專利名稱：一種新型真空退火爐的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種在熱處理過程中不需要抽真空、充氮氣、不會在金屬表面產生氧化層的新型真空退火爐。
在熱處理過程中如退火、淬火中，現有的退火爐在退火工藝中需要抽真空，充氮氣，而且在金屬產品表面常產生氧化層，同時還存在著脫碳現象，退火后還需要用剝殼機除去氧化層，在退火爐中的高溫橡膠密封圈和石棉密封圈易變質老化，因此造成現有的生產工藝流程長，成本高，工藝復雜，產品質量低，耗費資源。
本實用新型的目的在于克服現有技術中存在的不足而提供一種可簡化熱處理工藝、提高產品質量和工作效率、降能節耗的新型真空退火爐。
本實用新型的目的是這樣實現的由爐體、設置在爐體中的絕熱層、設置在絕熱層中的反射屏、設置在反射屏中的加熱體、處于加熱體中的工件組成，在爐體密封口處包圍有一層除氧劑。爐體密封口處結構為一種凹凸結構，凹槽內放置有除氧劑。
本實用新型具有不需充氮氣、不需抽氧氣、不需冷卻、節約時間、縮短工藝流程、降低成本的優點，處理過的金屬表面無氧化層，表面光滑如鏡，不需剝殼機除氧化層，金屬不脫碳和不生銹，不需要再進行酸洗和堿洗。
以下結合附圖對本實用新型作進一步說明。
圖1為本實用新型的結構示意圖。
如
圖1所示，本實用新型由爐體1、設置在爐體中的絕熱層2、設置在絕熱層中的反射屏3、設置在反射屏中的加熱體4、處于加熱體中的工件5組成，在爐體密封口處包圍有一層除氧劑7。除氧劑也可以放置在爐體內部一部分。在爐體密封口處結構為一種凹凸結構，即爐底8與爐體1之間以凹槽形式連接。凹槽6內放置有除氧劑。這種爐子可以是箱式回火爐、井式真空爐、臺式真空爐、硅碳棒淬火爐等需要進行真空熱處理的爐子。只要在密封口處或接口處包圍有除氧劑進行密封，就可達到除氧目的。
權利要求1.一種新型真空退火爐，由爐體(1)、設置在爐體中的絕熱層(2)、設置在絕熱層中的反射屏(3)、設置在反射屏中的加熱體(4)、處于加熱體中的工件(5)組成，其特征在于在爐體密封口處包圍有一層除氧劑(7)。
2.根據權利要求1所述的一種新型真空退火爐，其特征在于爐體密封口處結構為一種凹凸結構，凹槽內放置有除氧劑(7)。
專利摘要本實用新型涉及一種在熱處理過程中不需要抽真空、充氮氣、不會在金屬表面產生氧化層的新型真空退火爐,由爐體、設在爐體中的絕熱層、設在絕熱層中的反射屏、設在反射屏中的加熱體、處于加熱體中的工件組成,在爐體密封口處包圍有一層除氧劑,爐體密封口處結構為一種凹凸結構,凹槽內放置有除氧劑,具有可簡化熱處理工藝、提高產品質量和工作效率、降能節耗的優點,適于在退火、淬火等熱處理過程中使用。
文檔編號F27B5/00GK2396356SQ9923780
公開日2000年9月13日 申請日期1999年5月28日 優先權日1999年5月28日
發明者趙獻濤, 趙廉生 申請人:趙獻濤, 趙廉生