專利名稱：流體處理系統和用于其中的輻射源標準組件的制作方法
技術領域：
在本發明的一個方面，本發明涉及輻射源標準組件，特別是一種紫外輻射源標準組件。在本發明的另一個方面，還涉及到流體處理系統，尤其是一種紫外輻射水處理系統。
背景技術：
流體處理系統在其技術領域中已經廣為人知。更具體地說，紫外(UV)輻射流體處理系統在其技術領域中已經廣為人知。早期的處理系統包括一種完全封閉的腔室設計，其中包括一個或多個輻射(優選UV)燈。但是，在這些早期的設計中存在著一些問題。在將這些設計應用于大型的開放流體處理系統中時，所存在的問題尤其明顯。大型開放流體處理系統的代表是大型市政廢水或飲用水處理工廠。因此，與這些處理系統相關的反應器具有以下問題·反應器具有相對高的資本成本；·很難接近淹沒的反應器和/或浸泡的設備(燈、套管清潔器等)；·與去除流體處理設備的污物相關的困難；和/或·為了對浸泡的元件(套管、燈等)進行維護，需要將整個設備替換。
這些存在于傳統封閉反應器中的缺點導致了所謂的“明渠”反應器的發展。
例如，美國專利4,482,809，4,872,980和5,006,244(都在Maarschalkerweerd的名下并且都轉讓給本發明的受讓人，之后稱之為Maarschalkerweerd #1專利)都描述了利用紫外(UV)輻射的重力自流入流體處理系統。
這樣的系統包括UV燈標準組件(例如框架)的陣列，每個UV燈標準組件包括幾個UV燈，每個UV燈都安裝在套管內，套管在一對支撐腿之間延伸并且由支撐腿支撐，而支撐腿則安裝在橫梁上。將這樣支撐的套管(包含UV燈)浸入要被處理的流體中，然后使流體按照需要被輻射。流體所受到的輻射量根據以下因素確定流體與燈的接近程度、燈的輸出功率和流體經過燈的流動速率。具有代表性地，利用一個或多個UV傳感器監測燈的UV輸出，并且利用位于處理裝置下游一些的水位閘門等控制流體水位。
Maarschalkerweerd #1所描述的流體處理系統的特征在于它提高了將設備從淹沒或浸入的狀態取出的能力而無須完全的設備替換。這些設計將燈陣列劃分為行和/或列，并且其特征在于在自由流動頂部敞開的渠道中，反應器的頂部開放。
Maarschalkerweerd #1所描述的流體處理系統的特征在于具有自由流體流動表面(有代表性地是不有意限制或控制頂部流體表面)。因此，系統具有特色的地方在于它將遵循明渠水力學的特性。由于系統的設計包括固有的自由流動流體表面，在一列或其它水力相鄰的列受到水位變化的不利影響之前，對每個燈或每個燈陣列所能處理的最大流動有一定的限制。如果流體水位過高或者流動中有很大的變化，不受限制的或者自由流動流體表面能夠改變流體流動的處理容積和橫截面形狀，因此導致反應器的效率相對低下。假若對陣列中的每盞燈提供的功率較低，每盞燈的流體流動相對較低。在這些較低功率的燈和隨后的較低水力負載處理系統中，完全明渠流體處理系統的概念就足夠了。這里的問題是由于燈的功率較低，處理同樣的流動就需要相對大量的燈。因此，系統的固有成本會過大和/或即使與自動燈套管清潔和大流體容積處理系統的其它特點結合起來，仍然沒有競爭性。
這導致了所謂的“半封閉”流體處理系統。
美國專利5,418,370，5,539,210和Re36,896(都在Maarschalkerweerd的名下并且都轉讓給本發明的受讓人，之后稱之為Maarschalkerweerd #2專利)都描述了在利用紫外(UV)輻射的重力自流入流體處理系統中的改進的輻射源標準組件。概括地說，改進的輻射源標準組件包括密封地懸臂于支撐件上的輻射源組件(具有代表性地，包括一個輻射源和一個保護(例如，石英)套管)。支撐件可以進一步包括適當的裝置以在自流入流體處理系統中固定輻射源標準組件。
