專利名稱：雙螺旋加熱線圈盤的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種線圈盤，特別是一種雙螺旋加熱線圈盤。
背景技術：
電磁爐是一種靠電磁場加熱食物的灶具。其通過交流電通過線圈產生交變磁場，爐面上的鐵質鍋具感應到磁場，從而產生渦流，再通過特定的控制，按需要轉化出大量的熱能直接令鍋體迅速發熱，達到加熱食物的目的。傳統的電磁爐由于其線圈盤的線圈均勻繞在其上，因此其產生的磁場強度從中心到外圍均為一個強度均勻的磁場區。由于鍋具中心部位散熱大大低于鍋具外圍，因此鍋具中心部位的溫度大大高于鍋具外圍的溫度。由于受熱不均，因此電磁爐一般不適合用作煎炒食物，使電磁爐的適用范圍受到限制。中國專利文獻CN2634794于2004年8月18日公開了一種電磁爐加熱線盤，由加熱線一圈圈繞制構成， 其特征在于，加熱線盤的中間直徑部分線與線的間隙為1_-3_。所述加熱線盤可以為平面線盤，也可以為弧面線盤。據稱，其通過用線盤的繞線的疏密表達到控制磁場強度的均勻度，使整個線盤的磁場強度在不同直徑位置更均勻，但是該結構的線圈疏密程度不是完全漸變式，造成線圈繞制得不夠圓(特別是線圈較疏部分)，因而會影響其產生磁場的均勻性。因此，有必要作進一步改進。
發明內容
本發明的目的旨在提供一種設計簡單合理、使被加熱鍋具的底部受熱均勻的雙螺旋加熱線圈盤，以克服現有技術中的不足之處。按此目的設計的一種雙螺旋加熱線圈盤，包括線圈盤支架，線圈盤支架的頂部設置有漸開式的繞線槽，加熱線圈繞在其上，其結構特征是線圈盤支架內外圈之間的的繞線槽的密度變化為漸變式；加熱線圈由內加熱線圈盤和外加熱線圈盤串聯連接組成，呈雙螺旋形式繞在繞線槽內。所述線圈盤支架內外圈之間的的繞線槽的密度，從線圈盤支架的內圈到外圈，繞線槽的排列由密漸疏再變密。所述加熱線圈的內加熱線圈盤相鄰兩圈的間距，從內加熱線圈盤的內圈到外圈，間距由小到大；所述加熱線圈的外加熱線圈盤相鄰兩圈的間距，從外加熱線圈盤的內圈到外圈，間距由大到小；內加熱線圈盤的最外圈與外加熱線圈盤的最內圈串聯連接形成雙螺旋形式的加熱線圈。所述加熱線圈繞線的稀密間距方程式，所述加熱線圈的線寬的1/2定義為a，加熱線圈的半徑定義為b，加熱線圈的內孔半徑定義為C，同時對笛卡爾坐標系，輸入參數方程，根據t (從O到I)對螺旋線終點到圓心的距離r，旋轉角度theta，螺旋線旋轉的高度z ；有內加熱線圈盤的參數方程為r=a*t*t*t+c, theta=t*(n*360), z=0 ;外加熱線圈盤的參數方程為r=b_a*t*t*t, theta=t* (n*360), z=0。所述加熱線圈的圈數為8-16圈,加熱線圈相鄰兩圈之間的間距為0_8mm ;所述加熱線圈為層疊裝配的1-3層線圈盤結構。所述加熱線圈為I層線圈盤結構時，加熱線圈直接從當前圈繞到下一圈；加熱線圈為2-3層線圈盤結構時，加熱線圈在每繞完一圈，將跳繞回當前圈起始點的最下層，直到當前圈的層數與加熱線圈層數一致后繼續繞下一圈，每圈的多層加熱線圈相串聯。所述線圈盤支架的底部和繞線槽的頂部兩側均一體成型有若干個尖頭凸起。所述線圈盤支架的直徑為120-240mm。本發明通過調整線圈盤支架上繞線槽的內外圈隙，從而使加熱線圈在線圈盤支架上產生的磁場從爐灶的中央到其外圍呈均勻分布，使被加熱鍋具的鍋底受熱均勻，使電磁爐更適合用作煎炒食物。
