專利名稱：立式流體磁處理器的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種工業領域的流體處理，特別涉及一種立式流體磁處理器。
背景技術：
目前在除垢、防垢、滅菌滅藻、防腐防銹等方面的磁處理裝置，一般磁處理裝置的安裝，采用和流體(水、液化氣、石油、成品油、氨液等)方向是平行方向，且多數為水平方向。 這種安裝方式必須要求安裝現場有比較大的空間，并且現場單根管道長度比較長，至少要長于磁處理裝置的長度，而且現場管道形狀須筆直等特殊工況條件，對于彎曲、異形等形狀管道很不容易安裝。如果安裝現場空間狹小、現場單根管道長度比較短、現場管道形狀為異形等，現有的磁處理裝置無法安裝使用。另外，在使用平行流體磁處理器時，由于隨著被處理對象管道直徑的增大，管道中間易出現磁處理不到的地方，即容易出現“中空”現象，這嚴重影響磁處理效果。
發明內容
本發明正是針對現有技術存在的不足，提供一種立式流體磁處理器。本發明所述的立式流體磁處理器在流體磁化處理時的流動方向上的高度大于流體進入和流出所述立式流體磁處理器方向的長度；導管的管徑總和不小于進口法蘭的管徑，且不小于出口法蘭的管徑。所述的立式流體磁處理器包括進口法蘭、出口法蘭、隔板、上罐體、下罐體、導管、 流體磁處理器、安裝法蘭；所述的立式流體磁處理器，在其一側設置有進口法蘭，另一側設置有出口法蘭；所述的立式流體磁處理器，在其四周設置有安裝法蘭，在其內部傾斜設置有隔板，安裝法蘭將其分成上罐體和下罐體，上罐體與下罐體通過安裝法蘭連接緊固在一起。所述安裝法蘭水平設置，或者安裝法蘭與隔板在同一平行線上。所述立式流體磁處理器的下罐體的下部設置有支架。所述導管采用不導磁材質制成，優先采用不銹鋼管、Pra管和pvc管。所述進口法蘭和出口法蘭中心線夾角為0°、45°、60°或90°。本發明所述的立式流體磁處理器，把現有平行磁處理的流體分成若干導管進行單獨的磁處理，有效地延長磁處理行程，避免磁處理過程中出現的“中空”現象，使得流體能夠完全、充分、有效地磁處理。本發明所述的立式流體磁處理器很好解決現有平行安裝的流體磁處理器的不足，其占用空間小，對現場流體管道長度要求不高，能適用各種異型的流體管道形狀，適應各種工況要求。
圖1為本發明實施例一所述的立式流體磁處理器主剖視圖； 圖2為本發明實施例一所述的立式流體磁處理器左視圖3為本發明實施例一所述的立式流體磁處理器仰視圖；圖4為本發明實施例二所述的立式流體磁處理器主剖視圖； 圖5為本發明實施例二所述的立式流體磁處理器右視圖； 其中
1 一進口法蘭、2—出口法蘭、3—隔板、4 一上罐體、5—下罐體、6—導管、7—支架、8—流體磁處理器、9一安裝法蘭。
具體實施例方式下面將結合具體的實施例來說明本發明的內容。實施例一采用直列式導管的立式流體磁處理器(進口管徑不小于200mm) 如圖1所示，為本發明實施例一所述的立式流體磁處理器主剖視圖，圖2為其左視圖，
圖3為其仰視圖。本發明所述的立式流體磁處理器包括進口法蘭1、出口法蘭2、隔板3、 上罐體4、下罐體5、導管6、支架7、流體磁處理器8、安裝法蘭9。所述的立式流體磁處理器為一個罐體，其一側設置有進口法蘭1，另一側設置有出口法蘭2，流體沿X方向從進口法蘭 1進入立式流體磁處理器，經過磁處理后再沿X方向從出口法蘭2流出。所述的立式流體磁處理器，在其四周還水平設置有安裝法蘭9，內部傾斜設置有隔板3，安裝法蘭9將立式流體磁處理器分成兩部分，上部為上罐體4，下部為下罐體5。上罐體4與下罐體5通過安裝法蘭9連接緊固在一起，隔板3焊接在下罐體5上。在隔板3上設置有導管6，導管6上設置有流體磁處理器8。導管6為中空結構，流體在導管6中流動時，由流體磁處理器8對流體進行磁處理。下罐體5的下部還設置有支架7，用于支撐整個立式流體磁處理器。本實施例所述的立式流體磁處理器，其進口法蘭1直徑為200毫米以上，其導管6 采用直列式結構，適合對流量大的流體進行磁處理。因此，為了更加省力實現搬運與裝卸， 安裝法蘭9為水平設置，如圖1和圖2所示。通常情況下，進口法蘭1和出口法蘭2中心線在同一水平線上，即兩者中心線夾角為0°，還可以根據現場管道的形狀，夾角隨之構成45°、60°和90°，這樣更加便于現場安裝。隔板3把立式流體磁處理器內的流體分成未處理流體和已處理流體，未處理流體由進口法蘭1進入，通過一定壓力穿過導管6，在流體磁處理器8的處理下，形成已處理流體。本發明所述的立式流體磁處理器，其導管6采用不導磁材質制成，通常采用不銹鋼管、PPR管(Pentatricop印tide R印eats，三型聚丙烯管或無規共聚聚丙烯管)和PVC管 (Polyvinylchloride，聚氯乙烯管)等。導管6上設置有流體磁處理器8，本實施例是將流體磁處理器8安裝在導管6的四周，還可以采用一定數量的強磁棒平行固定于導管6的四周；或者采用瓦狀的磁性材料環繞固定于導管6的四周；或者是采用圓珠式的磁性材料密布固定于導管6的四周等方式進行磁處理。支架7根據立式流體磁處理器的重量設置有若干個。一般情況下，現場管道為水平設置，支架7設置在罐體的底部；當現場管道為垂直設置時，支架7可以安裝在罐體的一側。