因此，為了處理具有大量燈和與每盞燈相關的清潔方面的增加的高花費，將具有高輸出的燈應用于UV流體處理。其結果是可以大幅度減少燈的數目和每盞燈的長度。這導致自動燈套管清潔設備的經濟性并且減少了處理系統所需的空間以及其它好處。為了使用功率更高的燈(如中壓UV燈)，如果對反應器的所有表面都不加以限制，在系統的應用過程中每盞燈的水力負載會增加到反應器中的流體處理容積/橫截面面積有很大改變的程度，這會使得系統具有相對低的效率。因此Maarschalkerweerd #2專利的特征在于在反應器的處理面積中具有限制所處理流體的閉合表面。封閉處理系統具有開放的、放置于明渠中的端部。利用回轉樞軸、滑動器和各種裝置可以將浸沒或浸入的設備(UV燈，清潔器等)從半封閉的反應器中將設備移出到自由表面。
Maarschalkerweerd #2專利中描述的流體處理系統的特征在于燈的長度相對短，這些燈懸臂于基本上垂直的支撐臂上(即只在一端支撐燈)。這允許燈從半封閉反應器中旋轉出來或者用其它的方法取出。當考慮到將電能轉換為UV能的效率時，這些非常短并且功率更高的燈在本質上具有低效的特征。與物理接觸并且支撐這些燈的所需設備相關的成本很高。
Maarschalkerweerd #1和#2專利代表了在流體處理技術上的重要進展，特別是關于水的紫外輻射處理。盡管有了這些進展，仍然有進一步發展的空間。隨著時間的流逝，UV光源或者燈的基本技術已經有了進一步的發展。具體地說，燈的制造商正在發展功率更強的燈，在將電能轉換為UV能的方面它們也比中壓燈更有效。這些效率更高的光源其典型實際長度比中壓燈長，為了利用這些燈，必須處理兩個問題。首先，由于燈更長了，有必要在不大幅度增加流體處理系統成本的前提下能夠很容易地將燈從反應器中取出。其次，燈的功率更大并且其尺寸更長引起了新的危險，即流體的整體速度可能超過明渠或自由表面水力反應器設計所能夠接受的數值。
因此，需要具有能夠應用新近發展的所謂“低壓、高輸出”(LPHO)和/或汞齊燈的輻射源標準組件和流體處理系統，同時能夠很容易地將燈從流體處理系統中取出以進行維護等，并且具有在Maarschalkerweerd #2專利中所描述的流體處理系統的優點。
發明內容
本發明的一個目的是提供一種新穎的輻射源標準組件，它能夠避免或減輕上面描述的現有技術中的至少一個缺點。
本發明的一個目的是提供一種新穎的流體處理系統，它能夠避免或減輕上面描述的現有技術中的至少一個缺點。
因此，在本發明的一個方面，本發明提供一種輻射源標準組件，它包括一個支撐件，一個與支撐件連接的輻射源組件和一個放置在標準組件第一表面上的密封件，密封件可以在第一表面和與第一表面相鄰的第二表面之間提供流體基本上不能透過的密封。
在本發明的另一個方面，本發明提供一種輻射源標準組件，它包括多個輻射源，每個輻射源(i)具有和相鄰輻射源的同心縱向軸線大致平行排列的同心縱向軸線，和(ii)放置在與每個相鄰輻射源離開預定距離的位置上并且在相鄰輻射源的同心縱向軸線之間限定了預定的中心到中心的距離，輻射源標準組件進一步包括一個限制件，它具有一個放置在離開相鄰輻射源一定距離的表面，這個距離是中心到中心距離的一個預定部分。
在本發明的另一個方面，本發明提供一種流體處理系統，它包括一個承接流體流動的明渠，放置在明渠中的至少一個輻射源標準組件，至少一個輻射源標準組件的一個表面把要被處理的流體限制在封閉流體處理區域內，輻射源標準組件包括至少一個放置在流體處理區域中的輻射源組件。
在本發明的另一個方面，本發明提供一種流體處理系統，它包括一個承接流體流動的明渠，一個可以在限定了封閉區域的第一位置和限定了開放區域的第二位置之間移動的限制件，至少一個放置在明渠中的輻射源標準組件，該輻射源標準組件具有至少一個輻射源元件，至少一部分輻射源元件放置在封閉區域內。
