Wafer自動清洗機的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及清洗機領域技術，尤其是指一種Wafer自動清洗機。
【背景技術】
[0002]晶兀(Wafer)，也稱嘉晶、晶圓、監寶石襯底、外延片。是生廣集成電路所用的載體，多指單晶硅圓片。多用于顯示照明及LED行業。單晶硅圓片由普通硅砂拉制提煉，經過溶解、提純、蒸餾一系列措施制成單晶硅棒，單晶硅棒經過拋光、切片之后，就成為了晶元。
[0003]晶元在完成制作后通常需要進行清洗和烘干，現有技術中，這兩道工序均采用人工完成，人工清洗不但效率低，并且清洗不干凈，對產品的質量造成影響。
【實用新型內容】
[0004]有鑒于此，本實用新型針對現有技術存在之缺失，其主要目的是提供一種Wafer自動清洗機，其能有效解決現有之人工清洗和烘干方式效率低、質量不好的問題。
[0005]為實現上述目的，本實用新型采用如下之技術方案:
[0006]—種Wafer自動清洗機，包括有機架、轉盤裝置、高壓水槍、烘干燈以及PLC控制系統；該機架具有一工作腔室，該轉盤裝置、高壓水槍和烘干燈均設置于機架上并位于工作腔室內，且高壓水槍和烘干燈均位于轉盤裝置的上方，轉盤裝置由第一驅動機構帶動而高速旋轉，該高壓水槍連接高壓柱塞栗，高壓柱塞栗由電動機帶動運轉；該PLC控制系統設置于機架上，前述第一驅動機構、高壓柱塞栗和烘干燈均連接PLC控制系統。
[0007]優選的，所述高壓水槍可擺動地設置于機架上，高壓水槍有第二驅動機構帶動而來回擺動，第二驅動機構連接PLC控制系統。
[0008]優選的，所述第二驅動機構為電機。
[0009]優選的，所述第一驅動機構為電機，電機通過皮帶帶動轉盤裝置旋轉運動。
[0010]優選的，所述烘干燈可前后來回活動地設置于機架上。
[0011]優選的，針對工作腔室設置有用于蓋住工作腔室開口的亞克力保護門，亞克力保護門由氣缸驅動而打開或關閉。
[0012]本實用新型與現有技術相比具有明顯的優點和有益效果，具體而言，由上述技術方案可知:
[0013]通過利用電動機使高壓柱塞栗產生高壓水來沖洗物體表面，能將污垢剝離沖走，達到清洗物體表面的目的，清洗更加干凈，保證了產品質量，本設備可對Wafer自動完成清洗和烘干工序，工作效率高，功能完善，自動化程度高，不需人工介入，可降低人工成本。
[0014]為更清楚地闡述本實用新型的結構特征和功效，下面結合附圖與具體實施例來對本實用新型進行詳細說明。
【附圖說明】
[0015]圖1是本實用新型之較佳實施例的立體示意圖；
[0016]圖2是本實用新型之較佳實施例的主視圖。
[0017]附圖標識說明:
[0018]10、機架11、工作腔室
[0019]20、轉盤裝置30、高壓水槍
[0020]40、烘干燈50、PLC控制系統
[0021]60、第一驅動機構70、高壓柱塞栗
[0022]80、第二驅動機構90、亞克力保護門。
【具體實施方式】
[0023]請參照圖1和圖2所示，其顯示出了本實用新型之較佳實施例的具體結構，包括有機架10、轉盤裝置20、高壓水槍30、烘干燈40以及PLC控制系統50。
[0024]該機架10具有一工作腔室11，該轉盤裝置20、高壓水槍30和烘干燈40均設置于機架10上并位于工作腔室11內，且高壓水槍30和烘干燈40均位于轉盤裝置20的上方，轉盤裝置20由第一驅動機構60帶動而高速旋轉，在本實施例中，所述第一驅動機構60為電機，電機通過皮帶(圖中未示)帶動轉盤裝置20旋轉運動。該高壓水槍30連接高壓柱塞栗70，高壓柱塞栗70由電動機帶動運轉，在本實施例中，所述高壓水槍30可擺動地設置于機架10上，高壓水槍30有第二驅動機構80帶動而來回擺動，第二驅動機構80連接PLC控制系統50，所述第二驅動機構80為電機。該烘干燈40可前后來回活動地設置于機架10上。
