一種基板清理裝置的制造方法
【專利摘要】本發明公開了一種基板清理裝置，用以使得基板的清理過程更加簡化，清理效果更佳，并且可以實現對基板的不同面進行選擇性清理，進而可以對制作了有機膜層和金屬膜層后的顯示面板上的顆粒物進行清理。一種基板清理裝置，用于清理所述基板上的顆粒物，所述裝置包括：真空腔室，設置于所述真空腔室內的至少一個導電板、支撐部件、第一電荷產生器以及第二電荷產生器；其中，所述支撐部件用于支撐基板；所述第一電荷產生器與所述導電板電連接，用于使所述導電板產生第一極性電荷；所述第二電荷產生器用于在所述支撐部件放置所述基板后，使所述基板表面的顆粒物產生與所述第一極性電荷的電極性相反的第二極性電荷。
【專利說明】
一種基板清理裝置
技術領域
[0001]本發明涉及顯示領域，尤其涉及一種基板清理裝置。
【背景技術】
[0002]近年來，平板顯示器的發展迅速，己經逐漸取代傳統的陰極射線管顯示器。其中，薄膜晶體管液晶顯不器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT_LCD)和主動矩陣有機發光二極管顯不器(Active-matrix Organic Light Emitting D1de,AMOLED)已經發展成為主流的顯示產品。
[0003]在顯不廣品的制備過程中，襯底基板上的顆粒物是決定廣品良率的關鍵因素。若襯底基板上的顆粒物清理不干凈，很容易引起后期制作的TFT特性不良，導致最終TFT-LCD和AMOLED顯示產品出現點缺陷甚至線缺陷，降低顯示面板的制作良率。而且，對于大尺寸AMOLED顯示產品，在蒸鍍完有機層和陰極層后，顯示面板與支撐顯示面板的基底接觸的一面會殘余金屬和有機顆粒物，而基板殘存的這些顆粒物對后續的封裝過程會產生很大的影響，很容易導致設備機臺短路以及在壓合的過程中發生破片，也會降低顯示面板的制作良率。
[0004]目前的基板清理裝置對基板上的顆粒物的清理過程主要包括:通過基板清洗裝置進行刷洗和藥洗，然后送去基板檢測裝置對基板的清潔度進行檢測，若基板的清潔度不符合標準，需再送去清洗裝置進行刷洗和藥洗，如此反復。因此，基板清理裝置對基板的清洗過程繁瑣、復雜，而且清理過程主要是在溶液中進行，不能對基板的不同面進行選擇性清理，進而無法對制作了有機膜層和金屬膜層后的顯示面板上的顆粒物進行清理。
【發明內容】
[0005]本申請實施例提供了一種基板清理裝置，用以使得基板的清理過程更加簡化，清理效果更佳，并且可以實現對基板的不同面進行選擇性清理，可以對制作了有機膜層和金屬膜層后的顯示面板上的顆粒物進行清理。
[0006]本申請實施例提供一種基板清理裝置，用于清理所述基板上的顆粒物，所述裝置包括:真空腔室，設置于所述真空腔室內的至少一個導電板、支撐部件、第一電荷產生器以及第二電荷產生器;其中，
[0007]所述支撐部件用于支撐基板；
[0008]所述第一電荷產生器與所述導電板電連接，用于使所述導電板產生第一極性電荷；
[0009]所述第二電荷產生器用于在所述支撐部件放置所述基板后，使所述基板表面的顆粒物產生與所述第一極性電荷的電極性相反的第二極性電荷。
[0010]本申請實施例提供的基板清理裝置，通過第一電荷產生器使導電板產生第一極性電荷，通過第二電荷使基板上的顆粒物產生與第一極性電荷極性相反的第二極性電荷，基板上帶有第二極性電荷的顆粒物會在帶有第一極性電荷的導電板的吸附作用下向導電板運動，從而可以實現對基板上顆粒物進行清理。由于利用異性電荷相互吸引的原理對基板上的顆粒物進行清理，避免了傳統的基板清理裝置需對基板在溶液中進行較復雜的清理過程，可以使得基板的清理過程更加簡化，清理效果更佳，并且可以實現對基板的不同面進行選擇性清理，進而可以對制作了有機膜層和金屬膜層后的顯示面板上的顆粒物進行清理。