實施例二采用螺旋式導管的立式流體磁處理器(進口管徑小于200mm)
如圖4所示為實施例二所述的立式流體磁處理器主剖視圖，圖5為其右視圖。導管6 可以設置成直列式、螺旋式或蛇形，以便延長流體的磁處理行程。本實施例為采用螺旋式導管的立式流體磁處理器。導管6的數量可以為單個導管或多個導管，但導管6的管徑總和不小于進口法蘭1的管徑，且不小于出口法蘭2的管徑，以保證流體的整體流速不受太大影響。本實施例所述的立式流體磁處理器，其進口法蘭1直徑小于200毫米，且導管6采用螺旋式結構，適合對流量小的流體進行磁處理。因此，安裝法蘭9與隔板3在同一水平線上，或者將兩者設計成為一個整體。這樣由安裝法蘭9將立式流體磁處理器分成上罐體4 和下罐體5，如圖4所示。工作時，流體沿X方向從進口法蘭1進入立式流體磁處理器，在充滿下罐體5后， 在壓力作用下，流體沿Y方向進入導管6，并由流體磁處理器8進行磁化處理。處理后的流體溢出導管6，進入上罐體4，最后經由出口法蘭2沿X方向流出立式流體磁處理器，最終實現流體的磁處理。本發明所述的立式流體磁處理器，其在導管6方向上的高度大于流體進入和流出所述立式流體磁處理器方向的長度，并且導管6的管徑總和不小于進口法蘭1的管徑，也不小于出口法蘭2的管徑。本發明所述的立式流體磁處理器，把現有平行磁處理的流體分成若干導管進行單獨的磁處理，有效地延長磁處理行程，避免磁處理過程中出現的“中空”現象，使得流體能夠完全、充分、有效地磁處理。本發明所述的立式流體磁處理器很好解決現有平行安裝的流體磁處理器的不足， 其占用空間小，對現場流體管道長度要求不高，能適用各種異型的流體管道形狀，適應各種工況要求。
權利要求
1 一種立式流體磁處理器，其特征在于，所述的立式流體磁處理器在流體磁處理時的流動方向上的高度大于流體進入和流出所述立式流體磁處理器方向的長度；導管(6)的管徑總和不小于進口法蘭(1)的管徑，且不小于出口法蘭(2)的管徑。
2.如權利要求1所述的一種立式流體磁處理器，其特征在于，所述的立式流體磁處理器包括進口法蘭(1)、出口法蘭(2)、隔板(3)、上罐體(4)、下罐體(5)、導管(6)、流體磁處理器(8)、安裝法蘭(9)；所述的立式流體磁處理器，在其一側設置有進口法蘭(1)，另一側設置有出口法蘭(2 )；所述的立式流體磁處理器，在其四周設置有安裝法蘭(9 )，在其內部傾斜設置有隔板(3)，安裝法蘭(9)將其分成上罐體(4)和下罐體(5)，上罐體(4)與下罐體 (5)通過安裝法蘭(9)連接緊固在一起。
3.如權利要求2所述的一種立式流體磁處理器，其特征在于，所述安裝法蘭(9)水平設置，或者安裝法蘭(9 )與隔板(3 )在同一平行線上。
4.如權利要求2所述的一種立式流體磁處理器，其特征在于，所述立式流體磁處理器的下罐體(5)的下部設置有支架(7)。
5.如權利要求2所述的一種立式流體磁處理器，其特征在于，所述導管(6)采用不導磁材質制成，優先采用不銹鋼管、PPR管和PVC管。
6.如權利要求2所述的一種立式流體磁處理器，其特征在于，所述進口法蘭(1)和出口法蘭(2)中心線夾角為0°、45°、60°或90°。
全文摘要
本發明涉及一種立式流體磁處理器。所述的立式流體磁處理器在流體磁化處理時的流動方向上的高度大于流體進入和流出所述立式流體磁處理器方向的長度；導管的管徑總和不小于進口法蘭的管徑，且不小于出口法蘭的管徑。所述的立式流體磁處理器包括進口法蘭、出口法蘭、隔板、上罐體、下罐體、導管、流體磁處理器、安裝法蘭。本發明所述的立式流體磁處理器，把現有平行磁處理的流體分成若干導管進行單獨的磁處理，很好解決現有平行安裝的流體磁處理器的“中空問題”，其占用空間小，對現場流體管道長度要求不高，能適用各種異型的流體管道形狀，適應各種工況要求。
文檔編號C02F1/48GK102351283SQ20111030648
公開日2012年2月15日 申請日期2011年10月11日 優先權日2011年10月11日
發明者孫靖坤 申請人:孫靖坤