一種碳化硅外延爐的清理裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種碳化硅外延爐的清理裝置，其包括一采用碳化硅材料制作的清理觸頭；一手柄，于手柄中設置有發(fā)光電路，該發(fā)光電路中至少包括兩個發(fā)光回路，每個發(fā)光回路中設置有不同顏色的發(fā)光體；所述的清理觸頭安裝在手柄上，并且二者之間連接有彈性伸縮件，于彈性伸縮件的壓縮行程范圍內(nèi)至少設置有兩個電極點，當清理觸頭受外力壓縮而觸發(fā)任意一個電極點時，發(fā)光電路中的一個發(fā)光回路導通，觸發(fā)對應回路中的發(fā)光體發(fā)光。本實用新型采用上述技術方案后，可以保證不同的操作人員在清理外延爐的時候，保持均勻的力量清除外延過程中沉積的3C-SiC，而不損傷外延爐內(nèi)表面材質(zhì)，從而保證每次清理后的潔凈度和均勻性，確保產(chǎn)品的穩(wěn)定性和可持續(xù)性。
【專利說明】一種碳化硅外延爐的清理裝置
【技術領域】：
[0001] 本實用新型專利碳化硅外延爐產(chǎn)品【技術領域】，特指一種碳化硅外延爐的清理裝 置，該清理裝置用于保障碳化硅外延爐蓋板和內(nèi)環(huán)的清理工作的一致性，減少因操作不當 導致的缺陷。
【背景技術】：
[0002] 碳化硅（SiC)作為新一代寬禁帶半導體，具有優(yōu)異的物理特性，為功率器件的制造 奠定了良好的材料基礎。常見的SiC器件主要在SiC單晶襯底上生長的SiC外延膜上進行， 因為在SiC單晶生長的過程中控制摻雜較為困難，難以達到器件制作的要求，同時離子注 入摻雜的效果也遠遜于可以精確控制摻雜濃度的外延工藝，因此SiC外延膜的制作是SiC 器件制作中重要并且必不可少的工藝程序。
[0003] SiC外延膜的制備方法主要有：升華法，液相外延法，濺射法，脈沖激光沉積，分子 束外延和化學氣相沉積等，目前商業(yè)生產(chǎn)中以化學氣相沉積最為廣泛使用。
[0004] 在SiC化學氣相外延生長過程中，外延爐頂部的蓋板和內(nèi)環(huán)等處會附著一層 3C-SiC顆粒物，并隨著SiC晶片外延生長過程不斷沉積，當?shù)竭_一定厚度后，會影響爐內(nèi)氣 場和溫場，需要對其進行清理。此外在SiC外延生長過程中，這些3C-SiC顆粒物會墜落在 晶片表面，形成墜落（Down-fall)缺陷，這些缺陷會對SiC器件產(chǎn)生致命的影響。
[0005] 目前，常見的處理辦法是，經(jīng)過一定時間的外延生長后，采用SiC材質(zhì)的物品對 其進行清理，然后涂覆一層均勻的3C SiC。但是操作人員的差異和工具的不同會導致清 理結果的差異，涂覆的3C SiC也無法防止微小顆粒物的墜落，從而隨機的在產(chǎn)品表面形成 Down-fall 缺陷。 實用新型內(nèi)容：
[0006] 本實用新型所要解決的技術問題在于克服現(xiàn)有技術的不足，提供一種碳化硅外延 爐的清理裝置，該清理裝置可以保證在不同的人員操作過程中都不會因為個體差異導致清 理的不徹底和力量過大損傷外延爐的蓋板和內(nèi)環(huán)等生長室內(nèi)表面材質(zhì)，從而保證每次清理 后的潔凈度和均勻性的方法，確保產(chǎn)品的穩(wěn)定性和可持續(xù)性。
[0007] 為了解決上述技術問題，本實用新型采用了下述技術方案：該碳化硅外延爐的清 理裝置包括：一采用碳化硅材料制作的清理觸頭；一手柄，于手柄中設置有發(fā)光電路，該發(fā) 光電路中至少包括兩個發(fā)光回路，每個發(fā)光回路中設置有不同顏色的發(fā)光體；所述的清理 觸頭安裝在手柄上，并且二者之間連接有彈性伸縮件，于彈性伸縮件的壓縮行程范圍內(nèi)至 少設置有兩個電極點，當清理觸頭受外力壓縮而觸發(fā)任意一個電極點時，發(fā)光電路中的一 個發(fā)光回路導通，觸發(fā)對應回路中的發(fā)光體發(fā)光。
