用于處理面狀的材料、尤其用于使薄膜或板光滑的軋制裝置、光滑裝置和用于制造面狀的 ...的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于處理面狀的材料、尤其用于使薄膜(F*)或板光滑的軋制裝置，其包括第一軋制單元(1)和第二軋制單元(2)，其中，每個軋制單元(1,2)包括：-帶有馬達轉(zhuǎn)動慣量JM的至少一個驅(qū)動馬達，-帶有軋輥轉(zhuǎn)動慣量JW的軋輥(10,20)以及-至少一個傳動裝置，其用于以在該至少一個驅(qū)動馬達與軋輥(10,20)之間的傳動比iMW將軋輥(10,20)運動學地聯(lián)結(jié)到該至少一個驅(qū)動馬達處，其中，第二軋制單元(2)的軋輥(20)可反向于第一軋制單元(1)的軋輥(10)旋轉(zhuǎn)，并且其中，在第一軋制單元(1)的軋輥(10)與第二軋制單元(2)的軋輥(20)之間形成第一輥隙(40)，面狀的材料被引導通過輥隙(40)。根據(jù)本發(fā)明，軋制裝置特征在于，在第一和第二軋制單元(1,2)中的至少一個中，在該至少一個驅(qū)動馬達與軋輥(10,20)之間的轉(zhuǎn)動慣量-轉(zhuǎn)速比MMW≤6并且選擇傳動比1＜iMW≤40，其中，適用：(公式I)，其中nM-驅(qū)動馬達的轉(zhuǎn)速而nW軋輥(10,20)的轉(zhuǎn)速。此外，本發(fā)明涉及一種用于使薄膜或板光滑的光滑裝置以及一種用于制造面狀的材料、尤其薄膜或板的方法。
【專利說明】用于處理面狀的材料、尤其用于使薄膜或板光滑的軋制裝
置、光滑裝置和用于制造面狀的材料、尤其薄膜或板的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種用于處理面狀的材料、尤其用于使薄膜或板光滑的軋制裝置，其包括第一軋制單元和第二軋制單元，其中，每個軋制單元包括帶有馬達轉(zhuǎn)動慣量的至少一個驅(qū)動馬達、帶有軋輥轉(zhuǎn)動慣量Λ的軋輥和至少一個傳動裝置，其用于以在該至少一個驅(qū)動馬達與軋輥之間的傳動比將軋輥運動學地聯(lián)結(jié)到該至少一個驅(qū)動馬達處，其中，第二軋制單元的軋輥可反向于第一軋制單元的軋輥旋轉(zhuǎn)，并且其中，在第一軋制單元的軋輥與第二軋制單元的軋輥之間形成第一輥隙，面狀的材料被引導通過該輥隙。此外，本發(fā)明涉及一種用于制造面狀的材料、尤其薄膜或板的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]通過在光滑機構(gòu)(Gljittwerk)中在使用調(diào)溫的平滑棍(Glaettwalze)的情況下擠壓和接著使擠出的熔融膜(Schmelzefilm)光滑例如由聚碳酸酯制造高品質(zhì)的塑料薄膜多年來是工業(yè)標準。尤其在帶有發(fā)光的表面的高品質(zhì)的薄膜中，薄膜表面的周期性的缺陷使所謂的振痕(Rattermark)(其尤其在帶有例如300-3000 μ m厚度的較厚的薄膜中出現(xiàn))負面地可注意到并且損害其視覺品質(zhì)印象。根據(jù)設備結(jié)構(gòu)和運行方式，這些缺陷的表現(xiàn)(Auspdgung)不同。這些缺陷的原因是在光滑機構(gòu)中的處理期間在剝離和砑光表現(xiàn)(Prageverhalten)中的不均勻性,其可追溯到在光滑機構(gòu)中所使用的軋制單元的不充分的同步(Gleichlauf)。