[0011]優選的，所述裝置還包括:設置于所述真空腔室內的與每一所述導電板一一對應電連接的電場檢測部件，所述電場檢測部件用于通過監測所述導電板在單位時間內的電場強度變化量，確定所述基板的顆粒物分布以及清理程度。
[0012]本申請實施例的基板清理裝置還包括與導電板電連接的電場檢測部件，電場檢測部件可以隨時檢測導電板在單位時間內的電場強度變化量，由于導電板在單位時間內的電場強度的變化量與基板上存在的顆粒物量有關，進而可以在清理過程中，使基板清理裝置對基板上的顆粒物分布以及清理效果做出評估。對基板上顆粒物分布的檢測有助于對基板上顆粒物的來源進行分析，以降低后續制作基板時顆粒物的形成幾率，提高基板清理裝置的清理效率。而且，基板清理裝置可以對基板上顆粒物的清理效果進行適時檢測，避免了傳統基板清理裝置需對基板進行先清理再檢測的復雜過程，進一步簡化了獲得清潔基板的工藝過程。
[0013]優選的，所述真空腔室內包括兩個導電板，分別為第一導電板和第二導電板，所述第一導電板和第二導電板相對設置，在所述支撐部件支撐有所述基板時，所述第一導電板和第二導電板分別與所述基板的第一平面和第二平面相對。
[0014]本申請實施例提供的基板清理裝置包括兩個相對設置的導電板，兩個導電板分別與基板的兩個平面相對，可以實現同時對基板的兩個面進行清理，對基板的清理過程更加方便、高效。
[0015]優選的，所述支撐部件為絕緣支撐部件。
[0016]本申請實施例提供的支撐部件為絕緣支撐部件可以防止支撐部件對基板上顆粒物所帶的電荷的轉移。
[0017]優選的，所述支撐部件包括多個絕緣支撐桿，每一所述絕緣支撐桿一端固定于所述真空腔室內壁，另一端用于與所述基板接觸。
[0018]優選的，每一所述絕緣支撐桿與所述基板接觸的一端呈尖細狀。
[0019]本申請實施例提供的絕緣支撐桿與基板接觸的一端呈尖細狀，可以減少絕緣支撐部件對基板清理面的遮擋面積，提高基板清理裝置對基板上的顆粒物的清理效果。
[0020]優選的，所述第二電荷產生器包括多個子電荷產生器。
[0021]本申請實施例提供的第二電荷產生器包括多個子電荷產生器，個子電荷產生器可以使基板上的較多數顆粒物均帶上第二極性電荷，提高基板清理裝置對基板上的顆粒物的清理效果。
[0022]優選的，所述裝置還包括與每一所述子電荷產生器一一對應并相連的機械臂，每一所述機械臂用于帶動與其相連的所述子電荷產生器在所述基板附近移動。
[0023]優選的，所述裝置還包括控制裝置，所述控制裝置與所述機械臂電連接，所述控制裝置通過控制所述機械臂，以使所述機械臂帶動所述子電荷產生器進行移動。
[0024]優選的，所述裝置還包括遙控部件，所述子電荷產生器上設置有用于接收所述遙控部件發出的控制信號接收部件，所述遙控部件通過向所述子電荷產生器發送控制信號，控制所述子電荷產生器在所述基板附近移動。
【附圖說明】
[0025]圖1為本申請實施例提供的一種基板清理裝置的結構示意圖；
[0026]圖2為本申請實施例提供的一種設置有電場檢測部件的基板清理裝置結構示意圖；
[0027]圖3為本申請實施例提供的基板清理裝置的清理原理示意圖；
[0028]圖4為本申請實施例提供的基板清理裝置的導電板在吸附顆粒物后的電荷分布示意圖；
[0029]圖5為本申請實施例提供的一種設置有兩個導電板的基板清理裝置結構示意圖；
