專利名稱：光信息記錄介質的制造方法、制造裝置和光信息記錄介質的制作方法
技術領域：
本發明涉及光信息記錄介質的制造方法和光信息記錄介質，特別是涉及例如多層式光信息記錄介質的制造方法和多層式光信息記錄介質。
背景技術：
近年來，信息記錄領域中涉及各種光信息記錄的研究不斷進行。這種光信息記錄可以高密度化，而且可以通過非接觸進行記錄·再生，作為能夠廉價實現這種光信息記錄的方式，在廣范圍內的應用正在不斷實現。作為這種光信息記錄的介質，有光盤。該光盤可以大致分為再生專用型、補寫型、改寫型。再生專用型作為記錄音樂信息的稱為小型激光唱片(CD，compact disk)的磁盤以及記錄圖像信息的稱為激光唱片(LD，laser disk)的磁盤，另外補寫型作為文本文件和靜態畫塊文件等，此外改寫型作為個人計算機用的數據文件，已被商品化，在世界范圍內普及。這些光盤具有在厚度為1.2mm的透明樹脂基板上設置信息層，用保護膜保護該信息層的結構，或者在1.2mm的透明樹脂基板的一面或兩面設置信息層，將2張這樣的基板膠合的結構。
另外，為了不僅將聲音還有電影等動畫作為信息進行記錄，更大容量的光盤——數字多功能唱片(DVD)得到了開發和商品化，已經普及。由于DVD這種高密度光盤的實現，能夠采取使用激光波長短且數值孔徑(NA)大的物鏡的方式。但是，短波長化和高NA化使相對于激光投射方向的磁盤傾斜角度(傾斜)的許可值變小。為了傾斜的許可值增大，使基板厚度變薄是有效的，例如，DVD中，激光波長為650nm，NA為0.60，使基板厚度達到0.6mm。厚度為0.6mm的樹脂基板其單體的機械強度弱會產生傾斜，因此DVD采用以信息記錄面作為內側，膠合2個基板的結構。
而且，還提出過如下方案，即利用膠合的結構，膠合的2個基板中，分別在一個信息記錄面上形成金、硅等透光性反射層，在另一個信息記錄面上形成現有的鋁等構成的反射層，分別成膜，以這些信息記錄面為內側進行膠合，由設有透光性反射層的基板側再生雙方信息記錄面的單面再生2層DVD也已商品化。而且提出了由同樣的兩層構成，信息記錄面不設置金屬反射層，而是設置可改寫的薄膜記錄層的改寫型DVD。
近年來，以高清晰度電視播放等為代表，信息的容量進一步變大，隨之對于記錄介質也要求更高密度的記錄。作為進一步增加光盤記錄密度的方法，研究了實現3層以上的多層化，將物鏡NA變大，利用藍紫色激光的方法。作為形成多層結構的方法，眾所周知利用金屬原模的信號復制方法(2P法)。
但是，多層的場合，形成通過注射成型形成的溝或凹凸槽構成的信息記錄層以外的信息記錄層比較困難。另外如上所述，記錄·再生側基板的厚度薄，可以增大傾斜的許可值，所以提出了進一步使記錄和再生側基板的厚度變薄，NA達到0.85程度、激光波長達到400nm程度。使記錄和再生側基板薄型化，達到不能注射成型的0.3mm以下的厚度時，制造2層結構也變得困難。在使用金屬原模的實例中，由于用于復制信號的輻射固化性樹脂厚度難以實現不均勻，不易透過輻射線，因而存在輻射固化性樹脂不固化，裝置變大，復制需要時間等問題。
發明內容
因此，本發明的目的在于提供具有多層結構的光信息記錄介質的制造方法和光信息記錄介質，特別是提供相應于記錄和再生側基板薄型化的多層光信息記錄介質的制造方法和光信息記錄介質。
本發明的第1種制造方法是將一個主面上具有形成了薄膜的溝或凹凸槽且具有透光性的原模和厚度在0.3mm以下的第2基板，以溝或凹凸槽作為內側，用輻射固化性樹脂膠合，使輻射固化性樹脂固化后，通過剝離原模，在上述第2基板上形成溝或凹凸槽，在第2基板的上述溝或凹凸槽上形成金屬膜或記錄膜，在第2基板上形成第2信息記錄層，以信息記錄層作為內側，膠合第1基板和形成了第2信息記錄層的第2基板。
這樣，在以往通過注射成型不能形成的0.3mm以下的基板上也能夠形成信息記錄層，而且，如果在第1基板上設置信息記錄層，能夠制造2層結構的光盤。
在上述第1種制造方法中，優選通過注射成型形成原模。這樣，能夠采用目前光盤中使用的設備低成本地進行制造。
而且，原模的材料優選樹脂材料，特別優選現有光盤中主要使用的聚碳酸酯。這樣，能夠利用廉價且質輕的物質作為原模。從而，通過輻射固化性樹脂將原模與第2基板膠合后，通過旋轉延展能夠均勻地延展輻射固化性樹脂。
在上述第1種制造方法中，優選在原模的信息記錄層上形成金屬膜或準金屬膜。這樣，易于從第2基板剝離原模。
