一種干式蝕刻機用防護罩的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及機械領域，特別是，涉及一種干式蝕刻機用防護罩。
【背景技術】
[0002]在實際生產中，由于干式蝕刻機L0ADL0CK端整個暴露在車間灰區，使得整個傳送過程中，硅片也裸漏在灰區，容易造成硅片污染，降低后期加工的良品率，一定程度上增加了生產成本。
【實用新型內容】
[0003]為了克服現有技術的不足，本實用新型的目的在于提供一種干式蝕刻機用防護罩，其裝置在干式蝕刻機LOADLOCia^，可以隔離灰區，將污染源隔離，減少顆粒沾污，提高產品良率，且PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)為透明材質，不影響關照亮度，不影響生產的正常進行。
[0004]為解決上述問題，本實用新型所采用的技術方案如下:
[0005 ] —種干式蝕刻機用防護罩，包括一塊頂板和兩塊側板，所述側板對稱固定在頂板兩邊，所述側板底部設置有密封條，所述頂板和側板均為PMMA材質。
[0006]優選的，所述頂板和側板之間一體成型。
[0007]優選的，所述頂板和側板之間通過粘接方式固定，所述頂板與側板連接處頂板拐角α為45°，所述側板與頂板連接處側板拐角β為45°。
[0008]優選的，所述頂板上設置有提手。
[0009]優選的，所述側板上設置有拉手，所述拉手靠近側板底端。
[0010]優選的，所述頂板和側板兩面均為拋光面。
[0011 ]優選的，所述頂板和側板厚度相同。
[0012]優選的，所述頂板厚度為0.5-1.5cm。
[0013]相比現有技術，本實用新型的有益效果在于:本實用新型可以裝置在干式蝕刻機L0ADL0CK端，可以隔離灰區，將污染源隔離，減少顆粒沾污，提高產品良率，且PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)為透明材質，不影響關照亮度，不影響生產的正常進行。
【附圖說明】
[0014]圖1為本實用新型結構不意圖；
[0015]圖2為實施例1中干式蝕刻機用防護罩結構示意圖；
[0016]圖3為圖2中A處局部放大圖；
[0017]圖4為實施例2中干式蝕刻機用防護罩結構示意圖；
[0018]其中，I為頂板，11為提手，2為側板，21為密封條，22為拉手，α為頂板與側板連接處頂板的拐角，β為側板與頂板連接處側板的拐角。
【具體實施方式】
[0019]下面結合附圖和【具體實施方式】對本實用新型作進一步詳細說明。
[0020]如圖1所示，為本實用新型中干式蝕刻機用防護罩，包括一塊頂板I和兩塊側板2，側板2對稱固定在頂板I兩邊，側板2底部設置有密封條21，頂板I和側板2均為PMMA材質。
[0021]實施例1
[0022]干式蝕刻機用防護罩包括一塊頂板I和兩塊側板2，側板2對稱固定在頂板I兩邊，側板2底部設置有密封條21，頂板I和側板2均為PMMA材質;頂板I和側板2之間通過粘接方式固定，頂板I與側板2連接處頂板I拐角α為45°，側板2與頂板I連接處側板2拐角β為45°，頂板I上設置有，頂板I和側板2兩面均為拋光面，頂板I和側板2厚度相同，均為0.5cm。
[0023]密封條21可以阻止底部接觸面灰塵的進入，PMMA材質可以保證干式蝕刻機用防護罩的透光度，頂板I和側板2相同厚度和拐角α、β均為45°的設計，可以保證干式蝕刻機用防護罩結構的穩定性，頂板I和側板2兩面均為拋光面的設計可以有避免干式蝕刻機用防護罩沾上灰塵，提手11便于干式蝕刻機用防護罩的提取。
[0024]實施例2
[0025]干式蝕刻機用防護罩包括一塊頂板I和兩塊側板2，側板2對稱固定在頂板I兩邊，頂板I上設置有提手11，側板2底部設置有密封條21，側板2上設置有拉手22，拉手22靠近側板2底端，頂板I和側板2均為PMMA材質；頂板I和側板2兩面均為拋光面，頂板I和側板2厚度相同，均為I.5cmο
[0026]密封條21可以阻止底部接觸面灰塵的進入，PMMA材質可以保證干式蝕刻機用防護罩的透光度，頂板I和側板2相同厚度和頂板I和側板2之間一體成型的設計，可以保證干式蝕刻機用防護罩結構的穩定性，頂板I和側板2兩面均為拋光面的設計可以有避免干式蝕刻機用防護罩沾上灰塵，提手11便于干式蝕刻機用防護罩的提取，拉手22便于干式蝕刻機用防護罩的安裝和拆卸。
[0027]對本領域的技術人員來說，可根據以上描述的技術方案以及構思，做出其它各種相應的改變以及形變，而所有的這些改變以及形變都應該屬于本實用新型權利要求的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種干式蝕刻機用防護罩，其特征在于，包括一塊頂板和兩塊側板，所述側板對稱固定在頂板兩邊，所述側板底部設置有密封條，所述頂板和側板均為PMMA材質。2.如權利要求1所述的干式蝕刻機用防護罩，其特征在于，所述頂板和側板之間一體成型。3.如權利要求1所述的干式蝕刻機用防護罩，其特征在于，所述頂板和側板之間通過粘接方式固定，所述頂板與側板連接處頂板拐角α為45°，所述側板與頂板連接處側板拐角β為45。。4.如權利要求1-3任一項所述的干式蝕刻機用防護罩，其特征在于，所述頂板上設置有提手。5.如權利要求1-3任一項所述的干式蝕刻機用防護罩，其特征在于，所述側板上設置有拉手，所述拉手靠近側板底端。6.如權利要求1-3任一項所述的干式蝕刻機用防護罩，其特征在于，所述頂板和側板兩面均為拋光面。7.如權利要求6所述的干式蝕刻機用防護罩，其特征在于，所述頂板和側板厚度相同。8.如權利要求7所述的干式蝕刻機用防護罩，其特征在于，所述頂板厚度為0.5-1.5cm。
【專利摘要】本實用新型公開了一種干式蝕刻機用防護罩，包括一塊頂板和兩塊側板，所述側板對稱固定在頂板兩邊，所述側板底部設置有密封條，所述頂板和側板均為PMMA材質。本實用新型裝置在干式蝕刻機LOADLOCK端，可以隔離灰區，將污染源隔離，減少顆粒沾污，提高產品良率，且PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)為透明材質，不影響關照亮度，不影響生產的正常進行。
【IPC分類】B08B15/00
【公開號】CN205308931
【申請號】CN201521098885
【發明人】高清忠
【申請人】蘇州同冠微電子有限公司
【公開日】2016年6月15日
【申請日】2015年12月24日