專利名稱：自吸式均布無堵塞溶氣釋放器的制作方法
技術領域：
本實用新型是應用于水處理壓力溶氣氣浮工藝中的一種溶氣水釋放設備，特別涉及對溶氣釋放器結構的改進。
進水盤上的進水孔及工作時的壓力是控制整個釋放器出水流量及溶氣效率的關鍵因素。進水盤與自吸反射盤在自由狀態下，兩盤之間間隔可根據不同規格為0.5～50mm，進水盤上的進水孔可按不同流量為φ1～φ70mm。
本實用新型的最大特點是自吸反射盤在進水盤與連接架之間，在無工作壓力的自由狀態下，可以在導向柱上來回移動。這樣，使兩盤間隔盡量大一些，以利更大的堵塞物排出。當釋放器開始運行工作時，進水口的壓力溶氣水初始壓力為零，此時兩盤間隙為最大狀態，在壓力逐步升高的溶氣水沖擊下將釋放器安裝管道內的雜物全部沖走。隨著系統內工作壓力的正常，兩盤間的壓力水流速加快，在高速水流的作用下，使兩盤間逐步產生真空狀態。由于真空作用的產生，將可移動的自吸反射盤自動吸向進水盤，此時壓力溶氣水非常均勻的在兩盤之間360°全方位減壓釋放，兩盤之間的間隙隨著壓力的上升而變小，反之，則間隙變大。所以，該釋放器的發明產生，徹底告別了以往釋放器的堵塞問題及安裝時增設反沖管路設施，降低了成本及提高了工作效率，并且擁有優越的布水效果。
附
圖1是本實用新型結構示意圖.
附圖2是圖的俯視圖。
權利要求1.一種自吸式均布無堵塞溶氣釋放器，帶有進水盤(1)、自吸反射盤(2)，進水盤中部帶有進水口；在進水盤底面和自吸反射盤上面的中部，沿圓周方向帶有三角形的槽，進水盤與自吸反射盤上的齒對齒、槽對槽布置；其特征在于連接架(4)帶有至少三根導向柱(3)，連接架位于進水盤和自吸反射盤的中心部位，導向柱穿過自吸反射盤，與進水盤固定連接；自由狀態下自吸反射盤在連接架的導向柱上可來回移動。
2.按照權利要求1所述的自吸式均布無堵塞溶氣釋放器，其特征在于進水盤與自吸反射盤在自由狀態下，兩盤間隙為0.5～50mm。
3.按照權利要求1所述的自吸式均布無堵塞溶氣釋放器，其特征在于進水盤上的進水口孔徑為φ1～φ70mm。
專利摘要本實用新型是應用于水處理壓力溶氣氣浮工藝中的一種自吸式均布無堵塞溶氣釋放器,帶有進水盤、自吸反射盤,進水盤中部帶有進水口;在進水盤底面和自吸反射盤上面的中部,沿圓周方向帶有三角形的槽,進水盤與自吸反射盤上的齒對齒、槽對槽布置;連接架帶有至少三根導向柱,連接架位于進水盤和自吸反射盤的中心部位,導向柱穿過自吸反射盤,與進水盤固定連接;自由狀態下自吸反射盤在連接架的導向柱上可來回移動。進水盤與自吸反射盤在自由狀態下,兩盤間隙為0.5～50mm。進水盤上的進水口孔徑為φ1～φ70mm。本實用新型的最大特點是:自吸反射盤在進水盤與連接架之間,在無工作壓力的自由狀態下,可以在導向柱上來回移動。這樣,使兩盤間隔盡量大一些,以利更大的堵塞物排出。
文檔編號C02F1/20GK2504254SQ01253798
公開日2002年8月7日 申請日期2001年9月20日 優先權日2001年9月20日
發明者王勇 申請人:王勇