因此，本發明已經發現了一種流體處理系統，它具有Maarschalkerweerd #2專利所描述的系統的優點，同時可以相對容易地在Maarsehalkerweerd #1專利所陳述的明渠中實施。另外，本流體處理系統易于安裝多系列(如連續放置)輻射源標準組件(例如裝入了LPHO型或其它類型的輻射燈)。另外，本流體處理系統允許輻射源具有更近的間距-在處理低級流體時這是需要的。另外，本流體處理系統易于裝入混合器或混合元件以方便流體處理。在本發明的流體處理系統中，有效地提供了一個限制件，它可以在第一位置和第二位置之間移動，在第一位置流過流體處理系統的流體流動被限制在一個相對封閉的橫截面內，反之，基本上在限制件上游和下游的流體流動被稱為開放流動(即在所有側都不受限制)。
在整個說明書中，涉及了一些術語，如“封閉區域”、“封閉橫截面”和“受限制的“。這些術語在本質上是可以交換使用的并且用來包含一種結構，這個結構以類似于Maarschalkerweerd #2專利所描述的形式包圍流體流動。在本流體處理系統的情況中，在一個實施例中，通過相鄰放置的輻射源標準組件的組合提供限制件，每個輻射源標準組件具有它自己的所謂限制件，從而通過組合在一起，在明渠中提供了一個整體的限制件。
另外，在本說明書中，術語“標準組件”的應用與輻射源標準組件和隔板標準組件相聯系，它包括一個能夠在整個系統(如流體處理系統)中使用的重復組件。另外，本說明書中使用的術語“流體”具有較廣的意義，它包括液體和氣體。利用本系統的優選進行處理的流體是液體，最好是水(如廢水、工業污水、再使用水和飲用水等)。
那些本領域技術人員能夠理解在本說明書中提到的密封件等在相鄰輻射源標準組件和隔板標準組件(如果有的話)之間提供了實用的流體密封。那些本領域技術人員很清楚為了實現本流體處理系統的好處絕對的不透過任何流體的密封是不必要的，可以發生少量的泄露(如一旦有這種泄露，將這些泄露流體再循環到流體流動中是很簡單的事)。盡管有這種少量的泄露，限制件起到它的作用，即在一個區域內基本上圍繞、限制、包圍、包住流體流動，在這個區域內至少放置了輻射源的一部分。
將參照
本發明的實施例，其中類似的參考標號表示相似的元件，其中圖1說明了本輻射源標準組件和流體處理系統第一個實施例的部分橫截面的透視圖；圖2說明了沿圖1中線II-II的剖視圖；圖3和圖4說明了圖1所示輻射源標準組件在運行和被取出位置時橫截面的側視圖；
圖5說明了本輻射源標準組件和流體處理系統第二個實施例的透視圖；圖6和圖7說明了圖5所示輻射源標準組件在運行和被取出位置時橫截面的側視圖；圖8說明了本輻射源標準組件和流體處理系統第三個實施例的透視圖；圖9說明了示于圖8的流體處理系統的一端(為了清晰的目的示出了少一些的標準組件)；圖10示出了示于圖8的流體處理系統的一部分的透視圖，其中一個輻射源標準組件處于被取出位置；圖11示出了示于圖8的流體處理系統的一部分的側視圖，其中一個輻射源標準組件處于被取出位置；圖12示出了示于圖10的流體處理系統的一部分的放大視圖，其中輻射源標準組件被轉動取出以便維護等；圖13示出了實現本發明的一個優選模式的示意性視圖。
優選實施例的描述參考圖1到圖4描述流體處理系統100，它包括明渠105。明渠105包括一對側壁110和底部115。
在明渠105中放置著一系列輻射源標準組件120。每個輻射源標準組件120包括一對支撐腿125。在每個給定的標準組件中一系列可使輻射透過的保護套管130放置在一對支撐腿125之間。如LPHO紫外輻射燈這樣的輻射源燈(未示出)放置在每個保護套管130的內部。以流體密封的形式將套管130與支撐腿125連接起來的辦法是傳統的，如可參考專利Maarschalkerweerd #1、#2和其它授予TrojanTechnologies Inc.的專利。
對于給定的輻射源標準組件120，每對支撐腿125用橫梁135連接。在每個橫梁135的一端放置著具有孔眼的件140。連接在明渠105兩個側壁110上的一根樞軸桿145穿過每個輻射源標準組件120的孔眼件140。
