控制溫度的方法

專利名稱：：控制溫度的方法
技術領域：
：本發明涉及一種用于控制供應給一種工藝的冷卻劑的溫度的方法。更具體地，本發明提供一種將冷卻劑冷卻到預定溫度、將冷卻劑控制在預定溫度處并將冷卻劑傳遞給半導體處理工藝的方法。
背景技術：
：很多行業都使用冷卻器控制工藝的流體和部件的溫度。例如，在半導體行業中，典型的晶片處理步驟包括一系列熱加栽和熱卸載部分處，冷卻器被用來控制靜電卡盤、石英窗和腔室壁的溫度。用于控制供應給半導體工藝的冷卻劑的溫度的已知冷卻器有BOCEDWARDS公司的TCU40/80和TCU40/80+。TCU40/80冷卻器利用反饋控制將供應給半導體處理裝置的冷卻劑溫度維持在預定設定點。TCU40/80冷卻器包括從處理裝置移走熱量的冷卻劑回路，從該冷卻劑回路移走熱量的制冷劑回路以及從該制冷劑回路移走熱量的冷卻水回路。TCU40/80冷卻器采用了標準反饋方法運行，即測量供應給處理裝置的冷卻劑的溫度，比較所測量的冷卻劑溫度和預定設定點之間的差異并發送信號給制冷劑回路中的膨脹閥以調整制冷劑的流速。雖然在穩定狀態工況下TCU40/80和TCU40/80+冷卻器能夠控制冷卻劑溫度達到大約士1。C，在最大熱加載或卸載條件下則達到大約士l.5。C，但是這些冷卻器在工藝動態熱加栽和熱卸載期間卻存在明顯的溫度超調量、溫度波動、性能的逐漸劣化或者甚至造成控制損失等問題。因此，需要一種改進的方法，用于控制供應給工藝的冷卻劑的溫度并用于快速響應工藝所產生的動態熱加載和熱卸載(熱量變化)。
發明內容5一種用于控制工藝溫度的方法，包括以下步驟從蒸發器向所述工藝供應冷卻劑；測量供應給所述工藝的冷卻劑的溫度；確定冷卻劑供應溫度和冷卻劑供應溫度設定點之間的差；通過使制冷劑流過所述蒸發器移走冷卻劑的熱量；測量從所述工藝返回的冷卻劑的溫度；通過所測量的冷卻劑供應溫度和所測量的冷卻劑返回溫度計算微分指數加權移動平均數(DEWMA);通過將DEWMA和預定邏輯規則進行比較確定熱量變化狀態；基于所述熱量變化狀態預測從所述工藝返回的冷卻劑的溫度；以及，基于所預測的溫度調整制冷劑的流速。圖1是根據本發明的裝置的示意圖。圖2是熱加載和熱卸載過程的示例。圖3是與測量源信號相比較的指數加權移動平均數的示例。圖4是采用了線性內插法并且作為可能性的函數的微分指數加權移動平均數的示例。圖5是采用了非-線性內插法并且作為可能性的函數的微分指數加權移動平均數的示例。圖6是舉例說明本發明性能的實驗數據。具體實施例方式本發明提供了一種控制工藝溫度的方法。更具體地，本發明提供一種用于控制在工藝中工作的流體或部件的溫度的方法。該方法包括反饋和前饋控制算法，以在穩定狀態工況下控制溫度達到大約士O.1。C以內以及在最大熱加載和熱卸載工況下控制溫度達到大約±0.75。C以內。雖然本發明實際上可用于任何類型的流體或部件的溫度控制應用場合(例如半導體，藥品或食品應用)，但這里將描述的發明是用于控制半導體制造過程中的半導體工藝部件的冷卻劑溫度。圖l是依照本發明的冷卻器IOO的一個實施方式的示意圖。冷卻器100的熱壓縮循環包括三個回路冷卻劑回路102,制冷劑回路104和水冷卻回路106，由控制系統控制該冷卻器100的運行。冷卻劑回路102的目標是按照特定的流速118和溫度116向工藝108供應冷卻劑。控制系統一般不直接控制冷卻劑流速118。控制冷卻劑供應溫度116是該控制系統的目標，同時是本發明的主要目的。冷卻劑回路102包括具有冷卻劑加熱器111的冷卻劑儲罐110、泵112、蒸發器120的熱側和多個分接點，這些分接點帶有分別用于測量冷卻劑返回溫度(Ter)，冷卻劑供應溫度(Tes)和冷卻劑流速(Fc)的傳感器ll4、116和118。