[0003]在文件WO 2006/098939 Al中說明了一種軋輥對軋輥微復制裝置(Walze-zu_WaIze-Mikroreplikationsvorrichtung),在其中以液態(tài)材料在兩側(cè)涂覆幅狀的材料,液態(tài)材料在幅狀的材料上硬化。微復制裝置包括帶有第一直徑的第一成型軋輥、帶有第二直徑的第二成型軋輥和驅(qū)動組件，其為了使第一成型軋輥和第二成型軋輥旋轉(zhuǎn)構(gòu)造成使得第一和第二軋棍保持在100微米內(nèi)的連續(xù)配準(Registrierung),其中，第二直徑比第一直徑大0.01 M 1%。
[0004]在文件US 6，250, 904 BI中說明一種用于產(chǎn)生薄膜幅(Folienbahn)的擠出裝置，在其中應減少在所生產(chǎn)的薄膜幅的表面上出現(xiàn)的缺陷、如波紋或振痕。這應通過用于牽引的軋輥的圓周速度的調(diào)節(jié)系統(tǒng)來實現(xiàn)，利用該調(diào)節(jié)系統(tǒng)速度波動可減小。
[0005]文件EP O 828 599 Al涉及一種用于例如由聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯或聚氯乙烯制造無定形的、著色的板的方法。根據(jù)該方法，首先將可晶化的熱塑性塑料與顏料(Farbmittel) 一起在擠出機(Extruder)中熔融,接著通過噴嘴使熔融物成形并且在板被帶到應有尺寸之前另外在光滑機構(gòu)中利用至少兩個軋輥來校正、光滑和冷卻，其中，光滑機構(gòu)的第一軋輥具有在50°C至80°C的范圍中的溫度。為了避免在板的表面上的缺陷和厚度波動，強調(diào)抽出的速度應與所使用的砑光軋輥(Kalanderwalze)的速度精確地協(xié)調(diào)。
[0006]在文件DE 4343 864 Al中說明了一種用于在使由熱塑性的塑料構(gòu)成的板形的擠出物光滑時避免振痕的方法。詳細地，該方法設置應用具有光滑機構(gòu)軋輥對(Glartwerkswalzenpaar)的至少一個光滑機構(gòu),其中，光滑機構(gòu)裝備有帶有齒輪傳動裝置的光滑機構(gòu)驅(qū)動器以及電磁的驅(qū)動調(diào)節(jié)器(Antriebsregler)并且齒輪傳動裝置的輸出(Abtrieb)在平滑輥對的平滑輥中的至少一個上工作。根據(jù)該方法來測量齒輪傳動裝置的與驅(qū)動器的旋轉(zhuǎn)疊加的齒頻率(Zahnfrequenz)，借助于頻率發(fā)生器來產(chǎn)生盡可能接近齒頻率中的一個的混入頻率(Aufschaltfrequenz),并且最后對于驅(qū)動調(diào)節(jié)器接上混入頻率。
[0007]在文件EP I 340 608 Al中提出在光滑裝置中使平滑輥的驅(qū)動馬達設有彼此同軸地布置的轉(zhuǎn)子和定子而在沒有傳動裝置的中間連接的情況下、也就是說以傳動比ii=l聯(lián)接到平滑輥的驅(qū)動軸處。然而在實踐中證實，這樣的設備設計不足以可靠地避免在高品質(zhì)的薄膜表面上的振痕。此外不提供以這樣的轉(zhuǎn)速和力矩范圍運行的馬達。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0008]本發(fā)明的目的因此在于說明一種開頭所提及的類型的用于處理面狀的材料、尤其用于使薄膜或板光滑的軋制裝置，其避免上面所提及的缺點并且在處理面狀的材料時保證塑料薄膜的最佳的表面特性、尤其最佳的光滑性和光澤。
[0009]該目的根據(jù)本發(fā)明利用根據(jù)權(quán)利要求1的前序部分的軋制裝置由此來實現(xiàn)，即在第一和第二軋制單元中的至少一個中在驅(qū)動馬達與軋輥之間的轉(zhuǎn)動慣量-轉(zhuǎn)速比#胃< 6并且選擇傳動比I < 40,
其中，適用:.
