專利名稱：烹調(diào)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總體涉及一種烹調(diào)裝置，更具體而言，涉及一種能利用不 同流將從烹調(diào)腔出來的流排到外部的烹調(diào)裝置。
背景技術(shù)：
韓國專利申請公開No. 2005-0083504公開了一種烹調(diào)裝置的典型 實(shí)例，該烹調(diào)裝置具有設(shè)置于烹調(diào)腔一側(cè)的主要部件，這些主要部件 包括磁控管、高壓變壓器、高壓電容器以及冷卻風(fēng)扇。韓國專利申 請公開No. 2006-0037003公開了一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置具有安裝 于烹調(diào)腔上側(cè)的主要部件、并將對流加熱器組件容納于該烹調(diào)腔的后 壁，這些主要部件包括磁控管、高壓變壓器以及高壓電容器。韓國 實(shí)用新型申請公開No.l999-0010444公開了一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置 具有設(shè)置于烹調(diào)腔下側(cè)的主要部件和操作面板，這些主要部件包括 磁控管、高壓變壓器以及冷卻風(fēng)扇。
另外，韓國實(shí)用新型申請公開No. 1998-0016489公開了一種烹調(diào) 裝置，該烹調(diào)裝置具有安裝于烹調(diào)腔側(cè)壁的主要部件，并設(shè)置有從該 烹調(diào)腔的頂壁開始到其側(cè)面的冷卻流徑，這些主要部件包括磁控管、 高壓變壓器以及冷卻風(fēng)扇。
韓國專利申請公開No. 1998-0053939公開了作為烹調(diào)裝置典型實(shí) 例的微波爐的門，其中，該門設(shè)置有用于阻擋微波的門框以及環(huán)繞該 門框的阻流蓋。
韓國專利申請公開No. 1995-0003729公開了一種烹調(diào)裝置，該烹 調(diào)裝置具有從烹調(diào)腔的側(cè)面開始經(jīng)由烹調(diào)腔的底側(cè)而到達(dá)門的烹調(diào)流徑。
韓國專利申請公開No. 2004-0108050公開了烹調(diào)裝置中所使用的 操作面板的示例，其中，該操作面板設(shè)置有使用靜電的玻璃觸摸鍵盤。
發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置能通過具有 不同流徑的流將從烹調(diào)腔逸出的流排到外部。
本發(fā)明的另一目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置能利用烹調(diào) 腔的后部空間內(nèi)所形成的流來除去烹調(diào)腔內(nèi)產(chǎn)生的熱量和氣味。
本發(fā)明的又一目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置能將從烹調(diào) 腔逸出的流導(dǎo)向至烹調(diào)裝置的下部空間。
本發(fā)明的又一目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置能將流有效 地導(dǎo)向至烹調(diào)腔，并將經(jīng)過烹調(diào)腔的流有效地導(dǎo)向至烹調(diào)裝置的外部。
技術(shù)方案
為了實(shí)現(xiàn)以上目的和優(yōu)點(diǎn)，提供了一種烹調(diào)裝置，其包括烹調(diào) 腔，該烹調(diào)腔設(shè)置有第一開口和第二開口；第一流徑，該第一流徑延 伸為用于使得流進(jìn)入第一開口并從第二開口出來；以及第二流徑，該 第二流徑與從第二開口出來的流結(jié)合并將該流驅(qū)趕至外部。通過此結(jié) 構(gòu)，通過具有不同流徑的流將從烹調(diào)腔逸出的流排到烹調(diào)裝置外部是