冷卻劑回路102向半導體工藝108供應冷卻劑(例如非導電性全氟化碳)，該回路102經過蒸發器120的熱側以除去從半導體工藝108處所獲得的熱量。冷卻劑回路102可用來控制工藝108中的部件或流體的溫度。例如，冷卻劑回路102可從半導體裝置中通過以維持或調整靜電卡盤、石英窗或腔室壁的溫度。冷卻劑回路102是封閉回路，冷卻劑從蒸發器120的熱側連續地流向工藝108，然后從工藝122返回，并流過儲罐110、加熱器111、循環泵112，再回到蒸發器120的熱側。制冷劑回路104運行以移走冷卻劑的熱量并控制冷卻劑的除熱率。除了蒸發器120之外，制冷劑回路104還包括壓縮機124、冷凝器126、具有可調制冷劑閥130的主制冷劑管線128和具有熱氣旁通閥134的可調熱氣旁通管線132。制冷劑回路104還可包括分接點，這些分接點具有分別測量蒸發溫度(Tre)，蒸發壓力(Pre)和冷凝壓力(Prc)的傳感器136、138和140。傳感器136、138和140主要用于保證壓縮機124在適當的工況下運行。與冷卻劑回路102—樣，制冷劑回路也是封閉回路，制冷劑在其中連續地流過壓縮機124、冷凝器126的熱側、液體膨脹閥130和蒸發器120的冷側。制冷劑以蒸汽形式離開蒸發器120的冷側。該蒸汽隨后被壓縮，然后要么以壓縮熱氣的形式通過熱氣旁通管線132流到蒸發器120中，要么流過冷凝器126，在冷凝器126處水冷卻回路106移走壓縮熱氣中的熱量，該壓縮熱氣得到冷凝并返回到蒸發器120中。水冷卻回路106運行以在制冷劑通過冷凝器126時移走制冷劑中的熱量。除了冷凝器126之外，水冷卻回路還包括可調冷卻水控制閥142、冷卻水供應裝置148、冷卻水回收裝置150和分接點，這些分接點具有分別用于測量冷卻水供應溫度(Tcws)和冷卻水返回溫度(Tcwr)的傳感器144和146。在工作期中，冷卻水循環通過冷卻水控制閥142和壓縮才幾126的冷側以移走制冷劑中的熱量。在普通的熱壓縮循環中，以第一較低蒸發壓力138和溫度136離開蒸發器120的制冷劑蒸汽流過壓縮機124并達到較高冷凝壓力140。熱蒸汽隨后在冷凝器126中被冷凝，冷凝熱量在該處被冷卻水回路106消耗掉。被冷凝的制冷劑離開冷凝器126的熱側并進入蒸發器120的冷側，在該處被冷凝的制冷劑吸收了返回冷卻劑122中的熱量而在對應蒸發壓力138的溫度下再次蒸發。液體膨脹閥130和熱氣旁通閥134依靠冷卻劑返回溫度114控制冷卻冷卻劑所需的制冷劑量。本發明的方法包括反饋和前饋控制方法，用于將冷卻劑供應溫度116維持在使用者規定的設定點并用于在工藝108發生熱加載和熱卸載時提供調節溫度的快速響應。控制系統反饋方面的目標是維持恒定的冷卻劑供應溫度116。通過不斷調節液體膨脹閥130和熱氣旁通閥134來控制該冷卻劑供應溫度116。當液體膨脹閥130開口更大(即孔口尺寸增大)時，流過蒸發器120冷側的制冷劑就會增加，因此，會移走冷卻劑中的更多熱量。結果是冷卻劑供應溫度116降低。相反地，當熱氣旁通閥134開口更大時，流過蒸發器120冷側的熱氣就會增加，蒸發器120的冷卻容量因此而減小，使得從冷卻劑移走的熱量更少。結果是冷卻劑供應溫度116升高。這樣，通過平衡液體膨脹閥130和熱氣旁通閥134的位置(即孔口尺寸)就控制了冷卻劑供應溫度116。例如，如果冷卻劑供應溫度116比使用者規定的設定點(Tsp)高，控制系統則命令液體膨脹閥130開大并命令熱氣旁通閥134開小。值得注意地是，使用者通過人機界面(HMI)或者通過其他一些電子輸入端隨時可以改變設定點。當工藝包括涉及獲得或失去不定量熱量的一系列熱加載和熱卸載步驟時，除了前饋方法之外，控制系統還使用了前述的反饋控制方法。