[0008] 進一步而言，上述技術方案中，所述的清理觸頭固定在一連接件上，通過該連接件 活動安裝在手柄上。
[0009] 進一步而言，上述技術方案中，所述的彈性伸縮件為彈簧。所述的發(fā)光體為LED。 所述的電極點為觸發(fā)開關。
[0010] 采用上述技術方案后，本實用新型與現(xiàn)有技術相比較具有如下有益效果：
[0011] 本實用新型中的清理觸頭與手柄之間采用了彈性連接，并且在彈性伸縮件的壓縮 行程范圍內(nèi)設置兩個觸發(fā)電極點，分別觸發(fā)兩個發(fā)光回路，以控制不同顏色的發(fā)光體，彈性 伸縮件被壓縮到兩個電極點之間時，此時彈簧的彈力與清理觸頭所受到的壓力正好處于合 理的壓力范圍內(nèi)，在此壓力范圍內(nèi)，清理觸頭可以實現(xiàn)對外延爐的良好清理。同時，由于操 作人員可以根據(jù)發(fā)光體的發(fā)光所產(chǎn)生的提示調(diào)節(jié)清理力度的大小，從而保證清理力度在上 述合理的壓力范圍內(nèi)。
[0012] 本實用新型采用上述技術方案后，可以保證不同的操作人員在清理外延爐的時 候，保持均勻的力量清除外延過程中沉積的3C-SiC，而不損傷外延爐內(nèi)表面材質(zhì)，從而保證 每次清理后的潔凈度和均勻性的方法，確保產(chǎn)品的穩(wěn)定性和可持續(xù)性。同時，本實用新型中 的電路非常簡單，便于加工和生產(chǎn)。
【專利附圖】
【附圖說明】：
[0013] 圖1是本實用新型實施例一的主視圖；
[0014] 圖2是本實用新型實施例一的內(nèi)部結構示意圖；
[0015] 圖3是本實用新型實施例二的內(nèi)部結構示意圖；
[0016] 圖4是本實用新型的電路原理圖；
【具體實施方式】：
[0017] 下面結合具體實施例和附圖對本實用新型進一步說明。
[0018] 見圖1、2所示，本實施例中該碳化硅外延爐的清理裝置包括：清理觸頭1和手柄 2〇
[0019] 清理觸頭1采用高純度的SiC制作，以避免清理過程中出現(xiàn)污染。
[0020] 手柄2采用中空設計，清理觸頭1和手柄2之間通過彈簧連接，在手柄2內(nèi)還設置 有一個發(fā)光電路4,參見圖4所示。該發(fā)光電路4中至少包括兩個發(fā)光回路，每個發(fā)光回路 中設置有不同顏色的發(fā)光體41或42。
[0021] 所述的清理觸頭1安裝在手柄2上，并且二者之間連接有彈性伸縮件3,于彈性伸 縮件3的壓縮行程范圍內(nèi)設置有兩個電極點43、44,當清理觸頭1受外力而壓縮到任意一個 電極點31或32時，發(fā)光電路中的一個發(fā)光回路導通，觸發(fā)對應回路中的發(fā)光體41或42發(fā) 光。
[0022] 見圖2所示，使用本實施例時，使用者手持手柄2,利用清理觸頭1清潔外延爐，當 清理觸頭1受到壓力后，彈性伸縮件3開始壓縮，并且隨著壓力的增大壓縮越大。當壓力增 大到N1時，此時彈性伸縮件3的壓縮達到K1，正好觸發(fā)第一個電極點43,由于該電極點43 被觸發(fā)，該發(fā)光回路中的發(fā)光體41開始發(fā)光，例如發(fā)出綠色的光。如果使用者施加的力增 大，當壓力增大到N2時，此時彈性伸縮件3的壓縮達到K2,正好觸發(fā)第一個電極點44,由于 該電極點44被觸發(fā)，該發(fā)光回路中的發(fā)光體42開始發(fā)光，例如發(fā)出紅色的光。