可能的。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括位于烹調(diào)腔下方的下 部空間，且第二流徑將流導(dǎo)向至下部空間，該下部空間設(shè)置有該流的 出口。通過此構(gòu)造，通過具有不同流徑的流將從烹調(diào)腔逸出的流排到烹調(diào)裝置的下部空間是可能的。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括流導(dǎo)向件，該流導(dǎo)向 件用于將流導(dǎo)向至第一開口。通過此構(gòu)造，能將流有效地引導(dǎo)至烹調(diào) 腔內(nèi)。
在本發(fā)明的另一方面中，提供了一種烹調(diào)裝置，其包括烹調(diào)腔； 后部空間，位于烹調(diào)腔后方并產(chǎn)生流；形成于烹調(diào)腔的第一開口和第 二開口，該流進(jìn)入第一開口和第二開口；以及形成于烹調(diào)腔的第三開 口，該流從第三開口出來。通過此構(gòu)造，可利用烹調(diào)腔的后部空間內(nèi) 所形成的流來除去該烹調(diào)腔內(nèi)所產(chǎn)生的熱量和氣味。
在本發(fā)明的另一方面中，第一開口形成于烹調(diào)腔的一側(cè)，第二開 口形成于該烹調(diào)腔的上側(cè)，而第三開口形成于該烹調(diào)腔的另一側(cè)。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括磁控管，該磁控管用 于將微波提供至烹調(diào)腔，且進(jìn)入第一開口的流經(jīng)過該磁控管。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括門，該門用于打開和 關(guān)閉烹調(diào)腔，且進(jìn)入第二開口的流沿著該門在烹調(diào)腔內(nèi)運(yùn)動(dòng)。
在本發(fā)明的另一方面中，提供了一種烹調(diào)裝置，包括烹調(diào)腔； 后部空間，位于烹調(diào)腔后方；上部空間，位于烹調(diào)腔上方；側(cè)部空間， 位于烹調(diào)腔的一側(cè)；下部空間，位于烹調(diào)腔下方；出口，形成于烹調(diào) 腔的一側(cè)，且來自烹調(diào)腔的流從該出口流出；以及冷卻流徑，該冷卻 流徑從后部空間通過上部空間延伸至側(cè)部空間，后部空間內(nèi)所產(chǎn)生的 流沿著該冷卻流徑運(yùn)動(dòng)，且該冷卻流徑將從上述出口出來的流導(dǎo)向至 下部空間。
本發(fā)明的額外和/或其它方面和優(yōu)點(diǎn)將部分地在隨后的描述中闡述，并且部分地從該描述將是顯而易見的，或可以通過本發(fā)明的實(shí)踐 習(xí)得。
通過參照附圖描述本發(fā)明的某些實(shí)施例，本發(fā)明的上述方面和特
征將更明顯，在附圖中
圖l是根據(jù)本發(fā)明烹調(diào)裝置的主結(jié)構(gòu)的分解示意圖2示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明烹調(diào)裝置的后部空間的示例；
圖3和圖4示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明烹調(diào)裝置的后部空間的其
它示例；以及
圖5和圖6示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的冷卻流徑。
具體實(shí)施例方式
下文將參照附圖詳細(xì)描述本發(fā)明。
圖1是根據(jù)本發(fā)明烹調(diào)裝置的主結(jié)構(gòu)的分解示意圖，其示出了烹 調(diào)腔100、門200、位于烹調(diào)腔100上方的上部空間300、位于烹調(diào)腔 100后方的后部空間400、位于烹調(diào)腔100兩側(cè)的側(cè)部空間500、以及 位于烹調(diào)腔100下方的下部空間600。