圖I為本發明一實施例的結構示意圖；圖2為圖I的另一方向結構示意圖；圖3為一實施例中內加熱線圈盤的結構示意圖；圖4為一實施例中外加熱線圈盤的結構示意圖；圖5為一實施例中加熱線圈的結構示意圖。圖中1為線圈盤支架，2為加熱線圈，2. I為內加熱線圈盤，2. 2為外加熱線圈盤，3繞線槽，4為尖頭凸起，A為內加熱線圈盤的螺旋線終點，B為外加熱線圈盤的螺旋線終點。
具體實施例方式下面結合附圖及實施例對本發明作進一步描述。參見圖I-圖5，一種雙螺旋加熱線圈盤，包括線圈盤支架1，線圈盤支架I的頂部設置有漸開式的繞線槽3，加熱線圈2繞在其上。線圈盤支架I內外圈之間的的繞線槽3的密度，從線圈盤支架I的內圈到外圈，繞線槽3的排列由密漸疏再變密。加熱線圈2的內加熱線圈盤2. I相鄰兩圈的間距，從內加熱線圈盤2. I的內圈到外圈，間距由小到大；加熱線圈2的外加熱線圈盤2. 2相鄰兩圈的間距，從外加熱線圈盤2. 2的內圈到外圈，間距由大到小；內加熱線圈盤2. I的最外圈與外加熱線圈盤2. 2的最內圈串聯連接形成雙螺旋形式的加熱線圈2。根據需要將內加熱線圈盤2. I/外加熱線圈盤2. 2中間距無法分開的最內/外幾圈去掉。線圈盤支架I的底部和繞線槽3的頂部兩側均一體成型有若干個尖頭凸起4。置于繞線槽3頂部兩側的尖頭凸起4在通過熱處理后，變形緊壓纏繞的加熱線圈2和鐵粉芯，能更好的固定加熱線圈2和鐵粉芯，不用再加膠水固定，利于加工。加熱線圈2繞線的稀密間距方程式，加熱線圈2的線寬的1/2定義為a，加熱線圈2的半徑定義為b，加熱線圈2的內孔半徑定義為C，同時對笛卡爾坐標系，輸入參數方程，根據t (從O到I)對螺旋線終點到圓心的距離r，旋轉角度theta，螺旋線旋轉的高度z ;有內加熱線圈盤2. I的參數方程為r=a*t*t*t+c, theta=t*(n*360), z=0 ;外加熱線圈盤2. 2的參數方程為r=b_a*t*t*t, theta=t* (n*360), z=0。在本實施中，線圈盤支架I的直徑為174mm，共13圈，降低了原料成本。從內加熱線圈盤2. I到外加熱線圈盤2. 2間距由小到大再由大到小的雙螺旋形式。通過上述方程式，我們得到下列數據從內到外，第1、2圈間距最小為0-2mm，第2、3圈間距為I. 2±1. 2mm,第3、4圈間距為2. 2±2mm,第4、5圈間距為3. 3±2mm，第5、6圈間距為4. 5±2mm，第6、7圈間距最大間距為6±2mm,第7、8圈間距為6±2mm,第8、9圈間距為4. 5±2mm,第9、10圈間距為3. 3±2謹，第10、11圈間距為2. 2±2謹，第11、12圈間距為I. 2±1· 2謹，第12、13圈間距為0-2mm。加熱線圈2為I層線圈盤結構,加熱線圈2直接從當前圈繞到下一圈,相 鄰兩圈之間無交叉接觸。
權利要求