[0030]圖6為本申請實施例提供的一種設置有可移動電荷產生器的基板清理裝置結構示意圖；
[0031]圖7為本申請實施例提供的另一種設置有可移動電荷產生器的基板清理裝置結構示意圖。
【具體實施方式】
[0032]下面結合說明書附圖對本申請實施例的實現過程進行詳細說明。需要注意的是，自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本發明，而不能理解為對本發明的限制。
[0033]如圖1所示，本申請實施例提供一種基板清理裝置，用于清理基板6上的顆粒物7，其中，顆粒物7，即基板6上的灰塵等，該基板清理裝置包括:真空腔室1，設置于真空腔室I內的至少一個導電板2、支撐部件3、第一電荷產生器4以及第二電荷產生器5;其中，
[0034]支撐部件3用于支撐基板6;
[0035]第一電荷產生器4與導電板2電連接，用于使導電板2產生第一極性電荷；
[0036]第二電荷產生器5用于在支撐部件3放置基板6后，使基板6表面的顆粒物7產生與第一極性電荷的電極性相反的第二極性電荷，其中，第一極性電荷可以為正電荷，相應的第二極性電荷為負電荷;第一極性電荷也可以為負電荷，相應的第二極性電荷為正電荷。
[0037]本申請實施例提供的基板清理裝置，通過第一電荷產生器4使導電板2產生第一極性電荷，通過第二電荷產生器5使基板6上的顆粒物7產生與第一極性電荷極性相反的第二極性電荷，基板6上帶有第二極性電荷的顆粒物7會在帶有第一極性電荷的導電板2的吸附作用下向導電板2運動，從而可以實現對基板6上顆粒物7進行清理。由于利用異性電荷相互吸引的原理對基板6上的顆粒物7進行清理，避免了傳統的基板清理裝置需對基板6在溶液中進行較復雜的清理過程，可以使得基板6的清理過程更加簡化，清理效果更佳，并且可以實現對基板6的不同面進行選擇性清理，進而可以對制作了有機膜層和金屬膜層后的顯示面板上的顆粒物7進行清理。
[0038]本申請實施例提供的基板清理裝置由于可以對基板6的兩面進行選擇清理，被清理的基板6可以是襯底基板，也可以是在襯底基板上制作了有機膜層和金屬膜層后的顯示面板。而傳統的基板清理裝置由于主要是在溶液中完成對基板6的清理過程，顯然無法對制作了有機膜層和金屬膜層后的顯示面板上的顆粒物進行清理。
[0039]參見圖2，優選的，本申請實施例提供的基板清理裝置還包括:設置于真空腔室內的與每一導電板2—一對應電連接的電場檢測部件8，電場檢測部件8用于通過監測導電板2在單位時間內的電場強度變化量，確定基板6的顆粒物分布以及清理程度。
[0040]下面結合圖3和圖4，以第一極性電荷為正電荷，第二極性電荷為負電荷，基板清理裝置設置有一個導電板2為例，對本申請實施例提供的基板清理裝置的清理及檢測原理進行如下具體說明，
[0041]第一電荷產生器4使導電板2產生正電荷，第二電荷產生器5使基板6上的顆粒物7產生負電荷，由于正負電荷的相互吸引，帶有負電荷的顆粒物7在帶有正電荷的導電板2的吸引作用下會向導電板2運動。在對基板6進行清理過程中，若基板6不同位置的顆粒物7的分布量不同，則單位時間內轉移到導電板2相應位置處的顆粒物7的量也會不相同，電場檢測部件8通過檢測導電板2的不同位置在單位時間內的電場強度變化量，可以實現對基板6不同位置處的顆粒物7分布量的檢測，進而可以對基板6上的顆粒物7的來源進行分析，以降低后續制作基板6時顆粒物的形成幾率，提高基板清理裝置的清理效率。