烹調(diào)腔100為用于烹飪食物的空間，并由內(nèi)殼110限定。加熱器 120設(shè)置于烹調(diào)腔100內(nèi)部的上部處，盤子或擱物架130安置在烹調(diào)腔 100內(nèi)。內(nèi)殼110包括形成在側(cè)面上的入口(未示出)和出口 111，用于 形成氣流路徑以除去烹調(diào)腔100內(nèi)的熱量和氣味。加熱器120的示例 為護(hù)套加熱器(sheath heater)。利用盤子130代替圓形轉(zhuǎn)盤會使得烹調(diào) 腔100的寬度和長度(深度)發(fā)生改變，該烹調(diào)腔的更改受到轉(zhuǎn)盤的限制。 烹調(diào)腔100的一側(cè)設(shè)置有用于引導(dǎo)盤子130的導(dǎo)向件140。另外，烹調(diào) 腔100的前側(cè)和后側(cè)分別設(shè)置有前框架150和后框架160。前框架150 具有用于在上部空間300和門200之間形成流徑的開口 151。后框架 160也具有形成于上側(cè)、用于與后部空間400連通的開口 161。門200的下部被鉸接至烹調(diào)腔100，使得門200能打開和關(guān)閉烹 調(diào)腔100。門200形成為覆蓋烹調(diào)腔100和上部空間300。門200由把 手210、前板220、輸入感測單元230、門板240、控制面板250、中板 260、支架270、門框280以及阻流蓋290組成。
把手210為用戶打開或關(guān)閉門200所使用的部分，并能由螺釘(未 示出)固定至前板220。合乎需要地，把手210具有至少一個(gè)通道(未 示出)，該通道以與外部連通的方式沿把手210的縱向而形成于其內(nèi) 部，從而減小總重量，也能最小化在烹飪期間從烹調(diào)腔100傳遞到用 戶的熱量。
前板220理想地由透明玻璃制成，該透明玻璃使得用戶能看到烹 調(diào)腔100的內(nèi)部，包括按鈕的顯示單元(未示出)可附接或涂布到該 前板220上的，這些按鈕用于用戶選擇烹調(diào)程序，或用于指示烹調(diào)裝 置的運(yùn)行狀態(tài)。
輸入感測單元230為識別用戶選擇了哪個(gè)按鈕的部分。輸入感測 單元230在位于由玻璃制成的前板220后方的情況下能由玻璃觸摸單 元組成，并能被用作靜電傳感器?？墒褂媚z帶將玻璃觸摸單元附接至 前板220。輸入感測單元230位于門200的面向烹調(diào)腔100的上部空間 300的上部區(qū)域，且此結(jié)構(gòu)確保更寬敞的烹調(diào)腔，并協(xié)助用戶無障礙地 容易看到烹調(diào)腔IOO的內(nèi)部。
門板240為固定門200的其它部件220、 250等的部分，并具有用 于用戶查看烹調(diào)腔100內(nèi)部的開口 241。此外，門板240在其下側(cè)具有 出口 (未示出)，沿著經(jīng)由上部空間300從冷卻風(fēng)扇420 (將對其進(jìn)行 描述)延伸至門200的冷卻流徑運(yùn)動(dòng)的流經(jīng)由該出口被排出。
控制面板250為用于根據(jù)用戶輸入來控制烹調(diào)裝置的總體操作的部分。為此，控制面板250與輸入感測單元230和中繼襯底(relay substrate)350 (將對其進(jìn)行描述)進(jìn)行協(xié)作，并從輸入感測單元230的 后側(cè)固定到門板240。合乎需要地，控制面板250設(shè)置有諸如LED (發(fā) 光二極管)之類的發(fā)光源，并將從該發(fā)光源發(fā)出的光照射到顯示單元(未 示出)。
中板260為被固定到門板240的部分，同時(shí)分別從前板220和門 框280間隔開。中板260的主要功能為阻擋熱量從烹調(diào)腔100傳遞到 前框架220和把手210。合乎需要地，中板260安裝于門板240處，使 得從冷卻風(fēng)扇420 (將對其進(jìn)行描述)產(chǎn)生的流經(jīng)由后部空間400和上 部空間300進(jìn)入門200，隨后由支架270 (將對其進(jìn)行描述)引導(dǎo)下在 中板260和前板220之間運(yùn)動(dòng)。上述流通過門板240的出口 (未示出) 排出。