[0025]該PLC控制系統50設置于機架10上，前述第一驅動機構60、高壓柱塞栗70和烘干燈40均連接PLC控制系統50。
[0026]以及，針對工作腔室11設置有用于蓋住工作腔室11開口的亞克力保護門90，亞克力保護門90由氣缸(圖中未示)驅動而打開或關閉。
[0027]工作時，人工將產品放置在轉盤裝置20上定位，按啟動鍵，亞克力防護門90由氣缸驅動自動關閉，第一驅動機構60帶動轉盤裝置20高速旋轉，高壓水槍30自動啟動，旋轉擺動式噴水而對產品表面進行清潔，當設定的噴水時間到后，烘干燈40啟動，自動烘烤產品，設定時間到后，轉盤裝置20停止旋轉，亞克力防護門90自動打開，清洗結束，人工替換
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[0028]本實用新型的設計重點是:通過利用電動機使高壓柱塞栗產生高壓水來沖洗物體表面，能將污垢剝離沖走，達到清洗物體表面的目的，清洗更加干凈，保證了產品質量，本設備可對Wafer自動完成清洗和烘干工序，工作效率高，功能完善，自動化程度高，不需人工介入，可降低人工成本。
[0029]以上結合具體實施例描述了本實用新型的技術原理。這些描述只是為了解釋本實用新型的原理，而不能以任何方式解釋為對本實用新型保護范圍的限制。基于此處的解釋，本領域的技術人員不需要付出創造性的勞動即可聯想到本實用新型的其它【具體實施方式】，這些方式都將落入本實用新型的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種Wafer自動清洗機，其特征在于:包括有機架、轉盤裝置、高壓水槍、烘干燈以及PLC控制系統；該機架具有一工作腔室，該轉盤裝置、高壓水槍和烘干燈均設置于機架上并位于工作腔室內，且高壓水槍和烘干燈均位于轉盤裝置的上方，轉盤裝置由第一驅動機構帶動而高速旋轉，該高壓水槍連接高壓柱塞栗，高壓柱塞栗由電動機帶動運轉；該PLC控制系統設置于機架上，前述第一驅動機構、高壓柱塞栗和烘干燈均連接PLC控制系統。2.如權利要求1所述的Wafer自動清洗機，其特征在于:所述高壓水槍可擺動地設置于機架上，高壓水槍有第二驅動機構帶動而來回擺動，第二驅動機構連接PLC控制系統。3.如權利要求2所述的Wafer自動清洗機，其特征在于:所述第二驅動機構為電機。4.如權利要求1所述的Wafer自動清洗機，其特征在于:所述第一驅動機構為電機，電機通過皮帶帶動轉盤裝置旋轉運動。5.如權利要求1所述的Wafer自動清洗機，其特征在于:所述烘干燈可前后來回活動地設置于機架上。6.如權利要求1所述的Wafer自動清洗機，其特征在于:針對工作腔室設置有用于蓋住工作腔室開口的亞克力保護門，亞克力保護門由氣缸驅動而打開或關閉。
【專利摘要】本實用新型公開一種Wafer自動清洗機，包括有機架、轉盤裝置、高壓水槍、烘干燈以及PLC控制系統；該機架具有一工作腔室，該轉盤裝置、高壓水槍和烘干燈均設于機架上并位于工作腔室內，高壓水槍和烘干燈均位于轉盤裝置的上方，轉盤裝置由第一驅動機構帶動高速旋轉，該高壓水槍連接高壓柱塞泵，高壓柱塞泵由電動機帶動運轉；該PLC控制系統設置于機架上，前述第一驅動機構、高壓柱塞泵和烘干燈均連接PLC控制系統。通過利用電動機使高壓柱塞泵產生高壓水來沖洗物體表面，能將污垢剝離沖走，達到清洗物體表面的目的，清洗更加干凈，保證產品質量，本設備可對Wafer自動完成清洗和烘干工序，工作效率高，功能完善，自動化程度高，不需人工介入，可降低人工成本。
【IPC分類】B08B13/00, F26B23/04, B08B3/02
【公開號】CN204892454
【申請號】CN201520606176
【發明人】黃均學
【申請人】東莞市承恩自動化設備有限公司
【公開日】2015年12月23日
【申請日】2015年8月13日