專利名稱：硅膠花灑模具排氣模具的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種硅膠花灑模具排氣模具。
背景技術：
現有通過模具成型產品的方法一般包括以下步驟1.上模與下模合模開始抽真空；2.抽完真空后直接射料成型產品。然而，抽真空度不能100%將空氣排凈，仍有少量空氣殘留在模具型腔內。因為液體硅膠材料流動性好，排氣要求非常高，型腔內留空氣極易造成缺料，氣泡等排氣不良。
發明內容本實用新型要解決的技術問題是提供一種精度高，不會產生飛邊，不會產生氣泡和缺料的硅膠花灑模具排氣模具。本實用新型是通過以下技術方案來實現的本實用新型的一種針閥式冷流道模具，包括上模，及與上模配合的下模，及設置在下模下方的鑲針板；所述上模設置有上模鑲針，所述下模設置有下模鑲針，所述下模鑲針設置在鑲針板上，所述下模鑲針設置為斜線結構，下模鑲針與下模是斜度精密配合。本實用新型的硅膠花灑模具排氣模具，由于所述下模鑲針與下模是斜度精密配合，型腔排氣干凈，下模鑲針回位準確，相對現有技術來說，產品成型精度高，無飛邊，有效解決了因液體硅膠流動性太好，排氣暢所造成的氣泡，缺料不良，同時模具的使用壽命長。
為了易于說明，本實用新型由下述的較佳實施例及附圖作以詳細描述。圖1為本實用新型硅膠花灑模具排氣模具的示意圖。
具體實施方式
如圖1所示，本實用新型的一種硅膠花灑模具排氣模具，通過模具對產品進行注膠成型，所述模具包括上模1與下模2，所述上模1設置有上模鑲針10，所述下模2設置有下模鑲針20，所述下模鑲針20設置在一鑲針板3上，所述下模鑲針20與下模2是斜度精密配合；型腔排氣干凈，下模鑲針回位準確，相對現有技術來說，產品成型精度高，無飛邊， 有效解決了因液體硅膠流動性太好，排氣暢所造成的氣泡，缺料不良，同時模具的使用壽命長。本實用新型的硅膠花灑模具排氣模具，由于所述下模鑲針與下模是斜度精密配合，型腔排氣干凈，下模鑲針回位準確，相對現有技術來說，產品成型精度高，無飛邊，有效解決了因液體硅膠流動性太好，排氣暢所造成的氣泡，缺料不良，同時模具的使用壽命長。上述實施例，只是本實用新型的一個實例，并不是用來限制本實用新型的實施與權利范圍，凡與本實用新型權利要求所述內容相同或等同的技術方案，均應包括在本實用新型保護范圍內。
權利要求1. 一種硅膠花灑模具排氣模具，包括上模，及與上模配合的下模，及設置在下模下方的鑲針板；所述上模設置有上模鑲針，所述下模設置有下模鑲針，所述下模鑲針設置在鑲針板上，其特征在于所述下模鑲針設置為斜線結構，下模鑲針與下模是斜度精密配合。
專利摘要本實用新型的一種硅膠花灑模具排氣模具，包括上模，及與上模配合的下模，及設置在下模下方的鑲針板；所述上模設置有上模鑲針，所述下模設置有下模鑲針，所述下模鑲針設置在鑲針板上，所述下模鑲針設置為斜線結構，下模鑲針與下模是斜度精密配合。型腔排氣干凈，下模鑲針回位準確，相對現有技術來說，產品成型精度高，無飛邊，有效解決了因液體硅膠流動性太好，排氣暢所造成的氣泡，缺料不良，同時模具的使用壽命長。
文檔編號B29C45/34GK202021771SQ201120103020
公開日2011年11月2日 申請日期2011年3月29日 優先權日2011年3月29日
發明者李季峯 申請人:李季峯