支架270從控制面板250的后側(cè)固定至門板240。支架270用于 保護(hù)各自包括電子部件的輸入感測單元230和控制面板250，以使它們 免受來自烹調(diào)腔100的熱量和微波、以及由冷卻風(fēng)扇420吹送的流的 破壞，并引導(dǎo)流而使得流在門板240和前板220之間運(yùn)動(dòng)。
門框280容納于門板240內(nèi)，并被用以阻擋微波泄漏到烹調(diào)裝置外部。
阻流蓋290為用于朝著烹調(diào)腔100定位的門200的蓋子，并具有 形成在其上側(cè)、與前框架150的開口 151相應(yīng)的開口 291。開口 291優(yōu) 選地由微孔組成，從而在門200被打開的同時(shí)防止食物或雜質(zhì)進(jìn)入門 200。
上部空間300為位于烹調(diào)腔100的上方由外殼310限定的空間， 并包括加熱器320、導(dǎo)波器330、絕緣上板340以及中繼襯底350?？?選地，也可設(shè)置用于照亮烹調(diào)腔100的燈(未示出)。外殼310具有以一間距包圍烹調(diào)腔100的頂側(cè)和兩側(cè)的形狀，并 被連接至前框架150和后框架160。根據(jù)需要，外殼310可具有出口 311，從而已運(yùn)動(dòng)到烹調(diào)腔100周圍和安裝于烹調(diào)裝置內(nèi)的加熱元件周 圍的流可被排到外部。
加熱器320的示例為鹵素加熱器。由于上述加熱器320會受微波 的影響，因此，與由護(hù)套加熱器形成的加熱器120不同，將加熱器320 安裝于內(nèi)殼110的上側(cè)，從而將熱量從上向下供應(yīng)至烹調(diào)腔100內(nèi)。
導(dǎo)波器330從后部空間400延伸至上部空間300，并被用以將從 磁控管(未示出)產(chǎn)生的微波供應(yīng)至烹調(diào)腔100。為達(dá)到此目的，烹調(diào) 腔100的上表面處設(shè)置有端口 331 (參見圖2)。
絕緣頂板340防止由容納在內(nèi)殼110中的加熱器120所產(chǎn)生的熱 量傳遞到上部空間300，并具有覆蓋除加熱器320和導(dǎo)波器330之外的 烹調(diào)腔IOO上部的形狀。
中繼襯底350從上部空間300的一側(cè)安裝在絕緣上板340上，并 與控制面板250互相配合以運(yùn)行安置于后部空間400的包括磁控管(將 對其進(jìn)行描述)的部件。
圖2示意性示出了根據(jù)本發(fā)明烹調(diào)裝置的后部空間的示例。參照 圖1和圖2，后部空間400為在烹調(diào)腔100的后方由蓋子410限定的空 間，并包括共同組成烹調(diào)裝置的部件室的冷卻風(fēng)扇420、對流加熱器組 件430、以及諸如磁控管440、高壓變壓器450和高壓電容器460之類
的加熱元件。
蓋子410被連接至后框架160或外殼310，以覆蓋上部空間300 和后部空間400，且蓋子410的下部被連接至底座610。蓋子410或底
10座610的下部處設(shè)置有用于空氣進(jìn)入冷卻風(fēng)扇420的入口 411。
冷卻風(fēng)扇420沿著后部空間400的寬度方向定位于后部空間400 的下部，并包括兩側(cè)上用以冷卻安裝于上側(cè)的部件的流產(chǎn)生單元421 和422。由于后部空間400、上部空間300和門200以連通的方式被裝 入，因此，能通過冷卻風(fēng)扇420冷卻烹調(diào)裝置的整個(gè)區(qū)域。另外，冷 卻風(fēng)扇420設(shè)置有分隔壁423，該分隔壁用于防止由冷卻風(fēng)扇420所產(chǎn) 生的流回流至冷卻風(fēng)扇420。分隔壁423具有以使得流流向后部空間 400上部的方式形成在兩側(cè)的開口 424和425。流產(chǎn)生單元421和422 之間的空間426處設(shè)置有馬達(dá)(未示出)，該馬達(dá)用于驅(qū)動(dòng)流產(chǎn)生單元 421和422。