特別參考圖1和圖2，每個輻射源標準組件120包括一個可膨脹的密封件150。每個可膨脹的密封件150連接到公共管道155上。公共管道155連接到諸如空氣或水的流體源(未示出)上。
進一步參考圖2，可以看出可膨脹密封件150在第一位置和第二位置之間可以可逆地膨脹，其中密封件在第一位置以流體密封連接的形式在明渠105的相鄰輻射源標準組件120和/或壁110之間膨脹，在第二位置可膨脹的密封件150處于相對未膨脹狀態，因而在明渠105的相鄰輻射源標準組件120和/或壁110之間形成間隙。那些本領域技術人員能夠理解靠近任一個壁110的一個輻射源標準組件120在橫梁135的每側都包括一個可膨脹的密封件150。其它的輻射源標準組件120將只包括一個可膨脹的密封件150。
特別參考圖1和圖3，其中示出了運行中的流體處理系統100。每個輻射源標準組件120都浸沒在明渠105中并且所有的可膨脹密封件150運行于第一(膨脹的)位置，從而在明渠105的相鄰輻射源標準組件120和壁110之間形成基本上不漏水的密封。通過這種布置，限定了與Maarschalkerweerd #2專利的流體處理區域設計相類似的基本上封閉的橫截面流體處理區域165。這里的差別在于封閉流體處理區域的一個表面由一個可移開的輻射源標準組件所限定，并且輻射源標準組件包括相對較長的輻射源。
圖4示出了位于取出位置的輻射源標準組件120，在這個狀態對它的部件進行維護。首先將要被取出的輻射源標準組件120的可膨脹密封件150(為了清晰在圖4中未示出，可參考圖2)放氣使它處于第二(未膨脹)位置。為了將標準組件120取出，大致按箭頭A示出的方向擺動輻射源標準組件120使它繞樞軸桿145轉動。在這個位置，可以對單獨一個輻射源標準組件進行維護同時將其它標準組件置于原處并且保持系統運行。另外，也可以將所有的輻射源標準組件擺動到取出位置以同時維護它們。
參考圖5-7，描述了輻射源標準組件和流體處理系統的第二個實施例。示出的流體處理系統200包括明渠205。明渠205包括兩個側壁210和底部215。
在明渠205之中放置著一系列輻射源標準組件220。每個輻射源標準組件包括一對支撐腿225(在圖5-7中，只示出了每個輻射源標準組件220的一個支撐腿225)。對于給定的輻射源標準組件220，在每對支撐腿225之間放置著一系列可使輻射透過的保護套管230。在每個保護套管230內放置著至少一個諸如LPHO紫外輻射燈的輻射源(未示出)。
每對支撐腿225通過一個橫梁235連接。
對于每個輻射源標準組件220，在它的一端設有一對孔眼件240。一根放置在側壁210之間的樞軸桿245穿過每個輻射源標準組件220的每個孔眼件240。
盡管沒有特別示出，每個輻射源標準組件220包括一個象上面描述的可膨脹密封件，可參考上面描述的和圖1-4示出的實施例。
輻射源標準組件220進一步包括一個延伸件270。延伸件270優選與每個支撐腿225具有基本相同的長度。
特別參考圖6和圖7，將描述流體處理系統200的操作。
圖6繪出了處于工作位置的輻射源標準組件220。因此，輻射源標準組件220的每個可膨脹密封件(未示出)處于第一(膨脹的)位置，因此在輻射源標準組件220和明渠205的壁210之間建立了一個基本上不漏水的密封。在箭頭B方向上行進的流體(典型物是水)被迫使從延伸件270和橫梁235下面穿過，使得限定出流體處理區域265并且具有封閉的橫截面。
參考圖7，當需要維護時，在箭頭C的方向擺動輻射源標準組件220使它繞樞軸桿245轉動。這使得延伸件270向下擺動。本領域技術人員能夠理解，放置在這個位置的輻射源標準組件220將有效地偏轉流體使之通過明渠205中相鄰的輻射源標準組件，其結果是流體在系統200的通過量將減小因此減弱或避免了一些未處理流體的通過。那些本領域技術人員能夠認識到當輻射源標準組件220處于圖7所示的位置時，延伸件270下游的流體水位的改變將根據以下因素明渠205中標準組件的總數目、被向上擺動的標準組件的數目、相鄰源之間的間距等。