在具體通過電場檢測部件8檢測基板6上的顆粒物7的分布時，可以使基板6運動地通過與電場檢測部件8電連接的導電板2下方，進而可以實現對基板6不同位置處的顆粒物7分布量的檢測。使基板6運動地通過導電板2下方以檢測基板6不同位置處的顆粒物7分布量可以參考現有技術中自動光學檢查(Automatic Optical Inspect1n，A0I)的檢測方法，在此不再贅述。另一方面，在進行清理的初始階段，由于基板6上的顆粒物7相對較多，單位時間內轉移到導電板2上的顆粒物7也會較多，導電板2在單位時間內的電場強度變化量較大，而隨著基板6上顆粒物7的減少，導電板2在單位時間內電場強度的變化量也會逐漸減小，因此，可通過檢測導電板2的電場強度變化量來確定基板清理裝置對基板6的清理程度，避免了傳統基板清理裝置需對基板6進行先清理再檢測的復雜過程，進一步簡化了獲得清潔基板的工藝過程。
[0042]本實施例中，基板清理裝置還包括與導電板2電連接的電場檢測部件8，導電板電場檢測部件8可以隨時檢測導電板2在單位時間內的電場強度變化量，由于導電板2在單位時間內的電場強度的變化量與基板6上存在的顆粒物量有關，進而可以在清理過程中，使基板清理裝置對基板6上的顆粒物分布以及清理效果做出評估，對基板6上顆粒物7分布的檢測可以有助于對基板6上顆粒物7的來源進行分析，以降低后續制作基板6時的顆粒物形成幾率，提高基板清理裝置的清理效率。而且，基板清理裝置可以對基板6上顆粒物7的清理效果進行適時檢測，避免了傳統基板清理裝置需對基板6進行先清理再檢測的復雜過程，進一步簡化了獲得清潔基板的工藝過程。
[0043]對于設置于基板清理裝置內的導電板的個數可以為一個，也可以為兩個、三個、四個以及多個，設置的導電板以清理基板上的顆粒物為目的，具體的設置個數可以根據需要進行選擇。
[0044]優選的，參見圖5，為了可以同時對基板6兩面的顆粒物7進行清理，本申請實施例提供的基板清理裝置可以設置兩個導電板2。本申請實施例提供的基板清理裝置，包括兩個導電板2，分別為第一導電板21和第二導電板22，第一導電板21和第二導電板22相對設置，在支撐部件3支撐有基板6時，第一導電板21和第二導電板22分別與基板6的第一平面61和第二平面62相對。本實施例提供的基板清理裝置包括兩個相對設置的導電板2，兩個導電板2分別與基板的兩個平面相對，可以實現同時對基板6的兩個面進行清理，對基板6的清理過程更加方便、高效。
[0045]優選的，為了防止支撐部件3對基板6上顆粒物7所帶的電荷的轉移，本申請實施例提供的支撐部件3為絕緣支撐部件。進一步的，為了減少絕緣支撐部件3對基板清理面的遮擋面積，提高基板清理裝置對基板6上的顆粒物7的清理效果，可以將絕緣部件3設置為多個絕緣桿，每一絕緣支撐桿一端固定于真空腔室內壁，另一端用于與基板6接觸，且每一絕緣支撐桿與基板接觸的一端可以設置為呈尖細狀。
[0046]優選的，為了使基板6上的較多數顆粒物7均帶上第二極性電荷，提高基板清理裝置對基板6上的顆粒物7的清理效果，本申請實施例的第二電荷產生器5可以包括多個子電荷產生器51。進一步的，可以將子電荷產生器51設置為可移動的電荷產生器，可移動的電荷產生器可以在使基板6上的顆粒物7帶上第二極性電荷后轉移到基板6與導電板2相對的以外空間，以避免子電荷產生器51阻擋導電板2吸附顆粒物7。同時，可移動的子電荷產生器51也可以使基板6上的較多數顆粒物7均帶上第二極性電荷，提高基板清理裝置對基板6上的顆粒物7的清理效果。對于如何將子電荷產生器51設置為可移動的電荷產生器，具體的，例如，參見圖6，可以為每一子電荷產生器51設置與其對應并相連的機械臂9，每一機械臂9用于帶動與其相連的子電荷產生器51在基板6附近移動。