圖3和圖4示意性示出了根據(jù)本發(fā)明烹調(diào)裝置的后部空間的其它 應(yīng)用示例。參照圖1-4，除了圖2所示的結(jié)構(gòu)，后部空間還設(shè)置有用于 將氣流導(dǎo)向磁控管440的流導(dǎo)向件441、以及用于將從磁控管440出來 的氣流引導(dǎo)至入口 112的流導(dǎo)向件442，該入口 112形成在烹調(diào)腔100 的側(cè)面上。此結(jié)構(gòu)，尤其是流導(dǎo)向件442，使得穩(wěn)定并高效地將由冷卻 風(fēng)扇420所產(chǎn)生的氣流導(dǎo)入烹調(diào)腔100、并有效冷卻作為其中一個(gè)核心 部件的磁控管成為可能。
對流加熱器組件430包括風(fēng)扇431、加熱器432、內(nèi)加熱器蓋433、 外加熱器蓋434以及馬達(dá)435。合乎需要地，將絕熱材料(未示出)安置 在內(nèi)加熱器蓋433和外加熱器蓋434之間。上述對流加熱器組件430 必須具有馬達(dá)435。由于馬達(dá)435從后部空間400向后突出地安裝，因 此后部空間400必須具有足夠深以至少容納馬達(dá)435的腔室?；趯?此空間的關(guān)注，可將烹調(diào)裝置的運(yùn)行過程中所使用的主要部件中的大 體積部件440、 450和/或460安置在后部空間400內(nèi)。這樣，即使損失 了烹調(diào)腔100在縱向上的部分，烹調(diào)腔100也能在側(cè)向和垂直方向上 擴(kuò)展。此外，利用盤子代替轉(zhuǎn)盤，根據(jù)本發(fā)明的烹調(diào)裝置能改變烹調(diào) 腔100的高度、寬度和深度。而且，通過將冷卻風(fēng)扇420安置于后部空間400的下部，根據(jù)本發(fā)明的烹調(diào)裝置能利用后部空間400，而且還 能冷卻加熱元件440、 450和/或460。并且，通過將冷卻風(fēng)扇420設(shè)置 于后部空間400的下部，并使得后部空間400、上部空間300、門200、 烹調(diào)腔100以及側(cè)部空間500彼此連通，根據(jù)本發(fā)明的烹調(diào)裝置的整 個(gè)部分能被冷卻風(fēng)扇420有效地冷卻。另外，由于冷卻風(fēng)扇420沿著 后部空間400的寬度方向安裝，因此設(shè)置在后部空間400內(nèi)的諸如對 流加熱器組件430、磁控管440、高壓變壓器450和高壓電容器460之 類的加熱元件能被有效冷卻，且流能運(yùn)動(dòng)至上部空間300、側(cè)部空間 500和烹調(diào)腔100，并通過形成在烹調(diào)腔100下部處的底座上的出口 611 排出。周樣，通過設(shè)置分隔壁423和開口 424、 425，根據(jù)本發(fā)明的烹 調(diào)裝置能形成流徑和流，并有效地和選擇性地冷卻加熱元件。此外， 后框架160還可包括用于與側(cè)部空間500連通的開口 162。開口 162使 得從后部空間400至側(cè)部空間500的直接氣流成為可能，并產(chǎn)生至后 部空間400兩側(cè)的氣流，借此促進(jìn)冷卻處理并將氣流推動(dòng)至后部空間 400的兩側(cè)。
磁控管440、高壓變壓器450以及高壓電容器460為用于烹調(diào)裝 置的運(yùn)行的主要部件，它們各自產(chǎn)生大量熱量。磁控管440安置在開 口 424的上方，而高壓變壓器450和高壓電容器460安置在開口 425 的上方?？筛淖冞@些加熱元件的布置。