原模信息記錄層的金屬膜優選形成Al或以Al為主要成分的金屬膜。采用上述結構，原模的剝離變得容易，且能夠低成本地進行。此外，原模信息記錄層的準金屬膜如果為Si或以Si為主要成分，則能夠更低成本地制造。
上述第1種制造方法中，優選在原模上形成的薄膜上涂覆脫膜劑。采用上述結構，原模的剝離變得更容易。
在上述第1種制造方法中，優選第2基板的厚度為約0.1mm。采用上述結構，特別是相對于傳感器物鏡的N.A.大的、高密度的光盤，能夠保持與現有DVD同樣的傾斜界限。
在上述第1種制造方法中，優選將第1基板和第2基板膠合后壓板部分的厚度為約1.2mm。采用上述結構，能夠使CD和DVD的壓板部分的厚度互換。
在上述第1種制造方法中，優選原模的厚度與第1基板大體相等。采用上述結構，能夠用幾乎同樣的設備制造原模和第1基板。
在上述第1種制造方法中，優選原模與第2基板中心孔的孔徑不同。采用上述結構，容易進行原模和第2基板的剝離。
在上述第1種制造方法中，優選原模與第2基板外徑不同。采用上述結構，容易進行原模和第2基板的剝離。
在上述第1種制造方法中，優選在具有信息記錄層的第2基板的、與具有信息記錄層的面相對的一面上膠合支持基板，在信息記錄層上形成反射膜或記錄膜。采用上述結構，能夠提高在0.3mm以下剛性變低的原模的剛性，易于操作和成膜。
第2基板和支持基板的總厚度優選與原模或第1基板的厚度大致相同。采用上述結構，能夠通過與使原模或第1基板成膜時使用的成膜裝置同樣的裝置進行制造。
本發明的第2種制造方法是將一個主面上有溝或凹凸槽且由樹脂材料構成的原模和具有第1信息記錄層的第1基板用輻射固化性樹脂膠合，使溝或凹凸槽與第1信息記錄層相對，固化輻射固化性樹脂后，通過剝離原模，在第1基板的第1信息記錄層上形成溝或凹凸槽，然后通過在第1基板的溝或凹凸槽上形成金屬膜或記錄膜，從而在第1基板上形成第2信息記錄層，并在第2信息記錄層上形成透光層。這樣，能夠制造具有多層信息記錄層的光盤。由于使用樹脂原模，與金屬材料的原模相比更輕，具有柔性。因而，使用旋轉涂層等方法，通過使之旋轉容易使輻射固化性樹脂均勻，而且操作也容易。另外，也比金屬原模便宜，能夠大量制造。
在上述第2種制造方法中，優選透光層的厚度在0.3mm以下。這樣，容易增大記錄和再生光學體系的N.A.，從而能夠提高光盤的記錄密度。
在上述第2種制造方法中，優選透光層的厚度為約0.1mm。這樣，即使將記錄和再生光學體系的N.A.增大至0.9的程度，也能夠保持與DVD同樣的傾斜界限。
在上述第2種制造方法中，優選用輻射固化性樹脂形成透光層。這樣，能夠低成本地進行制造。
在上述第2種制造方法中，優選通過在第1基板上膠合第2基板形成透光層。這樣，能夠將透光層的厚度不均勻抑制到較小。
在上述第2種制造方法中，優選通過注射成型形成原模。這樣，能夠采用目前光盤中使用的設備低成本地進行制造。
而且，原模的材料優選現有光盤中主要使用的聚碳酸酯。
通過使用樹脂材料作為原模，從而能夠利用廉價、質輕的物質作為原模。這樣，通過輻射固化性樹脂膠合原模和第1基板后，通過旋轉延展，能夠使輻射固化性樹脂均勻地延展。
而且，通過在真空中膠合第1和第2基板，就不用擔心混入氣泡。
在上述第2種制造方法中，優選在原模的上述凹凸槽上涂覆脫膜劑。這樣，易于從第1基板剝離原模，而且溝或凹凸槽的復制也變得良好。
在上述第2種制造方法中，優選在原模的上述溝或凹凸槽上形成薄膜。這樣，易于從第1基板剝離原模。
而且，為了易于進行輻射固化性樹脂的剝離，優選將上述薄膜制成金屬或電介質膜。特別是使用Si作為金屬，能夠低成本地進行制造。而且，通過在薄膜上涂覆脫膜劑能夠使剝離更容易地進行。
在上述第2種制造方法中，通過輻射固化性樹脂使原模和第1基板成為一體后，使輻射固化性樹脂固化時，優選沿著與原模的主面大致平行的方向照射輻射線。這樣，即使在原模和第1基板主面輻射線透過率低的場合，也能使輻射固化性樹脂固化。
在上述第2種制造方法中，優選壓板部分的厚度為約1.2mm。采用上述結構，CD與DVD壓板部分的厚度能夠互換。
在上述第2種制造方法中，優選原模的厚度與第1基板大致相等。采用上述結構，能夠用幾乎同樣的設備制造原模和第1基板。
在上述第2種制造方法中，優選原模與第1基板中心孔的直徑大致相等。這樣，通過使中心孔重合，能夠使原模的溝或凹凸槽和第1基板的信號記錄層的芯重合。
在上述第2種制造方法中，優選原模與第1基板的外徑不同。采用上述結構，容易剝離原模和第1基板。