圖2圖示了典型的熱量變化(即熱加載和熱卸載)過程，在圖中冷卻劑返回溫度114作為時間的函數被用曲線表示出來。冷卻劑供應溫度116則不是熱加栽和熱卸載的好指標，因為它被控制在使用者規定的設定點處。圖2中示出的熱量變化過程可以被描述為三個狀態狀態1，狀態2和狀態3。在狀態1中，由于冷卻劑經歷了工藝108的熱加載，因此返回溫度114按照一定比率(即狀態1的線斜率)升高。這樣，狀態1代表了溫度114作為時間的函數而升高的工況。隨著熱加栽的繼續，冷卻劑返回溫度114最終將會達到穩定狀態值，其標志著狀態2的開始。因此狀態2代表了冷卻劑返回溫度114的穩定狀態工況。狀態3說明了卸載所施加的熱量和冷卻劑返回溫度114以一定比率(即狀態3的線斜率)降低的過程。狀態3代表溫度114作為時間的函數而降低的工況。當熱卸載過程到達新的穩定狀態溫度時，狀態3結束，狀態2則再次開始。圖2對熱加載和熱卸載過程提供了簡單的圖示說明。值得注意地是，根據工藝108或使用者的要求，熱加載和熱卸載順序可以變化。例如，工藝108可以在狀態2的結束處施加增加的熱加栽，使得狀態1再次開始。本發明進一步包括用于熱負荷變化的早期檢測的新方法。依靠熱加載率，控制系統采用不同技術來處理控制變量以獲得連續的冷卻劑返回溫度114。現有技術的溫度控制系統通常使用消極的反饋控制，用這種反饋控制調節制冷劑流以響應冷卻劑供應溫度和冷卻劑溫度設定點之間的誤差。然而，因為在熱加載或卸載(發生在蒸發器的上游)所引起的冷卻劑溫度的實際上升和所測量的冷卻劑供應溫度(從蒸發器的下游測量)之間存在延時(即滯后)，因此檢測到冷卻劑供應溫度和溫度設定點之間的誤差時，系統已開始放松對冷卻劑供應溫度的控制。因此，控制系統導致了對冷卻劑供應溫度的過度調節或者調節不足。本發明解決了這個問題，方法是通過快速而精確地檢測熱加載和熱卸載狀態(即狀態1和狀態3)，并在控制損失發生之前通過調節制冷劑溫度和流速來響應這些變化以滿足工藝108的需要。為了檢測熱加載和熱卸載狀態，本發明的控制系統連9續地監控源溫度信號是否在上升、下降或是保持穩定。源溫度信號可以是冷卻劑返回溫度U4、冷卻劑返回溫度114和冷卻劑供應溫度116之間的差值、或是這些信號中任何一個的變化率。為了使該方法有效且精確，必須排除源信號中的測量誤差或者干擾。為了過濾出源信號中的測量誤差或干擾，本發明的方法采用了指數加權移動平均數(EWMA)。對于信號S,通過應用下列隨著時間遞歸的公式定義S在時間t處的EWMA。f=<+(1-w)乂公式1其中to是信號S先前被掃描的時間，w是位于0和1(包含)之間的加權因子或過濾器常數。EWMA主要取決于過濾器常數(即加權因子w)。圖3圖示了具有兩種過濾器常數的兩種EWMA，對應較大過濾器常數的慢跟隨EWMA(SEWMA)和對應較小過濾器常數的快跟隨EWMA(FEWMA)(為了說明的目的，線之間的間隙可能已經被夸大)。FEWMA線比SEWMA線更接近原始信號。當源信號增大時(例如由于熱加栽導致冷卻劑返回溫度114升高)，快EWMA線和慢EWMA線開始分離，并且快EWMA線在慢EWMA線的上方。相反地，當源信號減小時(例如由于熱卸載導致冷卻劑返回溫度114降低)，快EWMA線和'匱EWMA線開始分離，但是FEWMA線在SEWMA線的下方。當源信號達到穩定狀態值時，快移動EWMA線和慢移動EWMA線開始重合。請注意，當用于快EWMA的過濾器常數w設定為0時，快EWMA就變成源信號本身。這樣通過只采用SEWMA和該信號本身就可以檢測熱加載或卸載。也可以通過確定單個EWMA之間的斜率(即變化率)來檢測熱量變化。例如，當斜率為正時，正在加載熱量。EWMA的斜率還指示了信號變化的快慢。