立式圓盤旋轉真空焙燒爐的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種立式圓盤旋轉真空焙燒爐。主體結構主要包括筒體，封頭，進、出料口，抽真空口，軸體，轉動圓盤，下料刮料板，攤料刮料板，集料口，熱輻射管及保溫層等。物料在多層與主軸焊接為一體的圓盤上隨主軸旋轉而轉動，并由上至下逐層均勻焙燒。每層圓盤上設置的下料刮料板靠自重套置在刮料桿上，不受熱膨脹影響，與圓盤始終保持接觸，使物料按既定路線流動。布置于大圓盤上的攤料刮料板與在各層圓盤下方沿周向均勻布置3~4條熱輻射管使物料在圓盤上均勻布置，受熱均勻。引入抽真空設備，在真空環境下焙燒，物料密封性能好。本實用新型結構緊湊，焙燒均勻，提高了填充率和密封性能，并且運行中部件不受熱膨脹影響，運行平穩，有效降低了制造成本及運行能耗。
【專利說明】立式圓盤旋轉真空焙燒爐
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種立式圓盤真空焙燒爐。
【背景技術】
[0002]焙燒爐是煉油催化劑制備的重要設備，其性能及控制關系到催化劑產品的質量，安全運行、生產成本及節能環保等一系列問題。傳統臥式、立式滾筒焙燒爐筒體采用燃油或燃氣加熱，熱電偶置于滑道內，這種結構存在以下缺點:
[0003]1、溫度測量信號通過軸端滑環傳輸，所測溫度為氣相溫度，溫度測量誤差大，影響產品質量。
[0004]2、在焙燒前期升溫過程中，爐內正壓使大量物料粉塵從排氣管泄放，既浪費原料，又帶來污染。
[0005]3、溫度場不均勻，軸向溫差大，物料受熱不均勻。
[0006]4、焙燒爐滾筒采用耐熱鋼材料，制造成本高。
[0007]就現有立式焙燒爐而言，除加熱管布置不均致溫度場不均勻外，隨轉軸旋轉的刮料板與靜止圓盤長時間接觸摩擦，造成相互磨損加劇，圓盤積料，刮料不徹底，需定期清理檢修。
【發明內容】
[0008]針對現有焙燒爐的不足，本實用新型的目的在于提供一種立式旋轉圓盤真空焙燒爐。成本低、結構緊湊、處理量大、填充率高、傳熱均勻、能耗小、軸體膨脹后圓盤及刮料板始終接觸且運行平穩、密封性能好、安裝及檢修便捷的新型結構。
[0009]本實用新型可通過以下技術方案實現:
[0010]一種立式圓盤真空焙燒爐，主要包括筒體，封頭，進料口，出料口，抽真空口，軸體，大圓盤，小圓盤，第一下料刮料板，第二下料刮料板，攤料刮料板，集料口，熱輻射管及保溫層。筒體頂部設有進料口和抽真空口，封頭和筒體內襯耐火及保溫層，筒體內設有間隔交替水平面布置大圓盤和小圓盤，大圓盤和小圓盤與主軸焊接為一整體，在每層大圓盤上設置第一下料刮料板、每層小圓盤上設置第二下料刮料板，第一下料刮料板和第二下料刮料板靠自重套置在刮料桿上，且第一下料刮料板與第二下料刮料板布置方向相反，在大圓盤上的第一下料刮料板呈135°布置有攤料刮料板，攤料刮料板與圓盤間留有間隙，在每層大圓盤和小圓盤下方沿圓周方向均勻設置熱輻射管，熱輻射管與焊接在筒體上的套管通過法蘭固定連接，大圓盤出料口布設在靠近主軸的一側，而小圓盤的集料口設在靠近筒體邊緣處。
[0011]本實用新型相比現有技術具有如下優點和積極效果:
[0012]1、結構緊湊、處理量大、填充率高(25?30%)、軸體膨脹后圓盤及刮料板始終接觸且運行平穩，安裝及檢修便捷；
[0013]2、焙燒溫度達600°C ?800°C，均勻布置的熱輻射管及物料流動時隨圓盤的旋轉增加了物料傳熱的均勻度，且能耗小；
[0014]3、真空環境下焙燒，催化劑活性好，焙燒效率高；
[0015]4、由于內部采用耐高溫保溫澆注料，筒體及封頭材料為碳鋼，從而節約了制造成本。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0016]圖1為本實用新型結構示意圖。
[0017]圖2為圖1中A-A向大圓盤示意圖。
[0018]圖3為圖1中B-B向小圓盤示意圖。