本發明的第3種制造方法的特征在于，包括下述步驟第1步，在一個主面上有溝或凹凸槽的原模的溝或凹凸槽上設置第1輻射固化性樹脂LA，然后固化第1輻射固化性樹脂LA；第2步，用第2輻射固化性樹脂LB膠合原模和一個主面上具有第1信息記錄層SA的第1基板，使第1輻射固化性樹脂LA和第1信息記錄層SA相對，然后固化第2輻射固化性樹脂LB；第3步，剝離原模，然后在第1基板上形成由第1輻射固化性樹脂LA構成的溝或凹凸槽；第4步，在第1基板的溝或凹凸槽上形成反射膜或記錄膜，從而形成第2信息記錄層SB。采用上述本發明的光信息記錄介質的制造方法，能夠制造具有多層信息記錄層的光信息記錄介質。由于與原模的密合性·復制性·剝離的難易性以及粘著力的強度分別由第1和第2輻射固化性樹脂LA和LB承擔，因此輻射固化性樹脂的開發容易。
本發明的第4種制造方法的特征在于，包括下述步驟第1步，在一個主面上有第1信息記錄層SA的第1基板的第1信息記錄層SA上設置第2輻射固化性樹脂LB，然后固化第2輻射固化性樹脂LB；第2步，用第1輻射固化性樹脂LA膠合一個主面上有溝或凹凸槽的原模和第1基板，使溝或凹凸槽與第2輻射固化性樹脂LB相對，然后固化第1輻射固化性樹脂LA；第3步，剝離原模，然后在第1基板上形成由第1輻射固化性樹脂LA構成的溝或凹凸槽；第4步，在第1基板的溝或凹凸槽上形成反射膜或記錄膜，從而形成第2信息記錄層SB。采用上述本發明的光信息記錄介質的制造方法，能夠得到與上述第1種制造方法中敘述的同樣的效果。
本發明的第5種制造方法的特征在于，包括下述步驟第1步，在一個主面上有溝或凹凸槽的原模的溝或凹凸槽上設置第1輻射固化性樹脂LA；第2步，在一個主面上有第1信息記錄層SA的第1基板的第1信息記錄層SA上設置第2輻射固化性樹脂LB；第3步，使第1輻射固化性樹脂LA和第2輻射固化性樹脂LB相對，膠合原模和第1基板，然后固化第1輻射固化性樹脂LA和上述第2輻射固化性樹脂LB；第4步，剝離原模，然后在第1基板上形成由第1輻射固化性樹脂LA構成的溝或凹凸槽；第5步，在第1基板的溝或凹凸槽上形成反射膜或記錄膜，從而形成第2信息記錄層SB。采用上述本發明的光信息記錄介質的制造方法，能夠得到與上述第1種制造方法中敘述的同樣的效果。
本發明的第6種制造方法的特征在于，包括下述步驟第1步，在一個主面上有溝或凹凸槽的原模的溝或凹凸槽上形成由1層或多層組成的第1薄膜FA；第2步，在第1薄膜FA上形成由1層或多層組成的第2薄膜FB；第3步，用輻射固化性樹脂膠合原模和一個主面上有第1信息記錄層SA的第1基板，使第2薄膜FB與第1信息記錄層SA相對；第4步，在第1薄膜FA與第2薄膜FB的界面剝離原模和第1基板，從而在第1基板上形成由第2薄膜FB構成的溝或凹凸槽；第5步，在第1基板的溝或凹凸槽上形成反射膜或記錄膜，從而形成第2信息記錄層SB。采用上述本發明的光信息記錄介質的制造方法，可以形成復制性高的信息記錄層，利用了在第1薄膜FA和第2薄膜FB的界面剝離的容易性。
上述第3至第6種制造方法中，優選預先在第1信息記錄層SA上設置第3輻射固化性樹脂HC，固化第3輻射固化性樹脂HC的方法。這樣，能夠減少在剝離原模時第1信息記錄層SA受到損傷。特別是在第1信息記錄層SA為由多層薄膜組成的可改寫型記錄層時，由于薄膜強度低，因而是有效的。也有防止第1信息記錄層SA發生腐蝕等劣化的效果。
而且，優選第3輻射固化性樹脂HC的鉛筆硬度在B以上。這樣，能夠減少第1信息記錄層SA受到損傷。另外，優選第3輻射固化性樹脂HC至少設置在第1信息記錄層SA的內周端至外周端。這樣，設置第3輻射固化性樹脂HC有效。
上述第3至第6種制造方法中，優選在第2信息記錄層SB上形成透光層。這樣，能夠保護第2信息記錄層SB。另外，上述透光層的厚度優選0.3mm以下。這樣，容易使記錄和再生光學體系的波長變短，N.A.變大，從而能夠提高光盤的記錄密度。另外，透光層達到0.3mm以下，形成透光層的基板就不能通過注射成型形成，因此上述制造方法進一步發揮效果。
而且，透光層的厚度優選約0.1mm。這樣，即使記錄和再生光學體系的波長短至400nm，N.A.大至0.9的程度，也能夠保持與DVD同樣的傾斜界限。優選用輻射固化性樹脂形成上述透光層。這樣，能夠低成本地進行制造。上述透光層優選由輻射固化性樹脂和樹脂基板構成。這樣，能夠將透光層的厚度不均勻抑制到較小，制造也容易。