雖然EWMA是優選的過濾源信號的方法，但本領域技術人員應該認識到還有其它方法可以過濾源信號和檢測移動趨10勢。例如，可以使用簡單移動平均數來過濾源信號，該簡單移動平均數中的平均數是用固定數目的最近測量結果計算出來的；或者，也可使用加權移動平均數來過濾源信號，在該加權移動平均數中對最近測量結果根據它們的"年齡，，進行線性加權。因此，通過對適當的源信號應用適當的過濾器，就能夠檢測熱加載或卸載中的有意義的改變。圖3在圖的下部還示出了微分EWMA(DEWMA)，該微分EWMA是通過從快EWMA中減去慢EWMA計算出來的。微分EWMA能指示源信號正在進行變化的快慢，或者，當用在本發明中時，能指示熱負荷的強度。微分EWMA可以與熱量變化狀態相關聯。當DEWMA為正時，它指示狀態1。當DEWMA為負時，它指示狀態3。狀態2則對應于在零附近波動的DEWMA。下列的例子示出了控制系統可以如何4吏用DEWMA。如果使用冷卻劑返回溫度114和冷卻劑供應溫度116之間的變化率作為原始源信號并使用快移動的EWMA和慢移動的EWMA，則可以應用一些正參數Xi和x2(0<x2<Xl)檢測熱量變化狀態。假定x^0.5且x2-0.2;表1列出了可以用來決定工藝處于哪種熱量變化狀態的一些規則。表1.用于確定熱量變化狀態的邏輯規則<table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table>已經發現下列的公式(公式2)在確定上述三個狀態時非常有效<formula>formulaseeoriginaldocumentpage11</formula>公式2其中，31到a4是常數，Tsp是溫度設定點。根據表1所列的示例和規則，如果DEWMA在0.2到0.5之間或在-O.5到-O.2之間，則確定不了熱量變化狀態。如果DEWMA=0.3，人的判斷將會認為信號處在狀態2中的可能性超過處在狀態l中；如果DEWMA-0.4，人的判斷將會認為信號處在狀態1中的可能性超過處在狀態2中，等等。因此，如果只能確定狀態有可能正確，則該方法是不行的，因為無法選擇使用哪個輸出函數。模糊邏輯可以用來解決這一個問題。模糊邏輯將兩個狀態之間的不確定性或可能性視為0到l之間的一個數，而不是筒單的"一種"狀態或"另一種"狀態。因此，如果DEWMA-O.35,簡單模糊規則將生成該"狀態"有50%可能性處于狀態1和50%可能性處于狀態2。將明確的DEWMA值轉換為"模糊"熱量變化狀態的這種過程就是模糊化法。圖4示出這種模糊化過程。在圖4中，實線下面的區域覆蓋狀態1，虛線下面的區域覆蓋狀態2，點劃線下面的區域則覆蓋狀態3。請注意，在DEWMA處于-O.5到-O.2和0.2到0,5之間的范圍時，狀態2分別與狀態1和3重疊。當DEWMA落入這兩個重疊范圍時，不能明確確定該狀態，因此必須要應用模糊化規則。圖4的虛線圖示了當DEWMA=0.35時如何確定上述50%的可能性。通過上述的可能性值還能進行控制輸出的計算。先可以對所涉及的每種狀態的控制輸出進行計算(即在上迷示例中的狀態1和2)。然后，將最后的總控制輸出計算成50%的輸出來自狀態l和50%的輸出來自狀態2。上述的示例示出了采用簡單的線性內插法的模糊化法。即，通過線性內插法(沿著圖4中的直線)確定模糊或不確定狀態，最后的輸出通過線性合計獲得。在本發明另外的實施方式中，公式3所示的非線性轉換函數可用于內插法。=tanh(,0++r2d2)x/*3+r4公式3其中小寫字母表示常數，而d表示DEWMA。圖5是該非線性轉換函數的圖形表示。除了平滑的角度以外，圖2與圖4相似。請注意，圖5中曲線的形狀可以通過應用不同的常數來修正。因此，與圖4中示出的線性函數相比，該非線性轉換函數更加具有適應性，并提供了平滑連續的控制輸出。