一種含鉻離子廢水處理工藝的制作方法
【專利摘要】本發明所述一種含鉻離子廢水處理工藝，含鉻廢水預處理：含鉻廢水采用一級pH調節，然后經過二級還原反應池，再經二級pH調節池，調整pH在10?11之間，然后再經混凝反應，經充分反應后水體進入至沉淀池，在沉淀池中進行泥與水的快速分離，出水排至電鍍混合廢水收集池，污泥則排至單獨設置的含鉻污泥池。本發明提供了一種含鎳離子廢水處理工藝，采用一站式電鍍工業廢水處理即可使其達到排放要求，大大減小了電鍍廢水處理的復雜度。
【專利說明】
一種含鉻離子廢水處理工藝
技術領域
[0001 ]本發明涉及廢水處理工藝，具體地說，涉及一種含鉻離子廢水處理工藝。
【背景技術】
[0002]電鍍廢水中通常含有銅Cu，鎳Ni，鉻Cr，以及氰化物劇毒物質，主要分為以下幾類:
(1)含鉻廢水:卩11=2?6，[(^6+]彡8011^/1;(2)含銅廢水:？!1= 7.5?8.5，[012+]=30?45mg/L； (3)含鎳廢水:卩!1=3?5，[祖2+]=40?6511^凡；(4)含氰廢水:pH = 5?8，[CN2+]=30?50mg/L;(5)前處理廢水:pH=6?7，[Ni2+]=5?10mg/L、[Zn2+]=30 ?40mg/L、[Cu2+]=3?5mg/L、石油類= 50_75mg/L。(6)綜合廢水:CODcr= 100?300mg/L，SS = 100?400mg/L。電鍍廢水的治理在國內外普遍受到重視，研制出多種治理技術，通過將有毒治理為無毒、有害轉化為無害、回收貴重金屬、水循環使用措施消除和減少重金屬的排放量。隨著電鍍工業的快速發展和環保要求的日益提高，目前，電鍍廢水治理已開始進入清潔生產工藝、總量控制和循環經濟整合階段，資源回收利用和閉路循環是發展的主流方向。
[0003]針對我國目前電鍍行業廢水的處理現狀的統計和調查，廣泛采用的主要有7不同分類的方法:(I)化學沉淀法，又分為中和沉淀法和硫化物沉淀法。(2)氧化還原處理，分為化學還原法、鐵氧體法和電解法。(3)溶劑萃取分離法。(4)吸附法。(5)膜分離技術。(6)離子交換法。(7)生物處理技術，包括生物絮凝法、生物吸附法、生物化學法、植物修復法。但目前都存在一定的弊端或嚴重的不合理性，使得電鍍廢水處理不充分，不能達到國標排放要求，污染環境。
[0004]特別是針對化學沉淀法對電鍍廢水進行處理存在主要存在以下問題:(I)現有的工藝流程，使用單次氯酸鈉還原，不能將氰絡合物分離，從而造成處理的水無法達標排放。
(2)現有的工藝流程由于不能破解水體里的絡合物，電鍍廢水每路廢水都混合了不同的絡合物，如果只靠單一藥劑處理是不能將所有的絡合物完全分解的，絡合物在沒有還原的情況下，用再多的藥劑也無用，不能通過沉淀去除有毒有害物質，只能用大量的清水進行稀釋排放，在浪費水資源的同時仍舊造成對環境的破壞。
[0005]故，針對目前現有技術中存在的上述缺陷，實有必要進行研究，以提供一種方案，解決現有技術中存在的缺陷，避免造成電鍍廢水的處理不徹底，無法達到環保標準的排放要求
【發明內容】
[0006]為了克服上述技術問題，本發明提供了一種含鎳離子廢水處理工藝。
[0007]為了實現上述目的，本發明所述一種含鉻離子廢水處理工藝，含鉻廢水預處理:含鉻廢水采用一級PH調節，然后經過二級還原反應池，再經二級pH調節池，調整pH在10-11之間，然后再經混凝反應，經充分反應后水體進入至沉淀池，在沉淀池中進行泥與水的快速分離，出水排至電鍍混合廢水收集池，污泥則排至單獨設置的含鉻污泥池。
[0008]本發明所述一種含鉻離子廢水處理工藝，其中pH調節主要為投加酸性物質，根據需要投加稀硫酸，在還原反應池中主要投加焦亞硫酸鈉，將廢水中六價鉻還原成三價鉻，主要投加聚合氯化鋁或硫酸亞鐵絮凝劑及陽離子聚丙烯酰胺助凝劑進行混凝反應。
[0009]本發明所述一種含鉻離子廢水處理工藝，通過含鉻廢水收集池收集的含鉻廢水通入加有0.05-5%硫酸的PH調節池一，將pH調節至2-3后進入添加0.02-0.1 %焦亞硫酸鈉的還原池一，一次還原結束后進入添加0.02-0.1 %焦亞硫酸鈉的還原池進行二次還原，二次還原結束后的廢水通入加有0.0 5-0.1 %石灰，片堿或液堿的pH調節池二，調節pH至I O-11后通入加有0.05-1 %PAC的反應池一進行絮凝反應，然后通入加有0.02-0.1 %PAM捕捉劑的反應池二進行二次絮凝反應，經過二次絮凝反應的廢水進入沉淀池進行沉淀后進行泥與水的快速分離，出水排至電鍍混合廢水收集池，污泥則排至單獨設置的含鉻污泥池。
[0010]本發明提供了一種含鎳離子廢水處理工藝，采用一站式電鍍工業廢水處理即可使其達到排放要求，大大減小了電鍍廢水處理的復雜度。
【附圖說明】
[0011]為了更清楚地說明本發明實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹。
