸性氣體濃度相對于入口處酸性氣體濃度的比Rn＝Cen/Cin。
2.權利要求1記載的濕式氣體處理方法，其特征在于，前述R1大于所有第n個處理塔(n≥2)的Rn。
3.權利要求1記載的濕式氣體處理方法，其特征在于，R1在0.4以上。
4.濕式氣體處理方法，在配有兩個以上串聯連接的處理塔的處理酸性氣體的方法中，其特征在于，由在第k個處理塔(k為自然數)內部設置的霧化噴嘴噴霧的堿處理液產生的流向第k+1個處理塔的霧流，在連接在處理塔之間的配管中的任何空間內均保持堿性。
5.濕式氣體處理方法，在配有兩個以上串聯連接的處理塔的處理酸性氣體的方法中，其特征在于，控制堿處理液的噴霧流量或濃度，以便使在對第1處理塔內噴霧的堿處理液的第1處理塔下部的處理液槽中測定的pH值在9以上。
6.濕式氣體處理裝置，在配有兩個以上用連接配管串聯連接的處理塔、利用堿處理液對酸性氣體進行處理的濕式氣體處理裝置中，其特征在于，填充到第1處理塔中的填充料的量比填充到第2處理塔以后的任何一塔中的填充料的量都少。
7.權利要求6記載的濕式氣體處理裝置，其特征在于，填充到第1處理塔中的填充料的量比填充到第n個處理塔(n≥2)中的填充料的量中的任何一個都少。
8.濕式氣體處理裝置，在配有兩個以上用連接配管串聯連接的處理塔、利用堿處理液對酸性氣體進行處理的濕式氣體處理裝置中，其特征在于，在連接配管內部具有前述連接配管中的至少在第1處理塔和第2處理塔之間的連接配管的彎曲數+1個以上的霧化噴嘴，這些霧化噴嘴各自以能被其它噴嘴直接噴射到堿處理液的方式配置。
全文摘要
以在第1塔中的處理液不變成酸性的方式減少填充料，減少的那部分填充料轉到第5塔中以便同時控制除害和析出。還有，在第1塔和第2塔之間的連接配管內部，設置多個霧化噴嘴，控制析出反應。由此，在濕式氣體處理裝置中，可以防止處理塔之間的連接配管內部和處理塔內部產生析出物、堵塞連接配管。
文檔編號B01D53/34GK1429654SQ0215880
公開日2003年7月16日 申請日期2002年12月25日 優先權日2001年12月25日
發明者越前裕, 伊澤博司 申請人:佳能株式會社