值得注意地是，在圖4所給的示例中，熱負荷被特征化為三種狀態，檢測變量DEWMA則被分為五個區域，每種狀態被給予一個區域，而剩下的兩個區域通過模糊化法聯系到這些狀態。然而，在圖5中，三個狀態被給予點值，而不是DEWMA值的區域。狀態1、2和3被分別賦值為+w，0，和-oo。通過模糊化法并經由公式3所示類型的連續函數，DEWMA的所有其他值被給予給三個狀態。圖6提供了進行周期性的熱加載和卸載并被控制在0°C處的冷卻器的實驗數據。在這個實驗中，冷卻劑流速是固定的；熱氣旁通閥134、液體膨脹閥130和冷水閥142由三個標準比例-積分-微分(PID)控制器分別控制。在熱量變化期間，控制溫度小于lGC，而到達穩定狀態之后，控制溫度小于0.5GC。總之，本發明是針對溫度控制系統，其中以工藝變量值為基礎并依照一組邏輯規則將熱負荷特征化為一組狀態。對于每種狀態和每個被控制的變量，通過調整控制算法預測該狀態的變量的控制輸出。在運行中，使用工藝變量檢測熱負荷的狀態并為一個或多個受控制的變量提供前饋控制輸出。工藝變量可以是被測量的變量，或者是被測量變量的變化率，或者是用一個或多個被測量的變量計算或轉換得到的導出變量。被測量的變量可以是冷卻劑返回溫度。導出變量可以是冷卻劑返回溫度和冷卻劑供應溫度之間的差值或者該差值的變化率。導出變量還可以是冷卻劑返回溫度和溫度設定點之間的差值或者該差值的變化率。此外，導出變量可以是工藝變量的簡單移動平均數或該工藝變量的加權移動平均數。導出變量也可以是該工藝變量的指數加權移動平均數或者是該工藝變量的具有兩個不同加權因子的兩個指數加權移動平均數之間的差值。當按照大約5到50的頻率計算平均數的值時，加權因子之一可以是在0.7和0.95之間，而另一個加權因子則具有更大的值。采用計算預測技術或者數字建模方法可以通過工藝變量預測導出變量。狀態組可以包括三種狀態增加熱負荷、減小熱負荷和維持熱負荷。工藝變量值的全部范圍被分為至少三個連續區域。每種狀態被給予一個區域，使得當工藝變量的值落入該區域時，為了溫度控制的目的，可以高可信度地斷定該系統是處于該狀態。未被給予的區域(如果有的話)則通過模糊化法聯系到三個狀態上。通過對被控制變量的輸出和涉及模糊化的所有狀態的輸出應用逆模糊化規則，可以獲得該被控制變量的控制輸出。三個連續區域可以被分為五個連續區域。第一、第二和第三區域被分別確定，使得當工藝變量的值落入第一個區域中時，可以高可信度地確定增大熱負荷、減小熱負荷或者維持熱負荷的狀態。第四和第五區域分別位于第一和第二區域之間以及第二和第三區域之間。如前述的以及圖示的本發明提供了一種精確且響應快速的方法，用于控制工藝溫度或者用于控制該工藝中的控制部件或流體流的溫度。可以預期，在前面的描述以及示例的啟示下，對于本領域技術人員而言，本發明的其他實施方式和變型是很顯然的。現意圖將這樣的實施方式和變化也包括在由后面的權利要求所闡明的本發明的范圍內。權利要求1.一種用于控制工藝溫度的方法，包括以下步驟從蒸發器向所述工藝供應冷卻劑；測量供應給所述工藝的冷卻劑的溫度；確定冷卻劑供應溫度和冷卻劑供應溫度設定點之間的差；通過使制冷劑流過所述蒸發器來移走冷卻劑中的熱量；測量從所述工藝返回的冷卻劑的溫度；用所測量的冷卻劑供應溫度和所測量的冷卻劑返回溫度計算微分指數加權移動平均數；通過將微分指數加權移動平均數和預定邏輯規則進行比較來確定熱量變化狀態；基于所述熱量變化狀態預測從所述工藝返回的冷卻劑的溫度；以及基于所預測的溫度調整制冷劑流速。2.如權利要求1所述的方法，其中，所述確定熱量變化狀態的步驟包括應用模糊邏輯和模糊化規則。3.如權利要求1所述的方法，其中，所述調整制冷劑流速的步驟包括控制液體膨脹閥。