參考圖8-12，描述了輻射源標準組件和流體處理系統的第三個實施例。示出的流體處理系統300包括明渠305。明渠305包括兩個側壁310和底部315。
在明渠305之中放置著一系列輻射源標準組件320。每個輻射源標準組件320包括一對支撐腿325。對于給定的輻射源標準組件320，在每對支撐腿325之間放置著一系列可使輻射透過的保護套管330。在每個保護套管330內放置著至少一個諸如LPHO(或其它類型)紫外輻射燈的輻射源(為了清晰未示出)。
一個橫梁335連接著每個支撐腿325。
對于每個輻射源標準組件320，至少在其一端設有一個U形支架340，支架上具有樞軸桿345可放置在其中的一對孔。那些本領域技術人員能夠理解，通過調節相鄰的輻射源標準組件320可以對準U形支架340，從而樞軸桿345可以穿過所有的U形支架340放置。優選輻射源標準組件320配備一個位于下面的閉鎖或類似的裝置(未示出)，從而在明渠的流動條件下可以將輻射源標準組件固定在其位置上。對下鎖或類似裝置的精確特性沒有特別的限制，并且可以將它們裝入每個標準組件或者可以作為一個獨立結構可松開地與一個或多個輻射源標準組件320接合。
在相鄰輻射源標準組件320之間放置有隔板標準組件350。隔板標準組件350包括一對在相對表面上的密封件352。圖9特別清楚地示出，密封件352接觸鄰接給定隔板標準組件350的每個輻射源標準組件320的橫梁335。如圖10所示，隔板標準組件350在其一端支撐在桿351上，它的相對一端支撐在樞軸桿345上。優選隔板350的末端可松開地接合到桿351上。
那些本領域技術人員能夠理解，示于圖8-12的實施例的一個優點是只需要在每個輻射源標準組件320上提供很少的密封件(與上面參考圖1-4所描述的實施例相比)。更具體地說，在一列相鄰的輻射源標準組件320上，只有在輻射源標準組件外部的橫梁335的外表面需要設有密封件-這在圖9中用參考標號354示出。
進一步參考圖8-12，將描述流體處理系統300的操作。
圖8描述了完全處于工作位置的流體處理系統300(所有的輻射源標準組件320處于適當的位置)。位于每個隔板標準組件350相對兩側的密封件352在每個輻射源標準組件320的橫梁335之間沿著至少一部分橫梁335，優選沿著橫梁335的基本上整個長度，提供一個流體基本上不能穿過的密封。另外，在每個最外側的輻射源標準組件320的每個橫梁335的外表面上的密封件354在側壁310和每個最外側輻射源標準組件320的橫梁335之間提供一個流體基本上不能穿過的密封。這樣的結果是在輻射源標準組件320的相鄰橫梁335下面的明渠305的區域中提供了一個基本上封閉的流體處理區域(或者封閉區域)。
參考圖10-12，當需要維護時，在箭頭E的方向擺動輻射源標準組件320使得它繞樞軸桿345轉動。從圖11可以清楚地看出，部分轉動上來的輻射源標準組件320仍然有一部分橫梁335在區域F與相鄰的隔板標準組件350(為了清晰沒有示出)密封配合在一起。這在輻射源標準組件320陣列中與橫梁335聚集的最鄰近區域保持了流體基本上不能穿過的密封。這是輻射源標準組件320和隔板標準組件350的一個優點。
參考圖13，它示意性地示出了實現明渠的一部分轉換為閉合橫截面的另一種裝置。在示于圖1-12的實施例中，用于限定流體處理區域的基本上封閉的橫截面通過旋轉或轉動輻射源標準組件(有或沒有隔板標準組件)到適當位置來實現。如圖13所示，明渠400承接在箭頭F方向的流體流動。限制件410可在箭頭G的方向往復移動。為了清晰起見沒有示出輻射源標準組件，但它們應放置在明渠400的限制件410的表面415和底表面420之間。圖13示出了限制件怎樣移動(線性或滑動移動)以限定封閉區域(或封閉流體處理區域)的實施例。但是對這個實施例沒有特別地限制，限制件410的移動可以通過其它形式實現，如轉動或其它形式。