【具體實施方式】
[0019]本實用新型需將結合【具體實施方式】做進一步說明:
[0020]參照附圖1-3，一種立式圓盤真空焙燒爐，主要包括筒體2，封頭7，進料口 8，出料口 1，抽真空口 9，軸體10，大圓盤12，小圓盤13，第一下料刮料板3，第二下料刮料板4，攤料刮料板14，集料口 6，熱輻射管11及保溫層5。筒體2頂部配有抽真空口 9，使爐內真空度達到絕對壓力lOkPa。筒體2頂部設有進料口 8和抽真空口 9，封頭7和筒體2內襯耐火及保溫層5，殼體材質為碳鋼。筒體2內設有間隔交替水平面布置大圓盤12和小圓盤13，大圓盤12和小圓盤13與主軸10焊接為一整體。主軸10傳動為鏈傳動形式，軸密封采用無油盤根密封。在每層大圓盤12上設置第一下料刮料板3、每層小圓盤13上設置第二下料刮料板II 4，第一下料刮料板3和第二下料刮料板4靠自重套置在刮料桿上，且第一下料刮料板3與第二下料刮料板4布置方向相反。在大圓盤12上的第一下料刮料板3呈135°布置有攤料刮料板14，攤料刮料板14與大圓盤12間留有10mm間隙，在每層大圓盤12和小圓盤13下方沿圓周方向均勻設置熱輻射管11作為熱源，熱輻射管11與焊接在筒體2上的套管通過法蘭固定連接，大圓盤12出料口 1布設在靠近主軸10的一側，而小圓盤13的集料口6設在設在靠近筒體2邊緣處。
[0021]主軸10靠傳動機構帶動旋轉，帶動筒體2各層大圓盤12和小圓盤13旋轉，每層大圓盤12和小圓盤13下方沿環向均勻布置3?4根熱輻射管11，每根熱輻射管的功率可達到3飛kW，加熱溫度60(T80(TC，加熱方式均勻。物料經進料口 8后，率先導入到大圓盤12上，料層厚度2(T30mm。在下料刮料板I 3與攤料刮料板14共同作用下，物料與大圓盤12始終保持接觸，均布在大圓盤12上，使物料均勻受熱，并不斷匯入大圓盤12中心下料口處，并落入下一層小圓盤13中心，物料充分受熱均勻后在第二下料刮料板4作用下，將物料推至圓盤邊緣集料口 6處經由集料口 6落入第3層大圓盤12邊緣。大圓盤12和小圓盤13下料孔均交錯布置。物料在大圓盤12上再次均布，物料充分受熱。并自上而下依次沿每層大圓盤12和小圓盤13下料孔排出，周而復始，直至流出末層下料口，最后從出料口排出，完成整個焙燒過程。
【權利要求】
1.一種立式圓盤真空焙燒爐，主要包括筒體(2)，封頭(7)，進料口(8)，出料口( I)，抽真空口(9)，軸體(10)，大圓盤(12)，小圓盤(13)，第一下料刮料板(3)，第二下料刮料板II(4)，攤料刮料板(14)，集料口(6)，熱輻射管(11)及保溫層(5)，其特征是筒體(2)頂部設有進料口(8)和抽真空口(9)，封頭(7)和筒體(2)內襯耐火及保溫層(5)，筒體(2)內設有間隔交替水平面布置的大圓盤(12)和小圓盤(13)，大圓盤(12)和小圓盤(13)與主軸(10)焊接為一整體，在每層大圓盤(12)上設置第一下料刮料板(3)、每層小圓盤(13)上設置第二下料刮料板(4)，第一下料刮料板(3)和第二下料刮料板(4)靠自重套置在刮料桿上，且第一下料刮料板(3)與第二下料刮料(4)布置方向相反，在大圓盤(12)上的第一下料刮料板(3)呈135°布置有攤料刮料板(14)，攤料刮料板(14)與圓盤(12)間留有間隙，在每層大圓盤(12)和小圓盤(13)下方沿圓周方向均勻設置熱輻射管(11)，熱輻射管(11)與焊接在筒體(2)上的套管通過法蘭固定連接，大圓盤(12)出料口(I)布設在靠近主軸(10)的一偵||，而小圓盤(13)的集料口(6)設在靠近筒體(2)邊緣處。
【文檔編號】F27B7/34GK204115460SQ201420425836
【公開日】2015年1月21日 申請日期:2014年7月31日 優先權日:2014年7月31日
【發明者】趙旭, 令永功, 張麥奎, 竇巖, 黃帥, 洪利強, 楊巍, 楊少華, 楊國龍 申請人:天華化工機械及自動化研究設計院有限公司