4.如權利要求3所述的方法，包括通過使制冷劑流過冷凝器移走制冷劑中的熱量的步驟。5.如權利要求4所述的方法，包括使一部分制冷劑從所述冷凝器的上游通過熱氣旁通管線流入所述蒸發器的步驟。6.如權利要求5所述的方法，包括通過控制熱氣旁通閥調節所述熱氣旁通管線中的制冷劑流速的步驟。7.如權利要求1所述的方法，其中，所述確定熱量變化狀態的步驟包括將微分指數加權移動平均數與包括以下條件的預定邏輯規則進行比較狀態l,如果微分指數加權移動平均數〉0.5;狀態2,如果-0.2<微分指數加權移動平均數<0.2;以及狀態3，如果微分指數加權移動平均數〈-0.5.8.如權利要求7所述的方法，其中，所述確定熱量變化狀態的步驟包括應用模糊邏輯和模糊化規則。9.如權利要求1所述的方法，其中，所述工藝是半導體工藝。10.—種用于控制半導體處理裝置中的部件溫度的方法，包括以下步驟從蒸發器向所述部件供應冷卻劑；測量供應給所述部件的冷卻劑的溫度；確定冷卻劑供應溫度和冷卻劑供應溫度設定點之間的差；通過使制冷劑流過所述蒸發器來移走冷卻劑中的熱量；測量從所述部件返回的冷卻劑的溫度；過濾所測量的冷卻劑返回溫度數據以排除誤差和干擾；通過將已過濾的冷卻劑返回溫度數據和預定邏輯規則進行比較來確定熱量變化狀態；基于所述熱量變化狀態預測從所述部件返回的冷卻劑的溫度；以及基于所預測的溫度調節制冷劑的流速。11.如權利要求10所述的方法，其中，所述確定熱量變化狀態的步驟包括應用模糊邏輯和模糊化規則。12.如權利要求10所述的方法，其中，所述調節制冷劑流速的步驟包括控制液體膨脹閥。13.如權利要求12所述的方法，包括通過使制冷劑流過冷凝器來移走制冷劑中的熱量的步驟。14.如權利要求13所述的方法，包括使一部分制冷劑從所述冷凝器的上游通過熱氣旁通管線流入所述蒸發器的步驟。15.如權利要求14所述的方法，包括通過控制熱氣旁通閥來調節所述熱氣旁通管線中的制冷劑流速的步驟。16.如權利要求10所述的方法，其中，所述確定熱量變化狀態的步驟包括將微分指數加權移動平均數與包括以下條件的預定邏輯規則進行比較狀態l，如果微分指數加權移動平均數〉0.5;狀態2,如果-O.2<微分指數加權移動平均數<0.2;以及狀態3，如果微分指數加權移動平均數〈-0.5.17.如權利要求16所述的方法，其中，所述確定熱量變化狀態的步驟包括應用模糊邏輯和模糊化規則。18.如權利要求10所述的方法，其中，所述部件選自包括以下內容的組靜電卡盤、石英窗和腔室壁。19.如權利要求10所述的方法，其中，所述過濾所測量的冷卻劑返回溫度數據以排除誤差和干擾的步驟包括計算慢移動的指數加權移動平均數和快移動的指數加權移動平均數之間的差以確定微分指數加權移動平均數。20.如權利要求10所述的方法，其中，所述過濾所測量的冷卻劑返回溫度數據以排除誤差和干擾的步驟包括計算簡單移動平均數。21.如權利要求10所述的方法，其中，所述過濾所測量的冷卻劑返回溫度數據以排除誤差和干擾的步驟包括計算加權移動平均數。全文摘要一種用于控制供應給工藝的冷卻劑的溫度的方法，例如半導體工藝。該方法用于將冷卻劑冷卻至預定溫度、將冷卻劑控制在預定溫度處以及向半導體工藝傳遞冷卻劑。該方法包括反饋和前饋控制算法以便在穩定狀態工況下控制溫度達到大約±0.1℃以內而在最大熱加載和熱卸載條件下控制溫度達到大約±0.75℃以內。本發明可以應用于任何流體或部件的溫度控制應用場合(例如，半導體，藥品或食品應用)。文檔編號F25B49/00GK101495822SQ200780026011公開日2009年7月29日申請日期2007年7月9日優先權日2006年7月10日發明者Z·譚申請人:埃地沃茲真空系統有限公司