等離子爐雙密封圈真空鎖緊結構的制作方法
【技術領域】
[0001 ]本實用新型涉及一種熱處理設備，涉及一種等離子爐爐體與底盤的安裝結構，具體的說，涉及一種等離子爐真空鎖緊結構。
【背景技術】
[0002]等離子爐是利用由電能所產生的等離子體的能量來進行熔煉或加熱的一種加熱爐，其結構包括爐體、爐蓋和底座，爐體、底座之間為可拆卸的結構。為保證等離子爐正常工作，需要保證爐體和底座之間緊密鎖緊配合。傳統的等離子爐鎖緊結構復雜笨重，其結構一般為兩個氣缸帶動厚重的鎖圈旋轉，利用楔塊壓緊爐罩和底盤的法蘭，達到鎖緊的效果。這種結構在鎖緊時容易出現鎖不緊等故障，影響爐內反應。
【發明內容】
[0003]本發明的目的在于針對現有技術中等離子爐鎖緊結構復雜、鎖不緊的問題，提供一種結構簡單，容易制造的等離子爐鎖緊結構。
[0004]本發明的技術方案是:等離子爐雙密封圈真空鎖緊結構，包括爐體和底盤，爐體包括爐罩和位于爐罩底部的爐罩法蘭，底盤包括底盤法蘭，沿底盤法蘭圓周由內向依次設置有內密封圈槽、真空腔和外密封圈槽，內密封圈槽和外密封圈槽內分別安裝有內密封圈和外密封圈，真空腔上設置有一貫通道底盤法蘭底部的抽氣孔，抽氣孔處安裝有可拆卸的密封塞。
[0005]本實用新型的使用方法為:將爐罩放置在底盤上，爐罩法蘭與底盤法蘭對齊，打開抽氣孔處的密封塞，用真空栗將真空腔內抽成真空，隨后蓋上抽氣孔處的密封塞。真空腔內氣壓下降，爐罩法蘭與底盤法蘭在大氣壓的作用下相互壓緊，達到鎖緊的目的。
[0006]本實用新型的有益效果是:
[0007]本實用新型的等離子爐雙密封圈真空鎖緊結構，通過對底盤法蘭結構的改進，省略了傳統等離子爐繁雜的密封結構，能夠很好的避免傳統鎖緊機構復雜、笨重、頻繁故障等缺點，具有結構簡單、成本低、容易制造、鎖緊可靠等優點。
【附圖說明】
[0008]圖1為本實用新型結構不意圖。
[0009]圖2為爐盤結構示意圖。
[0010]圖3為爐盤俯視結構示意圖。
[0011 ] 其中，1-外密封圈，2-內密封圈，3-抽氣孔，4-真空腔，5-爐罩法蘭，6-底盤法蘭，7_外密封槽，8-內密封槽
【具體實施方式】
[0012]等離子爐雙密封圈真空鎖緊結構，包括爐體和底盤，爐體包括爐罩和位于爐罩底部的爐罩法蘭5，底盤包括底盤法蘭6，沿底盤法蘭6圓周由內向依次設置有內密封圈槽8、真空腔4槽和外密封圈槽7，內密封圈槽8和外密封圈槽7內分別安裝有內密封圈2和外密封圈
I，真空腔4上設置有一貫通道底盤法蘭底部的抽氣孔3，抽氣孔3處安裝有可拆卸的密封塞。
[0013]將爐罩放置在底盤上，爐罩法蘭5與底盤法蘭6對齊，打開抽氣孔3處的密封塞，用真空栗將真空腔4內抽成真空，隨后蓋上抽氣孔3處的密封塞。真空腔4內氣壓下降，爐罩法蘭5與底盤法蘭6在大氣壓的作用下相互壓緊，達到鎖緊的目的。
【主權項】
1.等離子爐雙密封圈真空鎖緊結構，包括爐體和底盤，所述爐體包括爐罩和位于爐罩底部的爐罩法蘭，所述底盤包括底盤法蘭，其特征在于:沿所述底盤法蘭圓周由內向依次設置有內密封圈槽、真空腔和外密封圈槽，內密封圈槽和外密封圈槽內分別安裝有內密封圈和外密封圈，真空腔上設置有一貫通道底盤法蘭底部的抽氣孔，抽氣孔處安裝有可拆卸的密封塞。
【專利摘要】等離子爐雙密封圈真空鎖緊結構，包括爐體和底盤，所述爐體包括爐罩和位于爐罩底部的爐罩法蘭，所述底盤包括底盤法蘭，其特征在于：沿所述底盤法蘭圓周由內向依次設置有內密封圈槽、真空腔和外密封圈槽，內密封圈槽和外密封圈槽內分別安裝有內密封圈和外密封圈，真空腔上設置有一貫通道底盤法蘭底部的抽氣孔，抽氣孔處安裝有可拆卸的密封塞。本實用新型的等離子爐雙密封圈真空鎖緊結構，通過對底盤法蘭結構的改進，省略了傳統等離子爐繁雜的密封結構，能夠很好的避免傳統鎖緊機構復雜、笨重、頻繁故障等缺點，具有結構簡單、成本低、容易制造、鎖緊可靠等優點。
【IPC分類】F27B14/08
【公開號】CN205228137
【申請號】CN201520983785
【發明人】宋緒臻, 吳俊平, 宋學峰, 劉思佳
【申請人】青島豐東熱處理有限公司
【公開日】2016年5月11日
【申請日】2015年12月2日