在整個說明書中，利用一些概括性的術語并且參考詳細描述的實施例給出了在相鄰輻射源標準組件和隔板標準組件(如果有的話)之間的密封件。只要這些密封件能夠實現本發明陳述的目的，對它們的精確特性沒有特別的限制。例如，在一個實施例中，密封件可以是所謂的“接觸密封”。一些適當的接觸密封的例子可以包括磁密封、電磁密封、氣壓密封、液壓密封、機械密封、流體靜壓密封等。另外，在另一個實施例中，密封可以是非接觸密封，它們不涉及兩個表面的物理接觸，而是基于跨越開口的壓差引起流阻。這種密封的例子是所謂的窄縫密封、迷宮密封、射流密封、電密封等，在本發明的流體處理系統中優選使用接觸密封。當然可以使用各種密封的組合并且將它們包括在本發明的范圍內。
盡管已經參考說明性的實施例和例子描述了本發明，所做的描述不應被理解為是限制性的。因此，參考這里的描述，對于那些本領域技術人員來講，對本發明的說明性的實施例以及其它實施例的各種改進將很明顯。例如，象上面描述的Maarschalkerweerd #1專利中以各種形式所描述的，可以為輻射源在輻射源標準組件中(例如在輻射源標準組件120的橫梁135中)設置鎮流器或其它的電源。另外，可能象授予給Trojan Technologies Inc.的各種專利及其所公開的各種專利所描述的那樣在輻射源標準組件中裝入機械或化學/機械清潔系統。另外，還可以改進所描述的實施例使得支撐腿125放在明渠105的底部115上。另外，盡管在每個詳細描述的實施例的流體處理系統中，輻射源具有基本上與明渠中流體流動方向基本上平行的縱向軸線，本領域技術人員能夠理解可以改進所描述的實施例使得輻射源的縱向軸線橫向于流體流動方向。這可以通過定向輻射源的縱向軸線使之相對于流體流動的方向基本上垂直(如在水平方向上垂直或在豎直方向上垂直)或者呈一定角度(如在水平方向上呈一定角度或在豎直方向上呈一定角度)。另外，如上所述，可以用其它可膨脹的或不可膨脹的由其它材料制成的密封系統改進示出的特殊實施例。為實現密封，對于密封材料的選擇以及它的放置沒有特別的限制。重要的特征是輻射源標準組件、密封和隔板標準組件(如果有的話)的組合一起工作來提供一個流體基本上不能透過的密封，從而限定了一個封閉流體處理系統，該系統具有一個基本上封閉的橫截面區域并且至少一個輻射源的至少一部分放置于其中。優選利用一個促動器來實現流體基本上不能透過的密封，該促動器能夠對相鄰標準組件施加側向力以建立密封。逆轉促動器可以對一個或多個輻射源標準組件進行維護和/或將它們取出。另外，可以利用位于上游、下游或同時在上游和下游設置的堰、壩和閘以改進描述的實施例以優化流體處理區域上游和下游的流體流動，而該區域由本發明的流體處理系統所限定。另外，可以改進所描述的實施例使之包括斜面和/或臺階式的明渠表面，就象同時未決的國際專利申請S.N.PCT/CA01/00297所披露的那樣，該申請于2001年3月12日提出。另外，可以改進本發明所描述的實施例使之在流體處理系統和/或輻射源標準組件的渠道壁上包括混合器或混合元件，這樣的例子在下面的一些專利中有所描述，如美國專利5,846,437，6,015,229，6,126,841和6,224,759，以及2001年6月6日提出的國際專利申請S.N.PCT/CA01/00816。另外，可以通過在水力系中設有多系列的輻射源標準組件以改進所描述的實施例。另外，盡管示出的實施例描述了將這樣一系列標準組件中的一個輻射源標準組件部分取出，本領域技術人員能夠理解有時候可能和/或需要將這樣一系列標準組件中的一個、一些或全部輻射源標準組件完全取出、拆除或更換。另外，盡管示出的實施例利用位于限制件上游和下游的壩或傾斜表面使流體通過，也可以只利用限制件上游側或下游側的壩和傾斜表面。當然，可以利用限制件上游和/或下游不同設計的壩或傾斜表面。因此可以想到所附權利要求將涵蓋任何這樣的改進或實施例。
