一種射流溶氣裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及氣浮凈水技術領域，具體涉及一種射流溶氣裝置。
【背景技術】
[0002]現有的溶氣罐包括中空結構的罐體，罐體上設有進水口、出水口、進氣口、壓力表和安全閥，罐體內設有一個與進水口連接的射流器，與傳統的曝氣設備相比，空氣與水的溶解程度稍有提高，但溶氣水的效果仍不理想。
【發明內容】
[0003]針對上述問題，本發明提供了一種射流溶氣裝置，其能使得空氣和水溶解更充分，以提供更加尚效、穩定的溶氣水。
[0004]其技術方案是這樣的，其包括中空結構的罐體和高壓水栗，罐體上設有進水口、出水口、進氣口、壓力表和安全閥，所述進水口位于所述罐體軸向端部，其特征在于:所述射流溶氣裝置還包括置于罐體外側的射流器，所述射流器包括依次同軸連接的噴嘴、吸入室和擴壓管，所述噴嘴通過管路、電磁閥與高壓水栗的出口座連接，所述吸入室的側壁圍繞其軸線開設有若干吸入孔，所述擴壓管穿過所述進水口后伸入所述罐體，所述電磁閥、所述高壓水栗與控制器電控連接。
[0005]進一步地，所述噴嘴的端部伸入所述吸入室，若干吸入孔圍繞噴嘴伸入吸入室的部位，噴嘴伸入吸入室的部位的外側壁上設有與吸入孔一一對應的導流槽，所述導流槽一端正對所述吸入孔、另一端延伸至噴射口。
[0006]進一步地，所述吸氣孔為朝向吸入室漸縮的錐形結構。
[0007]進一步地，所述擴壓管伸入所述罐體內的部位上設有傾斜設置的氣水分離板和所述罐體內壁固結的支撐板。
[0008]采用本發明后，射流器置于罐體外，其吸入室的側壁圍繞噴嘴伸入吸入室的部位開設有若干吸氣孔，空氣由吸入室周向的吸氣孔進入，并沿噴嘴端部撞擊水流周向，使空氣與水流接觸更充分，從而使得空氣和水溶解更充分，以提供更加高效、穩定的溶氣水。射流器的擴口管位于罐體外側的部位安裝有電磁閥，能夠有效防止高壓水栗停轉后，溶氣水從射流式溶氣罐回流、溢出。
【附圖說明】
[0009]圖1為本發明的結構示意圖。
[0010]圖2為本發明的射流器的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0011]如圖1至圖2所示，其包括中空結構的罐體1和高壓水栗9，罐體1上設有進水口5、出水口 6、進氣口 4、壓力表3和安全閥2，進水口 5位于罐體1軸向端部；射流溶氣裝置還包括置于罐體1外側的射流器8，射流器8包括依次同軸連接的噴嘴81、吸入室82和擴壓管83，噴嘴81通過管路、電磁閥7與高壓水栗9的出口座連接，吸入室82的側壁圍繞其軸線開設有若干吸入孔85，吸氣孔84為朝向吸入室82漸縮的錐形結構；具體的，噴嘴81的端部伸入吸入室82，若干吸入孔84圍繞噴嘴伸入吸入室的部位，噴嘴81伸入吸入室的部位的外側壁上設有與吸入孔84--對應的導流槽85，導流槽85 —端正對吸入孔、另一端延伸至噴射口 ；擴壓管83穿過進水口 5后伸入罐體1，擴壓管83伸入罐體1內的部位上設有傾斜設置的氣水分離板11和罐體內壁固結的支撐板10，氣水分離板能夠迅速使未溶解于水中的空氣快速逃逸，確保溶氣水的穩定性；電磁閥7、高壓水栗9與控制器電控連接。
【主權項】
1.一種射流溶氣裝置，其包括中空結構的罐體和高壓水栗，罐體上設有進水口、出水口、進氣口、壓力表和安全閥，所述進水口位于所述罐體軸向端部，其特征在于:所述射流溶氣裝置還包括置于罐體外側的射流器，所述射流器包括依次同軸連接的噴嘴、吸入室和擴壓管，所述噴嘴通過管路、電磁閥與高壓水栗的出口座連接，所述吸入室的側壁圍繞其軸線開設有若干吸入孔，所述擴壓管穿過所述進水口后伸入所述罐體，所述電磁閥、所述高壓水栗與控制器電控連接。2.根據權利要求1所述的一種射流溶氣裝置，其特征在于:所述噴嘴的端部伸入所述吸入室，若干吸入孔圍繞噴嘴伸入吸入室的部位，噴嘴伸入吸入室的部位的外側壁上設有與吸入孔一一對應的導流槽，所述導流槽一端正對所述吸入孔、另一端延伸至噴射口。3.根據權利要求2所述的一種射流溶氣裝置，其特征在于:所述吸氣孔為朝向吸入室漸縮的錐形結構。4.根據權利要求3所述的一種射流溶氣裝置，其特征在于:所述擴壓管伸入所述罐體內的部位上設有傾斜設置的氣水分離板和所述罐體內壁固結的支撐板。
【專利摘要】本發明提供了一種射流溶氣裝置，其能使得空氣和水溶解更充分，以提供更加高效、穩定的溶氣水。其包括中空結構的罐體和高壓水泵，罐體上設有進水口、出水口、進氣口、壓力表和安全閥，進水口位于罐體軸向端部，其特征在于：射流溶氣裝置還包括置于罐體外側的射流器，射流器包括依次同軸連接的噴嘴、吸入室和擴壓管，噴嘴通過管路、電磁閥與高壓水泵的出口座連接，吸入室的側壁圍繞其軸線開設有若干吸入孔，擴壓管穿過進水口后伸入罐體，電磁閥、高壓水泵與控制器電控連接。
【IPC分類】C02F1/24
【公開號】CN105329969
【申請號】CN201510840055
【發明人】孫濤, 孫連軍, 黃俊波
【申請人】無錫工源機械有限公司
【公開日】2016年2月17日
【申請日】2015年11月27日