上述第3至第5種制造方法中，特征在于，原模透過至少一部分使第1輻射固化性樹脂LA或第2輻射固化性樹脂LB固化的波長的輻射線。另外，在上述第4種制造方法中，特征在于，原模、第1薄膜FA和第2薄膜FB透過至少一部分使輻射固化性樹脂固化的波長的輻射線。這樣，即使在第1基板或信息記錄層SA不透過輻射線的場合，也能夠固化第1輻射固化性樹脂LA、第2輻射固化性樹脂LB或輻射固化性樹脂。
上述第3至第5種制造方法中，原模優選由樹脂材料構成。樹脂原模與使用金屬材料的原模比較，質輕，具有柔性。因而，不象采用金屬材料原模2P進行的復制那樣需要施加高壓，也不需要花費時間，使用生產DVD時使用的旋轉涂層等方法，使之旋轉，容易使輻射固化性樹脂均勻，而且操作也容易。另外，也比金屬原模便宜，能夠采用注射成型大量制造。由金屬材料等構成的原模難以大量儲備，在生產光信息記錄介質的過程中，出現不夠的情況時，不容易進行交易。
上述由樹脂材料構成的原模優選通過注射成型形成。這樣，能夠采用目前光盤生產中使用的設備，低成本地進行生產。而且，樹脂原模的材料優選目前光盤中主要使用的聚碳酸酯。這樣，能夠利用與生產現有光盤同樣的設備。
上述第3、第4和第6種制造方法中，為了均勻延展輻射固化性樹脂，優選在通過輻射固化性樹脂膠合原模和第1基板后，通過旋轉延展。而且，使用樹脂材料作為原模，能夠利用廉價、質輕的物質作原模，能夠利用與DVD的膠合同樣的方法、設備。而且，通過在真空中進行粘貼，不用擔心混入氣泡。而且，輻射固化性樹脂和原模的密合性進一步提高，復制性上升。
上述第3種制造方法中，優選第1輻射固化性樹脂LA的內徑比第2輻射固化性樹脂LB的內徑小。這樣，第2輻射固化性樹脂LB不會在內周部與原模粘結，能夠使原模和第1基板的剝離容易進行。
上述第3和第5種制造方法中，優選第1輻射固化性樹脂LA設置于原模的外周端之內。這樣，第2輻射固化性樹脂LB不會在外周部與原模粘結，能夠使原模和第1基板的剝離容易進行。
上述第4種制造方法中，優選第2輻射固化性樹脂LB的內徑比第1輻射固化性樹脂LA的內徑小。這樣，第1輻射固化性樹脂LA不會在內周部與第1基板粘結，能夠使原模和第1基板的剝離容易進行。
上述第4和第5種制造方法中，優選第2輻射固化性樹脂LB被設置于第1基板的外周端之內。這樣，第1輻射固化性樹脂LA不會在外周部與第1基板粘結，能夠使原模和第1基板的剝離容易進行。
上述第6種制造方法中，其特征在于第1薄膜FA和第2薄膜FB的內徑比輻射固化性樹脂的內徑小。這樣，輻射固化性樹脂不會在內周部與原模粘結，能夠使原模和第1基板的剝離容易進行。
上述第6種制造方法中，優選第1薄膜FA和第2薄膜FB于原模的外周端之內成膜。這樣，輻射固化性樹脂不會在外周部與原模粘結，能夠使原模和第1基板的剝離容易進行。
上述第3至第5種制造方法中，優選對原模的溝或凹凸槽進行使之易于脫膜的處理。這樣，能夠使原模的剝離容易進行，也能夠提高復制性。而且，優選在原模的溝或凹凸槽上涂覆脫膜劑。這樣，能夠使原模的剝離容易進行，也能夠提高復制性。而且，優選在原模的溝或凹凸槽上形成以金屬為主要成分的膜。這樣，能夠使原模的剝離容易進行，也能夠提高復制性。
上述第6種制造方法中，優選第1薄膜FA為Au，且第2薄膜FB為SiO2。這樣，能夠使原模的剝離容易進行。
上述第3至第6種制造方法中，優選原模和第1基板同時具有中心孔，且原模的中心孔與第1基板的中心孔大致相同。這樣，易于將第1基板上形成的多個信息記錄層的中心重合。采用按照上述第3至第6種制造方法制造的光信息記錄介質，可以通過多個信息記錄層實現高密度化。
為了解決上述課題，本發明第1種光信息記錄介質的特征在于，在具有信息記錄層的基板上疊置1個以上保護層、中間層、記錄層組成的基本層，在其上具有透光層。采用上述本發明的光信息記錄介質，可以通過多個信息記錄層實現高密度化。另外，通過保護層和透光層，能夠保護各信息記錄層，能夠穩定地進行生產。另外，采用上述第1、第2、第3和第4種制造方法容易進行制造。
本發明第2種光信息記錄介質的特征在于，在具有信息記錄層的基板上疊置1個以上中間層、記錄層組成的基本層，在其上具有透光層。采用上述本發明的光信息記錄介質，可以通過多個信息記錄層實現高密度化。另外，容易通過上述第1、第2、第3和第4種制造方法進行制造。