[0023] 上述使用過程中，N1〈N2,即當清理觸頭1所受到的壓力達到N1時，綠色的發(fā)光體 41發(fā)光，當達到N2時紅色的發(fā)光體42發(fā)光，而清理觸頭1正常的工作壓力就位于N1-N2之 間，當清理力度位于該區(qū)間之內(nèi)時，才能清理外延爐沉積的3C-SiC并不損傷外延爐內(nèi)表面 材質(zhì)。由于有了發(fā)光體的提示，這樣就可以保證不同的操作人員在清理外延爐的時候，都可 以保持均勻的力量清除外延爐3C-SiC沉積而不損傷外延爐內(nèi)表面材質(zhì)，并保證每次清理 后的潔凈度和均勻性的方法，確保產(chǎn)品的穩(wěn)定性和可持續(xù)性。
[0024] 上述實施例中，彈性伸縮件3 -般可采用彈簧。所述的發(fā)光體41、42可采用LED。 電極點43、44可采用觸發(fā)開關，其連接于發(fā)光電路4中，分別控制不同發(fā)光回路的發(fā)光。
[0025] 為了便于清理觸頭1的固定，實施例一中將其固定在一連接件10上，然后再通過 該連接件10活動安裝在手柄2上。
[0026] 本實施例中設置有兩個相同彈性系數(shù)的彈性伸縮件3,并且其對稱位于產(chǎn)品的兩 偵牝以確保清理觸頭1所受的壓力均勻，確保壓力調(diào)節(jié)的準確性。但是也可采用其他方式實 現(xiàn)，見圖4所示，這是本實用新型的第二實施例，本實施例中，采用一個彈性伸縮件3,該彈 性伸縮件3位于產(chǎn)品的中心位置，即位于清理觸頭1的中心位置，其同樣可以令清理觸頭1 所受的壓力均勻。本實施例二的其他結構與上述實施例類似，這里不再贅述。
[0027] 當然，以上所述僅為本實用新型的具體實施例而已，并非來限制本實用新型實施 范圍，凡依本實用新型申請專利范圍所述構造、特征及原理所做的等效變化或修飾，均應包 括于本實用新型申請專利范圍內(nèi)。
【權利要求】
1. 一種碳化硅外延爐的清理裝置，其特征在于：該清理裝置包括： 一采用碳化硅材料制作的清理觸頭（1); 一手柄（2)，于手柄（2)中設置有發(fā)光電路（4)，該發(fā)光電路（4)中至少包括兩個發(fā)光回 路，每個發(fā)光回路中設置有不同顏色的發(fā)光體（41或42); 所述的清理觸頭（1)安裝在手柄（2)上，并且二者之間連接有彈性伸縮件（3)，于彈性 伸縮件（3)的壓縮行程范圍內(nèi)至少設置有兩個電極點（43、44)，當清理觸頭（1)受外力產(chǎn)生 壓縮觸發(fā)任意一個電極點（43或44)時，發(fā)光電路中的一個發(fā)光回路導通，觸發(fā)對應回路中 的發(fā)光體（41或42)發(fā)光。
2. 根據(jù)權利要求1所述的一種碳化硅外延爐的清理裝置，其特征在于：所述的清理觸 頭（1)固定在一連接件（10 )上，通過該連接件（10 )活動安裝在手柄（2 )上。
3. 根據(jù)權利要求1所述的一種碳化硅外延爐的清理裝置，其特征在于：所述的彈性伸 縮件（3)為彈黃。
4. 根據(jù)權利要求1所述的一種碳化硅外延爐的清理裝置，其特征在于：所述的發(fā)光體 (41、42)為 LED。
5. 根據(jù)權利要求1所述的一種碳化硅外延爐的清理裝置，其特征在于：所述的電極點 (43、44)為觸發(fā)開關。
【文檔編號】F27D25/00GK203938749SQ201420161999
【公開日】2014年11月12日 申請日期:2014年4月3日 優(yōu)先權日:2014年4月3日
【發(fā)明者】張新河, 孫國勝, 韓景瑞, 劉丹, 李錫光, 蕭黎鑫 申請人:東莞市天域半導體科技有限公司