對在這里所引入作為參考的公開、專利和專利申請的整體參考程度是對每個單獨的公開、專利和專利申請引入時明確并且單獨說明的整體參考程度。
權利要求
1.一種輻射源標準組件，它包括一個支撐件，一個與支撐件連接的輻射源組件，一個放置在標準組件第一表面上的密封件，密封件可以在第一表面和與第一表面相鄰的第二表面之間提供流體基本上不能透過的密封。
2.如權利要求1所述的輻射源標準組件，其中支撐件放置在支架中。
3.如權利要求2所述的輻射源標準組件，其中支架包括與第一支撐件相對的第二支撐件，第一支撐件和第二支撐件支撐輻射源組件的相對兩端。
4.如權利要求3所述的輻射源標準組件，其中支架包括第三支撐件，它使第一支撐件和第二支撐件互相連接。
5.如權利要求4所述的輻射源標準組件，其中密封件放置在第三支撐件的表面上。
6.如權利要求1所述的輻射源標準組件，其中一個電源放置在支架中。
7.如權利要求1所述的輻射源標準組件，進一步包括一個取出系統，用來相對于流體處理系統在應用位置和維護位置之間移動標準組件。
8.如權利要求1所述的輻射源標準組件，其中密封件包括可膨脹的密封件。
9.如權利要求1所述的輻射源標準組件，其中密封件包括可變形密封件。
10.一種流體處理系統，它包括一個承接流體流動的明渠，放置在明渠中的至少一個輻射源標準組件，至少一個輻射源標準組件的表面把要被處理的流體限制在封閉流體處理區域內，輻射源標準組件包括至少一個放置在流體處理區域中的輻射源組件。
11.如權利要求10所述的流體處理系統，其中輻射源組件安裝在第一支撐件上。
12.如權利要求11所述的流體處理系統，其中支撐件放置在支架中。
13.如權利要求12所述的流體處理系統，其中支架包括與第一支撐件相對的第二支撐件，第一支撐件和第二支撐件支撐輻射源組件的相對兩端。
14.如權利要求13所述的流體處理系統，其中支架包括第三支撐件，它使第一支撐件和第二支撐件互相連接。
15.如權利要求14所述的流體處理系統，進一步包括一個放置在第一支撐件、第二支撐件和第三支撐件中至少一個支撐件的表面上的密封件。
16.如權利要求15所述的流體處理系統，包括并排放置的多個輻射源標準組件。
17.如權利要求10所述的流體處理系統，其中一個電源放置在支架上。
18.如權利要求10所述的流體處理系統，進一步包括一個取出系統，用來相對于流體處理系統在應用位置和維護位置之間移動標準組件。
19.如權利要求10所述的流體處理系統，其中輻射源標準組件進一步包括一個阻隔板，當輻射源標準組件在取出位置時，它阻隔明渠。
20.如權利要求10所述的流體處理系統，其中密封件包括可膨脹的密封件。
21.如權利要求10所述的流體處理系統，其中密封件包括可變形密封件。
22.一種流體處理系統，它包括一個承接流體流動的明渠，一個可以在限定了封閉區域的第一位置和限定了開放區域的第二位置之間移動的限制件，至少一個放置在明渠中的輻射源標準組件，該輻射源標準組件具有至少一個輻射源元件，至少一部分輻射源元件放置在封閉區域內。
23.如權利要求22所述的流體處理系統，其中限制件可以在第一位置和第二位置之間繞樞軸移動。
24.如權利要求22所述的流體處理系統，其中限制件可以在第一位置和第二位置之間滑動地移動。
25.如權利要求22所述的流體處理系統，其中限制件和輻射源標準組件是一個整體。
26.如權利要求22所述的流體處理系統，其中輻射源元件包括一個基本上與明渠中流動方向平行設置的縱向軸線。