上述第1和第2光信息記錄介質中，透光層的厚度優選在0.3mm以下。這樣，易于使記錄和再生光學體系的波長變短，N.A.變大，從而能夠提高光信息記錄介質的記錄密度。而且，透光層的厚度優選約0.1mm。這樣，即使記錄和再生光學體系的波長短至400nm，N.A.大至0.9的程度，也能夠保持與DVD相同的傾斜界限。如上所述，在透光層的厚度為約0.1mm的時候，基本層的厚度優選15μm以上45μm以下。這樣，能夠減少多個光信息記錄介質間再生信號的干涉、記錄光的影響，另外，在用高N.A.物鏡記錄再生時，能夠簡單回避球面象差的影響。
上述第1和第2光信息記錄介質中，優選透光層由輻射固化性樹脂構成。這樣，能夠穩定、低成本地進行生產，而且，能夠將透光層的厚度制造得大致均勻。上述第1和第2光信息介質中，優選透光層由輻射固化性樹脂和樹脂基板構成。這樣，能夠將透光層的厚度不均勻抑制到較小，制造也容易進行。
上述第1和第2光信息記錄介質中，優選記錄層由具有溝或凹凸槽的輻射固化性樹脂和在溝或凹凸槽上形成的反射膜或記錄膜構成。這樣，容易通過多個信息記錄層實現高密度化。通過使用輻射固化性樹脂，能夠廉價且容易地進行生產。
上述第1和第2光信息記錄介質中，優選中間層具有粘接功能。這樣，光信息記錄介質變得穩定。上述第1和第2光信息記錄介質中，優選中間層由輻射固化性樹脂構成。這樣，能夠低成本地進行制造，而且在生產上也簡便。
上述第1光信息記錄介質中，優選保護層的鉛筆硬度在B以上。這樣，能夠防止與保護層連接的信息記錄層被腐蝕或沖擊。另外，也能夠減輕生產時對信息記錄層的損傷。上述第1光信息記錄介質中，優選保護層由輻射固化性樹脂構成。這樣，能夠低成本地進行生產，而且生產也簡便。
上述第1光信息記錄介質中，優選上述保護層與上述中間層的折射率大致相同。這樣，記錄再生光不會受到球面象差等的光學影響，能夠進行穩定的記錄再生。上述第1光信息記錄介質中，優選保護層和中間層對記錄再生光大致透明。這樣，記錄再生光不會受到吸收和散射等影響，能夠進行穩定的記錄再生。
上述第2光信息記錄介質中，優選中間層對記錄再生光大致透明。這樣，記錄再生光不會受到吸收和散射等光學的影響，能夠進行穩定的記錄再生。
本發明的第3種光信息記錄介質由第1基板和比第1基板薄的第2基板組成，在第1基板和第2基板之間設置2個信息記錄層。
圖1是說明本發明實施例1的光盤制造方法全部流程的圖。
圖2(a)是表示通過本發明的光盤制造方法制造的光盤結構的圖，(b)是表示通過本發明的光盤制造方法制造的光盤尺寸的圖。
圖3是說明實施例1的光盤制造方法工序的圖(1)。
圖4是說明實施例1的光盤制造方法工序的圖(2)。
圖5是說明實施例1的光盤制造方法工序的圖(3)。
圖6是說明實施例1的光盤制造方法工序的圖(4)。
圖7是說明實施例1的光盤制造方法工序的圖(5)。
圖8是說明實施例1的光盤制造方法工序的圖(6)。
圖9是說明本發明實施例2的光盤制造方法全部流程的圖。
圖10是說明實施例2的光盤制造方法工序的圖(1)。
圖11是說明實施例2的光盤制造方法工序的圖(2)。
圖12是說明實施例2的光盤制造方法工序的圖(3)。
圖13是說明實施例2的光盤制造方法工序的圖(4)。
圖14是說明實施例2的光盤制造方法工序的圖(5)。
圖15是說明實施例2的光盤制造方法工序的圖(6)。
圖16是說明實施例2的光盤制造方法工序的圖(7)。
圖17是說明本發明實施例3的光盤制造方法全部流程的圖。
圖18是說明實施例3的光盤制造方法工序的圖(1)。
圖19是說明實施例3的光盤制造方法工序的圖(2)。
圖20是說明本發明實施例4的光盤制造方法全部流程的圖。
圖21是說明實施例4的光盤制造方法工序的圖(1)。
圖22是說明實施例4的光盤制造方法工序的圖(2)。
圖23是說明實施例4的光盤制造方法工序的圖(3)。
圖24是說明實施例4的光盤制造方法工序的圖(4)。
圖25是說明實施例4的光盤制造方法工序的圖(5)。
圖26是說明實施例4的光盤制造方法工序的圖(6)。
圖27是說明實施例4的光盤制造方法工序的圖(7)。
圖28是說明本發明實施例5的光盤制造方法全部流程的圖。
圖29是說明實施例5的光盤制造方法工序的圖。
圖30是說明本發明實施例6的光盤制造方法全部流程的圖。
圖31是說明實施例6的光盤制造方法工序的圖。
圖32是說明本發明實施例7的光盤制造方法全部流程的圖。
圖33是說明實施例7的光盤制造方法工序的圖(1)。
圖34是說明實施例7的光盤制造方法工序的圖(2)。
圖35是說明實施例7的光盤制造方法工序的圖(3)。