1.一種雙螺旋加熱線圈盤，包括線圈盤支架(1)，線圈盤支架的頂部設置有漸開式的繞線槽(3)，加熱線圈(2)繞在其上，其特征是線圈盤支架內外圈之間的繞線槽的密度變化為漸變式；加熱線圈由內加熱線圈盤(2. I)和外加熱線圈盤(2. 2)串聯連接組成，呈雙螺旋形式繞在繞線槽內。
2.根據權利要求I所述的雙螺旋加熱線圈盤，其特征是所述線圈盤支架(I)內外圈之間的的繞線槽(3)的密度，從線圈盤支架的內圈到外圈，繞線槽的排列由密漸疏再變密。
3.根據權利要求2所述的雙螺旋加熱線圈盤，其特征是所述加熱線圈(2)的內加熱線圈盤(2. I)相鄰兩圈的間距，從內加熱線圈盤的內圈到外圈，間距由小到大；所述加熱線圈的外加熱線圈盤(2. 2 )相鄰兩圈的間距，從外加熱線圈盤的內圈到外圈，間距由大到小；內加熱線圈盤的最外圈與外加熱線圈盤的最內圈串聯連接形成雙螺旋形式的加熱線圈。
4.根據權利要求3所述的雙螺旋加熱線圈盤，其特征是所述加熱線圈(2)繞線的稀密 間距方程式，加熱線圈的線寬的1/2定義為a，加熱線圈的半徑定義為b，加熱線圈的內孔半徑定義為c，同時對笛卡爾坐標系，輸入參數方程，根據t (從O到I)對螺旋線終點到圓心的距離r，旋轉角度theta，螺旋線旋轉的高度z ;有內加熱線圈盤(2. I)的參數方程為r=a*t*t*t+c, theta=t*(n*360), z=0 ;外加熱線圈盤(2. 2)的參數方程為r=b_a*t*t*t,theta=t*(n*360), z=0。
5.根據權利要求3所述的雙螺旋加熱線圈盤，其特征是所述加熱線圈(2)的圈數為8-16圈,加熱線圈相鄰兩圈之間的間距為0-8_ ;所述加熱線圈為層疊裝配的1-3層線圈盤結構。
6.根據權利要求5所述的雙螺旋加熱線圈盤，其特征是所述加熱線圈(2)為I層線圈盤結構時，加熱線圈直接從當前圈繞到下一圈；加熱線圈為2-3層線圈盤結構時，加熱線圈在每繞完一圈，將跳繞回當前圈起始點的最下層，直到當前圈的層數與加熱線圈層數一致后繼續繞下一圈，每圈的多層加熱線圈相串聯。
7.根據權利要求1-6任一項所述的雙螺旋加熱線圈盤，其特征是所述線圈盤支架(I)的底部和繞線槽(3 )的頂部兩側均一體成型有若干個尖頭凸起(4 )。
8.根據權利要求7所述的雙螺旋加熱線圈盤，其特征是所述線圈盤支架(I)的直徑為120_240mm。
全文摘要
一種雙螺旋加熱線圈盤，包括線圈盤支架，線圈盤支架的頂部設置有漸開式的繞線槽，加熱線圈繞在其上,其特征是線圈盤支架內外圈之間的的繞線槽的密度變化為漸變式；加熱線圈由內加熱線圈盤和外加熱線圈盤串聯連接組成，呈雙螺旋形式繞在繞線槽內。所述線圈盤支架的內外圈之間的繞線槽的密度，從線圈盤支架的內圈到外圈，繞線槽的排列由密漸疏再變密。本發明通過調整線圈盤支架上繞線槽的內外圈隙，從而使加熱線圈在線圈盤支架上產生的磁場從爐灶的中央到其外圍呈均勻分布，使被加熱鍋具的鍋底受熱均勻，使電磁爐更適合用作煎炒食物。
文檔編號F24C7/06GK102833900SQ20121035925
公開日2012年12月19日 申請日期2012年9月24日 優先權日2012年9月24日
發明者萬宇 申請人:萬宇