【權(quán)利要求】
1.一種用于處理面狀的材料(F)、尤其用于使薄膜(F*)或板光滑的軋制裝置，其包括第一軋制單元(I)和第二軋制單元(2)，其中，每個軋制單元(1，2)包括: -帶有馬達轉(zhuǎn)動慣量/#的至少一個驅(qū)動馬達， -帶有軋輥轉(zhuǎn)動慣量人的軋輥(10，20)，以及 -至少一個傳動裝置，其用于以在至少一個所述驅(qū)動馬達與所述軋輥(10，20)之間的傳動比將所述軋輥(10，20)運動學地聯(lián)結(jié)到至少一個所述驅(qū)動馬達處， 其中，所述第二軋制單元(2)的軋輥(20)能夠反向于所述第一軋制單元(I)的軋輥(10)旋轉(zhuǎn)，并且其中，在所述第一軋制單元(I)的軋輥(10)與所述第二軋制單元(2)的軋輥(20)之間形成第一輥隙(40)，面狀的所述材料(F)被引導通過所述輥隙(40)， 其特征在于， 在第一和第二軋制單元(1，2)中的至少一個中，在至少一個所述驅(qū)動馬達與所述軋輥(10，20)之間的轉(zhuǎn)動慣量-轉(zhuǎn)速比≤6并且選擇傳動比I < 40， 其中，適用:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的軋制裝置，其特征在于，作為傳動比選擇5< 40、特別地10 ( Imw ( 40且特別優(yōu)選地20 ( Imw ( 40。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的軋制裝置，其特征在于，在第一和第二軋制單元(1，2)中在至少一個所述驅(qū)動馬達與所述軋輥(10，20)之間的轉(zhuǎn)速比6并且選擇傳動比I〈1MW <40。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的軋制裝置，其特征在于，第一和第二軋制單元(I, 2)中的至少一個的至少一個驅(qū)動馬達被轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的軋制裝置，其特征在于，第一和第二軋制單元(I, 2)中的至少一個的至少一個驅(qū)動馬達是帶有頻率變換的三相交流電動機。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的軋制裝置，其特征在于，第一和第二軋制單元(1，2)中的至少一個的至少一個驅(qū)動馬達是同步馬達。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的軋制裝置，其特征在于，所述同步馬達構(gòu)造成四極、尤其10極。
8.根據(jù)權(quán)利要求5至7中任一項所述的軋制裝置，其特征在于，第一和第二軋制單元(I, 2)中的至少一個的至少一個驅(qū)動馬達包括用于平衡定位力矩的補償單元。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項所述的軋制裝置，其特征在于，第一和第二軋制單元(I, 2)中的至少一個的至少一個驅(qū)動馬達和/或第一和第二軋制單元(1，2)中的至少一個的軋輥通過剛性的聯(lián)結(jié)器聯(lián)結(jié)到至少一個所述傳動裝置處。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的軋制裝置，其特征在于，第一和第二軋制單元(I, 2)中的至少一個的至少一個傳動裝置構(gòu)造為行星傳動裝置、尤其為非無隙的行星傳動 裝直。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項所述的軋制裝置，其特征在于，所述軋制裝置包括用于控制所述第一軋制單元(I)的至少一個驅(qū)動馬達和所述第二軋制單元(2)的至少一個驅(qū)動馬達的控制單元，其中，所述控制單元構(gòu)造成使得所述第一軋制單元(I)的軋輥(10)和所述第二軋制單元(2)的軋輥(20)的力矩和/或圓周速度分別被調(diào)節(jié)成使得軋輥(10，20)分別借助于被引導通過所述輥隙(40)的面狀的所述材料(F)聯(lián)結(jié)到相應另一軋輥(20，10)處。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項所述的軋制裝置，其特征在于，所述軋制裝置包括第三軋制單元(3)，其中，在所述第一軋制單元(I)的軋輥(10)與所述第三軋制單元(3)的軋輥(30)之間形成第二輥隙(50)，面狀的所述材料(F)在離開所述第一輥隙(40)之后被繼續(xù)引導通過所述第二輥隙(50)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的軋制裝置，其特征在于，所述第一軋制單元(I)的軋輥(10)、所述第二軋制單元(2)的軋輥(20)和所述第三軋制單元(3)的軋輥(30)的相應的軸線大致布置在一平面中，其中，面狀的所述材料(F)在離開所述第一輥隙(40)之后在所述第一軋制單元(I)的軋輥(10)的周緣面處被引導至所述第二輥隙(50)。
14.一種用于使薄膜或板光滑的光滑裝置，其帶有根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項所述的軋制裝置。
15.一種用于制造面狀的材料、尤其薄膜或板的方法，其帶有以下步驟: -尤其通過擠壓產(chǎn)生面狀的所述材料(F)的熔融膜， -在帶有軋輥轉(zhuǎn)動慣量的第一軋制單元(I)的軋輥(10)與帶有軋輥轉(zhuǎn)動慣量的第二軋制單元(2)的軋輥(20)之間的第一輥隙(40)中使所述熔融膜光滑， 其中，所述第一軋制單元(I)的軋輥(10)和所述第二軋制單元(2)的軋輥(20)分別通過至少一個傳動裝置聯(lián)結(jié)到帶有馬達轉(zhuǎn)動慣量的至少一個驅(qū)動馬達處， 其特征在于， 在至少一個軋制單元(1，2)的軋輥(10，20)中，在驅(qū)動馬達與軋輥之間的轉(zhuǎn)動慣量-轉(zhuǎn)速比為≤6而傳動比為I <1冊<40, 其中，適用
【文檔編號】B29C47/88GK103857510SQ201280051405
【公開日】2014年6月11日 申請日期:2012年10月16日 優(yōu)先權(quán)日:2011年10月19日
【發(fā)明者】J.弗萊克, A.保盧斯, J.尼克爾, A.魏施特羅費爾 申請人:拜耳知識產(chǎn)權(quán)有限責任公司