圖36是說明實施例8的具有多層結構光盤的結構圖。
在圖中，101，401，501，801——樹脂原模；103，113，403，503，513，803，813——凹凸槽；104，404，504——輻射固化性樹脂(LA)；108——凹凸槽被復制的輻射固化性樹脂(LA)；111，411，511，811——第1基板；114，414，514——輻射固化性樹脂(LB)；115，415，515，815——A1反射膜；116，416，516，816——信息記錄層(SA)；118，818——Ag半透明膜；119，819——信息記錄層(SB)；121，821——第2基板；124，823——輻射固化性樹脂(LC)；204——輻射固化性樹脂(HC)。
具體實施例方式
下面參照附圖，說明本發明光信息記錄介質的制造方法的實施例。
(實施例1)圖1表示實施例1中光信息記錄介質的制造方法的全部流程。
圖2是表示本發明制造的光信息記錄介質——光盤的結構和尺寸的圖。如圖2所示，光盤1由第1基板111和比第1基板111薄的第2基板121組成，在這些基板之間具有第1信息記錄層116和第2信息記錄層119。由光盤1記錄再生側的表面至信息記錄層119的距離A為10～300μm，優選60～100μm。另外，第1信息記錄層116與第2信息記錄層119之間的距離B為5～60μm，優選10～40μm。磁道寬C為0.16～0.20μm。磁道間距D為0.1～1μm，優選0.2～0.4μm。間距的高度E為10～100nm，優選50～80nm。第2基板121的厚度優選在0.3mm以下。更優選第2基板121的厚度為約0.1mm或0.1mm以下。光盤數據的寫入、讀取通過從薄的一側的基板即第2基板照射激光進行。
圖3(a)的樹脂原模101是通過注射成型形成的厚度為1.1mm、直徑為120mm、中心孔徑為15mm的聚碳酸酯基板，在一個主面上設置有凹凸槽103。樹脂原模101除為聚碳酸酯以外，也可以是例如丙烯酸類樹脂、聚烯烴類樹脂等樹脂材料。在凹凸槽上濺射以Al為主要成分的金屬115約100nm。其中，為了更低成本地進行生產，也可以在凹凸槽上濺射以Si為主要成分的金屬。通過形成該金屬膜115，樹脂原模101和第2基板121的剝離就能夠容易地進行。另外，這里使樹脂原模的厚度為1.1mm，也可以使用更薄的，例如約0.6mm的原模。通過使之變薄，能夠使材料成本更低。
圖3(b)的第2基板121是厚度為80μm，外徑為119.5mm，中心孔徑為22mm的聚碳酸酯制或丙烯酸制的片狀基板，沒有信息記錄層且平坦。第2基板121是由通過鑄塑法制成的片材上切取的物質。第2基板121也可以由丙烯酸類或降冰片烯類樹脂材料構成。
最初，如圖3(c)所示，在第2基板121上通過噴管201涂覆輻射固化性樹脂202成半徑約為27mm的圓環形。此時，放置有第2基板121的旋轉臺203或噴管201以低速(20～120rpm)旋轉。
其次，如圖4(a)所示，將樹脂原模101與第2基板121相對成同心圓，疊合。另外，也可以在樹脂原模101上涂覆輻射固化性樹脂202成圓環狀，與第2基板121疊合。其中，所謂輻射固化性樹脂是通過輻射固化的樹脂，所謂輻射線包括所有的電磁波和粒子波。具體而言，輻射固化性樹脂包括通過紫外線照射固化的紫外線固化樹脂和通過電子射線照射固化的樹脂等。
疊合后，如圖4(b)所示，通過旋轉旋轉臺203，使基板高速(1000～10000rpm)旋轉，使輻射固化性樹脂202擴散至外周部分。這樣就很難在粘接部分混入氣泡，另外，剩余的輻射固化性樹脂被甩掉。本發明中，原模使用比金屬更輕的樹脂材料，這樣，旋轉時的操作容易，而且也容易通過旋轉使輻射固化性樹脂202均勻。另外，高速旋轉的場合，使用金屬材料時，容易出現原模的彎曲和變形，但在樹脂材料中就很難出現。而且，能夠直接利用目前生產DVD時使用的膠合工藝、裝置進行這種操作。
而且，如圖4(c)所示，通過照射光(UV光)205、206使輻射固化性樹脂202固化。此時光的照射可以由樹脂原模側照射205或由第1基板側照射206，從任意一側進行，也可以從兩側進行。優選根據樹脂原模101上形成的薄膜的光透過率選擇最適當的照射方法。