27.如權利要求22所述的流體處理系統，其中輻射源元件包括一個相對于明渠中流動方向橫向設置的縱向軸線。
28.如權利要求25所述的流體處理系統，包括多個基本上彼此相鄰放置的輻射源標準組件。
29.如權利要求28所述的流體處理系統，其中至少一個密封元件放置在多個輻射源標準組件中的相鄰對之間。
30.如權利要求28所述的流體處理系統，進一步包括至少一個放置在多個輻射源標準組件中相鄰對之間的隔板標準組件。
31.如權利要求30所述的流體處理系統，其中隔板標準組件包括放置在隔板標準組件上的第一密封件，第一密封件布置成在隔板標準組件和第一鄰近輻射源標準組件之間提供密封。
32.如權利要求30所述的流體處理系統，其中隔板標準組件包括放置在隔板標準組件相對兩側上的第一密封件和第二密封件，第一密封件布置成在隔板標準組件和第一鄰近輻射源標準組件之間提供密封，第二密封件布置成在隔板標準組件和第二鄰近輻射源標準組件之間提供密封。
33.一種輻射源標準組件，它包括多個輻射源，每個輻射源(i)具有和相鄰輻射源的同心縱向軸線大致平行排列的同心縱向軸線，和(ii)放置在與每個相鄰輻射源離開預定距離的位置上并且在相鄰輻射源的同心縱向軸線之間限定了預定的中心到中心的距離，輻射源標準組件進一步包括一個限制件，它具有一個放置在離開相鄰輻射源一定距離的表面，這個距離是中心到中心距離的一個預定部分。
34.如權利要求33所述的輻射源標準組件，進一步包括一個支架，它具有支撐多個輻射源的第一端區域的第一支撐件。
35.如權利要求34所述的輻射源標準組件，其中支架包括至少支撐多個輻射源的第二端區域的第二支撐件。
36.如權利要求33所述的輻射源標準組件，其中第一支撐件包括一個第一延長件，它具有基本上與同心縱向軸線正交設置的第一縱向軸線。
37.如權利要求35所述的輻射源標準組件，其中第二支撐件包括一個第二延長件，它具有基本上與同心縱向軸線正交設置的第二縱向軸線。
38.如權利要求35所述的輻射源標準組件，進一步包括一個第三支撐件，它使得第一支撐件與第二支撐件相互連接。
39.如權利要求38所述的輻射源標準組件，其中限制件放置在第三支撐件中。
40.如權利要求33所述的輻射源標準組件，進一步包括一個放置在標準組件第一表面上的密封件，密封件能夠在第一表面和與第一表面鄰近的第二表面之間提供流體基本上不能透過的密封。
41.如權利要求40所述的輻射源標準組件，其中密封件放置在限制件上。
42.如權利要求38所述的輻射源標準組件，進一步包括一個放置在標準組件第一表面上的密封件，密封件能夠在第一表面和與第一表面鄰近的第二表面之間提供流體基本上不能透過的密封。
43.如權利要求40所述的輻射源標準組件，其中密封件放置在第一支撐件、第二支撐件、第三支撐件和限制件中的一個或多個上。
44.如權利要求34所述的輻射源標準組件，其中電源放置在支架中。
45.如權利要求33所述的輻射源標準組件，進一步包括一個取出系統，用來在相對于流體處理系統的應用位置和維護位置之間移動標準組件。
46.如權利要求43所述的輻射源標準組件，其中密封件包括可膨脹密封件。
47.如權利要求43所述的輻射源標準組件，其中密封件包括可變形密封件。
全文摘要
一種輻射源標準組件，它包括一個支撐件，一個與支撐件連接的輻射源組件，一個放置在標準組件第一表面上的密封件，密封件可以在第一表面和與第一表面相鄰的第二表面之間提供流體基本上不能透過的密封。
文檔編號C02F1/32GK1481337SQ01820582
公開日2004年3月10日 申請日期2001年12月14日 優先權日2000年12月15日
發明者喬治·A·特勞本貝格, 賈森·J·塞爾尼, 邁克·馬爾庫, 邁克爾·P·薩爾凱塞, 戴維·E·斯普勞勒, P 薩爾凱塞, E 斯普勞勒, J 塞爾尼, 喬治 A 特勞本貝格, 馬爾庫 申請人:特洛伊人技術公司