[0012]圖1為本發明一種含鉻離子廢水處理工藝的模塊結構視圖。
【具體實施方式】
[0013]下面的實施例。在本發明的一個附圖或一種實施方式中描述的元素和特征可以與一個或更多個其他附圖或實施方式中示出的元素和特征相結合。應當注意，為了清楚的目的，附圖和說明中省略了與本發明無關的、本領域普通技術人員已知的部件或處理的表示和描述。
[0014]下面結合附圖對本發明做進一步描述。
[0015]如圖1所示，本發明所述一種含鉻離子廢水處理工藝，含鉻廢水預處理:含鉻廢水采用一級pH調節，然后經過二級還原反應池，再經二級pH調節池，調整pH在10-11之間，然后再經混凝反應，經充分反應后水體進入至沉淀池，在沉淀池中進行泥與水的快速分離，出水排至電鍍混合廢水收集池，污泥則排至單獨設置的含鉻污泥池。
[0016]本發明所述一種含鉻離子廢水處理工藝，其中pH調節主要為投加酸性物質，根據需要投加稀硫酸，在還原反應池中主要投加焦亞硫酸鈉，將廢水中六價鉻還原成三價鉻，主要投加聚合氯化鋁或硫酸亞鐵絮凝劑及陽離子聚丙烯酰胺助凝劑進行混凝反應。
[0017]本發明所述一種含鉻離子廢水處理工藝，通過含鉻廢水收集池收集的含鉻廢水通入加有0.05-5%硫酸的PH調節池一，將pH調節至2-3后進入添加0.02-0.1 %焦亞硫酸鈉的還原池一，一次還原結束后進入添加0.02-0.1 %焦亞硫酸鈉的還原池進行二次還原，二次還原結束后的廢水通入加有0.0 5-0.1 %石灰，片堿或液堿的pH調節池二，調節pH至I O-11后通入加有0.05-1 %PAC的反應池一進行絮凝反應，然后通入加有0.02-0.1 %PAM捕捉劑的反應池二進行二次絮凝反應，經過二次絮凝反應的廢水進入沉淀池進行沉淀后進行泥與水的快速分離，出水排至電鍍混合廢水收集池，污泥則排至單獨設置的含鉻污泥池。
[0018]本發明提供了一種含鎳離子廢水處理工藝，采用一站式電鍍工業廢水處理即可使其達到排放要求，大大減小了電鍍廢水處理的復雜度。
[0019]在酸性PH值為2?3條件下，用亞硫酸氫根將六價鉻還原成三價鉻，然后調pH值為8?10.5，使之生成氫氧化物沉淀，反應方程式如下:
[0020]2H2Cr207+3H2S04+6NaHS03=2Cr2(S04)3+3Na2S04+8H20[0021 ] Cr2(S04)3+6Na0H=2Cr(0H)3|+3Na2S04
[0022]鉻還原并沉鉻后的廢水匯入綜合廢水調節池，然后與其他廢水混合，一起進行進一步的處理。
[0023]本發明提供了一種含鎳離子廢水處理工藝，采用一站式電鍍工業廢水處理即可使其達到排放要求，大大減小了電鍍廢水處理的復雜度。
[0024]雖然已經詳細說明了本發明及其優點，但是應當理解在不超出由所附的權利要求所限定的本發明的精神和范圍的情況下可以進行各種改變、替代和變換。而且，本申請的范圍不僅限于說明書所描述的過程、設備、手段、方法和步驟的具體實施例。本領域內的普通技術人員從本發明的公開內容將容易理解，根據本發明可以使用執行與在此所述的相應實施例基本相同的功能或者獲得與其基本相同的結果的、現有和將來要被開發的過程、設備、手段、方法或者步驟。因此，所附的權利要求旨在在它們的范圍內包括這樣的過程、設備、手段、方法或者步驟。
【主權項】
1.一種含鉻離子廢水處理工藝，含鉻廢水預處理:含鉻廢水采用一級pH調節，然后經過二級還原反應池，再經二級PH調節池，調整pH在10-11之間，然后再經混凝反應，經充分反應后水體進入至沉淀池，在沉淀池中進行泥與水的快速分離，出水排至電鍍混合廢水收集池，污泥則排至單獨設置的含鉻污泥池。2.根據權利要求1所述的一種含鎳離子廢水處理工藝，其特征在于:其中pH調節主要為投加酸性物質，根據需要投加稀硫酸，在還原反應池中主要投加焦亞硫酸鈉，將廢水中六價鉻還原成三價鉻，主要投加聚合氯化鋁或硫酸亞鐵絮凝劑及陽離子聚丙烯酰胺助凝劑進行混凝反應。3.根據權利要求2所述的一種含鎳離子廢水處理工藝，其特征在于:通過含鉻廢水收集池收集的含鉻廢水通入加有0.05-5 %硫酸的PH調節池一，將pH調節至2-3后進入添加0.02-.0.1%焦亞硫酸鈉的還原池一，一次還原結束后進入添加0.02-0.1 %焦亞硫酸鈉的還原池進行二次還原，二次還原結束后的廢水通入加有0.05-0.1 %石灰，片堿或液堿的pH調節池二，調節pH至10-11后通入加有0.05-1 %PAC的反應池一進行絮凝反應，然后通入加有0.02-.0.1% PAM捕捉劑的反應池二進行二次絮凝反應，經過二次絮凝反應的廢水進入沉淀池進行沉淀后進行泥與水的快速分離，出水排至電鍍混合廢水收集池，污泥則排至單獨設置的含鉻污泥池。
【文檔編號】C02F9/04GK105967386SQ201610357721
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年5月26日
【發明人】張明開, 姚迎春, 高翔
【申請人】江蘇興隆防腐設備有限公司