如圖5(a)或圖5(b)所示，剝離樹脂原模101和第2基板121。其中，通過用鉤狀的鉤301使樹脂原模101的一部分外周端或內周端浮起，然后用鼓風209向其中吹入空氣，進行剝離。樹脂原模101的內徑或外徑也可以與第2基板121的大致相同，但通過改變樹脂原模101與第2基板121的內徑或外徑，易于在剝離時插入鉤301，能夠有效地進行剝離。內徑或外徑的大小也可以是第2基板121和樹脂原模101中的任意一個較大。通過預先在樹脂101上形成Al或Si膜，能夠容易地進行剝離，也可以形成金屬以外的膜，例如電介質膜等薄膜。而且，也可以在樹脂原模101的薄膜上涂覆脫膜劑。脫膜劑例如硅氧烷、氟元素單分子膜等。
如圖6(b)所示，在凹凸槽被復制的第2基板121(參照圖6(a))上形成半透明的反射膜118(這里使以Ag為主要成分的金屬形成約20nm的膜)。該反射膜118也可以是Rh或Au或Si等金屬或分別以它們為主要成分的金屬。而且，也可以形成電介質反射膜。此時，第2基板121非常薄，為80μm，剛性低。因此有時會在操作、成膜的過程中出現困難。
這時，如圖6(b)所示，在第2基板121的與凹凸槽被復制的主面相對的一面上膠合支持基板131。這樣，剛性變高，易于操作、成膜。其中，作為支持基板131使用厚度為1.0mm，直徑為120mm，中心孔徑為15mm的聚碳酸酯基板。作為支持基板也可以再次利用信號復制中已不能使用的樹脂原模。其中，第2基板121和支持基板131的膠合使用粘合力微弱的輻射固化性樹脂，但也可以利用除此以外的粘合劑或靜電。為了均勻地形成膜，優選在與支持基板131膠合后，保持第2基板121大致平坦。也可以在第2基板121和支持基板131成膜后進行剝離，在膠合第1基板111和第2基板121時，通過支持基板131的中心孔134和第1基板的中心孔112也可以偏芯。
優選剝離支持基板131后，與第2基板121的支持基板131膠合的主面上不殘留粘合劑，沒有損傷。第2基板與支持基板131的剝離，可以按照與剝離上述樹脂原模101和第2基板121同樣的方法進行。通過改變第2基板121和支持基板131的內徑或外徑大小，使剝離變得容易。如果可以直接用第2基板121進行操作、成膜，那么就沒有必要與支持基板膠合。
圖6(c)的第1基板111是厚度為1.1mm，直徑為120mm，中心孔徑為15mm的聚碳酸酯基板，在一個主面上設置凹凸槽113。第1基板111也可以是聚碳酸酯以外的樹脂材料，例如丙烯酸類樹脂或聚烯烴類樹脂。在凹凸槽113上濺射以Al為主要成分的反射膜115約100nm。反射膜115也可以是Al以外的金屬，例如Ag。第1基板111通過注射成型形成。由于第1基板111與樹脂原模101的厚度大致相同，因而能夠用同樣的設備進行原模101和第2基板121的注射成型或成膜。另外，由于第1基板不是記錄和再生側基板，所以也可以使用光透過率低的不透明樹脂。
如圖7所示，用輻射固化性樹脂210膠合該第2基板121和形成信息記錄層的第1基板111，使各自的信息記錄層119、116相對。這時的膠合與上述膠合第1基板111和樹脂原模101的方法相同。在一個基板上涂覆輻射固化性樹脂210大致成圓環狀，疊合兩基板后使之旋轉，使輻射固化性樹脂210大致均勻地延展。然后，照射UV光，固化輻射固化性樹脂210。通過使第1基板111和第2基板121膠合后的壓板部分厚度為約1.2mm，能夠保持與CD或DVD的壓板厚度互換。
另外，樹脂原模101與第1基板111，或第1基板111與第2基板121的膠合也可以在真空中進行。此時，在膠合的一個或兩個基板或者樹脂原模的膠合面上，如圖8(a)所示，旋轉涂覆輻射固化性樹脂211，然后，如圖8(b)所示在真空中疊合，通過輻射線照射使輻射固化性樹脂固化。由于在真空中進行膠合，就不用擔心氣泡的混入。由于作為原模使用質輕的樹脂材料，因而在原模上旋轉涂覆輻射固化性樹脂時，容易使原模旋轉。另外，高速旋轉時，不容易引起使用金屬材料時的彎曲、變形。
因而，采用上述制造方法，能夠制造不能注射成型的0.3mm以下的基板上具有信息記錄層的光盤，能夠制造高密度化的光盤。
另外，不言而喻，本實施例的制造方法，除上述例子以外，還能夠適用于矩形或多邊形等角狀記錄介質，以及變形、切割圓盤狀記錄介質得到的記錄介質等基于本發明技術思想的其它實施例。
(實施例2)用圖9至圖16說明本發明的光盤制造方法的其它例子。圖9表示本實施例的光盤制造方法的全部流程。
圖10(a)的樹脂原模101是通過注射成型形成的厚度為1.1mm，直徑為120mm，中心孔徑為15mm的聚碳酸酯基板，在一個主面上設置凹凸槽103。樹脂原模101也可以是聚碳酸酯以外的樹脂材料，例如丙烯酸類樹脂、聚烯烴類樹脂等。在凹凸槽上濺射以Si為主要成分的金屬105約20nm。