側(cè)部空間500為在烹調(diào)腔100兩側(cè)由外殼310限定的空間，且側(cè) 部空間500合乎需要地與上部空間300、后部空間400以及下部空間 600連通，并通過入口 112和出口 111與烹調(diào)腔100連通。從冷卻風(fēng)扇 420產(chǎn)生的流從后部空間400、上部空間300、烹調(diào)腔100、側(cè)部空間 500運(yùn)動(dòng)并最終到達(dá)下部空間600。此時(shí)，在上部空間300內(nèi)運(yùn)動(dòng)并朝 向側(cè)部空間500的流能將通過出口 111從烹調(diào)腔100出來的流導(dǎo)向至 下部空間600。
下部空間600為烹調(diào)腔IOO下方由底座610限定的空間。底座610被連接至前框架150和后框架160以支承烹調(diào)裝置，底座610包括出 口 611，從而將來源于冷卻風(fēng)扇420的流、以及烹調(diào)腔100內(nèi)產(chǎn)生的氣 味和熱量排出。盡管下部空間600由后框架160從后側(cè)限定，但還是 將底座610連接至后框架160上方的蓋子410。因此，底座610還可用 作限制后部空間400的下部的構(gòu)件。出口 611的位置并不特限于此， 因此，出口611可位于出口 111的側(cè)面上，或優(yōu)選地位于底座610的 中心，以形成足夠長的流徑。由于熱空氣流通過出口 611排出，因此 不應(yīng)將烹調(diào)裝置安置在熱敏廚房用具上。為了防止上述廚房用具受到 過熱空氣的破壞，可以一定距離將板(未示出)連接至底座610，以便在 橫向上排出熱量。
圖5和圖6示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的冷卻流徑。如附圖所示， 由后部空間400產(chǎn)生的流經(jīng)由上部空間300運(yùn)動(dòng)至形成在烹調(diào)腔100 的兩側(cè)的側(cè)部空間500，而流的一部分從開口 151流出，并流向門200。 同時(shí)，流的另一部分可通過形成在后框架160中的開口 162而流向側(cè) 部空間。到達(dá)上部空間400的流冷卻加熱器320和中繼襯底350。合乎 需要地，沿著流的方向?qū)⒅欣^襯底350設(shè)置到絕緣上板340，從而最小 化對流的阻礙。經(jīng)過側(cè)部空間500的流流向下部空間600，并通過形成 于底座610中心的出口 611(參看圖l)排出。盡管對出口 610的位置沒 有特殊限制，但優(yōu)選地將出口 610定位在底座610的中心周圍，這是 因?yàn)殡S著流盡可能長時(shí)間地在烹調(diào)裝置內(nèi)部運(yùn)動(dòng)或循環(huán)，會進(jìn)行足量 的熱交換。此時(shí)，為了保護(hù)安置烹調(diào)裝置的底表面，可以以一定距離 將保護(hù)板612連接至底座610，以便可在橫向上排出流。另外，經(jīng)過側(cè) 部空間500的流將通過烹調(diào)腔100的出口 111排出的流導(dǎo)向至下部空 間600。同時(shí)，經(jīng)過阻流蓋290的開口 291的氣流由支架270引導(dǎo)下在 前板220和中板260之間運(yùn)動(dòng)，并通過形成在門板240的底表面中的 出口 242排出。因而，由支架270覆蓋的輸入感測單元230 (參見圖1) 和控制面板250 (參見圖l)能免受熱量和氣流的損害，中板260的一側(cè) 通過氣流來阻擋熱量(盡管氣流被支架270阻擋，但該氣流還是可用 于阻擋熱量傳遞至輸入感測單元230和控制面板240。)，而中板260
13的另一側(cè)通過停滯空氣層來阻擋熱量。結(jié)果，由烹調(diào)腔100產(chǎn)生的熱
量被阻擋，且不會被傳遞至門200外或傳遞至把手210 (參見圖1)。
如到現(xiàn)在為止所說明的，本發(fā)明的烹調(diào)裝置能通過具有不同流動(dòng) 路徑的流將從烹調(diào)腔逸出的流排到外部。
并且，本發(fā)明的烹調(diào)裝置能利用烹調(diào)腔的后部空間內(nèi)所形成的流 來除去烹調(diào)腔內(nèi)所產(chǎn)生的熱量和氣味。
此外，本發(fā)明的烹調(diào)裝置能將從烹調(diào)腔逸出的流導(dǎo)向至該烹調(diào)裝 置的下部空間。 .