當然，為每一子電荷產生器51設置與其一一對應并相連的機械臂9時，基板清理裝置還包括控制裝置10，控制裝置10與機械臂9電連接，控制裝置10通過控制機械臂9，以使機械臂9帶動子電荷產生器51進行移動。又例如，參見圖7，基板清理裝置還可以設置遙控部件11以控制子電荷產生器51的移動。當然，通過遙控部件11控制子電荷產生器51的移動時，子電荷產生器51上還設置有用于接收遙控部件11發出的控制信號接收部件12，遙控部件11通過向子電荷產生器51發送控制信號，控制子電荷產生器51在基板附近移動。
[0047]顯然，本領域的技術人員可以對本發明進行各種改動和變型而不脫離本發明的精神和范圍。這樣，倘若本發明的這些修改和變型屬于本發明權利要求及其等同技術的范圍之內，則本發明也意圖包含這些改動和變型在內。
【主權項】
1.一種基板清理裝置，用于清理所述基板上的顆粒物，其特征在于，所述裝置包括:真空腔室，設置于所述真空腔室內的至少一個導電板、支撐部件、第一電荷產生器以及第二電荷產生器;其中， 所述支撐部件用于支撐基板； 所述第一電荷產生器與所述導電板電連接，用于使所述導電板產生第一極性電荷； 所述第二電荷產生器用于在所述支撐部件放置所述基板后，使所述基板表面的顆粒物產生與所述第一極性電荷的電極性相反的第二極性電荷。2.如權利要求1所述的基板清理裝置，其特征在于，所述裝置還包括:設置于所述真空腔室內的與每一所述導電板一一對應電連接的電場檢測部件，所述電場檢測部件用于通過監測所述導電板在單位時間內的電場強度變化量，確定所述基板的顆粒物分布以及清理程度。3.如權利要求1所述的基板清理裝置，其特征在于，所述真空腔室內包括兩個導電板，分別為第一導電板和第二導電板，所述第一導電板和第二導電板相對設置，在所述支撐部件支撐有所述基板時，所述第一導電板和第二導電板分別與所述基板的第一平面和第二平面相對。4.如權利要求1所述的基板清理裝置，其特征在于，所述支撐部件為絕緣支撐部件。5.如權利要求4所述的基板清理裝置，其特征在于，所述支撐部件包括多個絕緣支撐桿，每一所述絕緣支撐桿一端固定于所述真空腔室內壁，另一端用于與所述基板接觸。6.如權利要求5所述的基板清理裝置，其特征在于，每一所述絕緣支撐桿與所述基板接觸的一?而呈尖細狀。7.如權利要求1所述的基板清理裝置，其特征在于，所述第二電荷產生器包括多個子電荷產生器。8.如權利要求7所述的基板清理裝置，其特征在于，所述裝置還包括與每一所述子電荷產生器一一對應并相連的機械臂，每一所述機械臂用于帶動與其相連的所述子電荷產生器在所述基板附近移動。9.如權利要求8所述的基板清理裝置，其特征在于，所述裝置還包括控制裝置，所述控制裝置與所述機械臂電連接，所述控制裝置通過控制所述機械臂，以使所述機械臂帶動所述子電荷產生器進行移動。10.如權利要求7所述的基板清理裝置，其特征在于，所述裝置還包括遙控部件，所述子電荷產生器上設置有用于接收所述遙控部件發出的控制信號接收部件，所述遙控部件通過向所述子電荷產生器發送控制信號，控制所述子電荷產生器在所述基板附近移動。
【文檔編號】B08B13/00GK105964626SQ201610302641
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年5月9日
【發明人】賈文斌, 彭銳, 王欣欣, 葉志杰, 黃磊
【申請人】京東方科技集團股份有限公司, 合肥鑫晟光電科技有限公司