另外，本發(fā)明的烹調(diào)裝置能將流有效地導(dǎo)向至烹調(diào)腔，并將經(jīng)過 烹調(diào)腔的流有效地導(dǎo)向至烹調(diào)裝置的外部。
盡管已經(jīng)描述的本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，但本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員 將了解到本發(fā)明應(yīng)當(dāng)不限于所描述的優(yōu)選實(shí)施例，而且在由所附權(quán)利
要求所限定的本發(fā)明精神和范圍內(nèi)可作各種變更和改型。
權(quán)利要求
1. 一種烹調(diào)裝置，包括烹調(diào)腔，所述烹調(diào)腔設(shè)置有第一開口和第二開口；第一流徑，所述第一流徑延伸為使流進(jìn)入所述第一開口并從所述第二開口出來；以及第二流徑，所述第二流徑與從所述第二開口出來的所述流結(jié)合并將所述流驅(qū)趕至外部。
2. 如權(quán)利要求1所述的烹調(diào)裝置，還包括 位于所述烹調(diào)腔下方的下部空間；以及其中所述第二流徑將所述流導(dǎo)向至所述下部空間，且所述下部空 間設(shè)置有所述流的出口。
3. 如權(quán)利要求l所述的烹調(diào)裝置，還包括流導(dǎo)向件，所述流導(dǎo)向件用于將所述流導(dǎo)向至所述第一開口。
4. 一種烹調(diào)裝置，包括 烹調(diào)腔；后部空間，所述后部空間位于所述烹調(diào)腔后方并產(chǎn)生流； 形成于所述烹調(diào)腔的第一開口和第二開口，所述流進(jìn)入所述第一 開口和所述第二開口；以及形成于所述烹調(diào)腔的第三開口，所述流從所述第三開口出來。
5. 如權(quán)利要求4所述的烹調(diào)裝置，其中所述第一開口形成于所述烹調(diào)腔的一側(cè)，所述第二開口形成于所述烹調(diào)腔的上側(cè)，所述第三開 口形成于所述烹調(diào)腔的另 一側(cè)。
6. 如權(quán)利要求4所述的烹調(diào)裝置，還包括 磁控管，所述磁控管將微波提供至所述烹調(diào)腔；以及其中，進(jìn)入所述第一開口的流經(jīng)過所述磁控管。
7.如權(quán)利要求4所述的烹調(diào)裝置，還包括 用于打開和關(guān)閉所述烹調(diào)腔的門；以及其中，進(jìn)入所述第二開口的流沿著所述門在所述烹調(diào)腔內(nèi)運(yùn)動(dòng)。
8. —種烹調(diào)裝置，包括 烹調(diào)腔；位于所述烹調(diào)腔后方的后部空間； 位于所述烹調(diào)腔上方的上部空間； 位于所述烹調(diào)腔的 一 側(cè)的側(cè)部空間； 位于所述烹調(diào)腔下方的下部空間；形成于所述烹調(diào)腔的所述一側(cè)的出口，來自所述烹調(diào)腔的流從所 述出口出來；以及冷卻流徑，所述冷卻流徑從所述后部空間穿過所述上部空間延伸 至所述側(cè)部空間，所述后部空間內(nèi)產(chǎn)生的流沿著所述冷卻流徑運(yùn)動(dòng)， 且所述冷卻流徑將從所述出口出來的所述流導(dǎo)向至所述下部空間。
全文摘要
為了提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置能通過具有不同流徑的流將從烹調(diào)腔逸出的流排到外部，本發(fā)明公開了一種烹調(diào)裝置，其包括烹調(diào)腔，設(shè)置有第一開口和第二開口；第一流徑，第一流徑延伸為用于使得流進(jìn)入第一開口并從第二開口出來；以及第二流徑，第二流徑與從第二開口出來的流結(jié)合并將所述流驅(qū)趕至外部。通過此結(jié)構(gòu)，通過具有不同流徑的流將從烹調(diào)腔逸出的流排到烹調(diào)裝置外部是可能的。
文檔編號F24C7/08GK101512234SQ200680055820
公開日2009年8月19日 申請日期2006年12月7日 優(yōu)先權(quán)日2006年9月12日
發(fā)明者李英敏, 黃根在 申請人:Lg電子株式會社