圖10(b)的第1基板111是通過注射成型形成的厚度為1.1mm，外徑為120mm，中心孔徑為15mm的聚碳酸酯基板，在一個主面上設置由凹凸槽113和Al反射膜115組成的信息記錄層SA116。第1基板111也可以是聚碳酸酯以外的樹脂材料，例如丙烯酸類樹脂、聚烯烴類樹脂。另外，由于第1基板不是記錄和再生側基板，因而也可以使用光透過率低的不透明樹脂。
準備如圖10(a)、(b)所示的樹脂原模101和第1基板111后，如圖10(c)所示，在第1基板111上用噴管201涂覆輻射固化性樹脂202成半徑大致為27mm的圓環形。此時，以低速(20～120rpm)旋轉放置第1基板111的旋轉臺203或噴管201。
接著，如圖11(a)所示，將樹脂原模101與第1基板111相對成同心圓，疊合。另外，也可以在樹脂原模101上將輻射固化性樹脂202涂覆成圓環形，與第1基板111疊合。
疊合后，如圖11(b)所示，通過使旋轉臺203旋轉，高速(例如1000～10000rpm)旋轉基板111，使輻射固化性樹脂202擴散至外周部。這樣就很難在粘接部分混入氣泡，另外剩余的輻射固化性樹脂被甩掉。
通過使樹脂原模101與第1基板111的內徑大致相同，從而能夠使第1基板111的信息記錄層116的中心與樹脂原模101的溝或凹凸槽的中心重合。通過在旋轉臺203上設置與中心孔102、112直徑大小大致相同的中軸，從而能夠容易進行。在欲使偏心更小時，也可以在延展輻射固化性樹脂后且使之固化前，設置使中心重合的部件。
而且，如圖12(a)所示，通過照射輻射線205、206使輻射固化性樹脂202固化。此時輻射線的照射，可以由樹脂原模側照射205或從第1基板側照射206，由任意一側進行，也可以從兩側進行。但是，由于樹脂原模和第1基板的材料以及成膜物質，輻射線透過率變低，采用與樹脂原模和第1基板的主面垂直方向的輻射線，會出現難于固化輻射固化性樹脂的情況。因此，如圖12(b)所示，照射與主面平行方向的輻射線208，使輻射線由端面入射，可有效使之固化。而且，用透鏡209聚集輻射線，使之有效地從端面射入是有效的。為了確實進行固化，優選使輻射線由多個位置從端面射入。
如圖13(a)或13(b)所示，剝離樹脂原模101和第1基板111。這樣，通過用鉤狀的鉤301使樹脂原模101的一部分外周端或內周端浮起，然后用鼓風302向其中吹入空氣，進行剝離。樹脂原模101的外徑也可以與第1基板111的大致相同，但通過改變樹脂原模101與第1基板111的外徑，易于在剝離時插入鉤301，能夠有效地進行剝離。
輻射固化性樹脂202優選復制性好，且與原模101的粘合力弱，與第1基板111的信息記錄層116的粘合力強的物質。其中使用與Al的粘合力強，與Si的粘合力弱的物質。因此，通過預先在樹脂原模101上形成Si膜，能夠容易地進行剝離。根據輻射固化性樹脂202，在原模101上也可以形成其它金屬膜，例如Ag、Au或Al，或者金屬以外的膜，例如電介質膜等薄膜。只要與形成樹脂原模101的樹脂材料的粘合力微弱，就不必形成金屬膜等薄膜。而且也可以在樹脂原模的凹凸槽上或樹脂原模上形成的薄膜上涂覆脫膜劑。
在凹凸槽被復制的圖14(a)的第1基板111上，如圖14(b)所示，制造半透明的反射膜118(這里使以Ag為主要成分的金屬形成約20nm的膜)，形成信息記錄層119。該反射膜118也可以是以Rh為主要成分的金屬，也可以形成電介質反射膜。
圖15(a)的第2基板121是厚度為80μm，直徑為119.5mm，中心孔徑為22mm的聚碳酸酯制成的片狀基板，沒有信息記錄層且平坦。第2基板121是由通過鑄塑法制成的片材上切取的物質。第2基板121也可以由丙烯酸類或降冰片烯類樹脂材料構成。
如圖15(b)所示，用輻射固化性樹脂210膠合該第2基板121和形成了信息記錄層116及信息記錄層119的第1基板111，其中以具有信息記錄層116、119信息記錄層的主面作為內側。此時的膠合，與上述膠合第1基板111和樹脂原模101的方法相同，在一個基板上涂覆輻射固化性樹脂210大致成圓環狀，疊合后，使通過輻射固化性樹脂210成為一體的第1基板111和第2基板121旋轉，大致均勻地延展輻射固化性樹脂210。然后，照射UV光，固化輻射固化性樹脂210。作為透光層，通過使用片狀的第2基板121，易于使透光層的厚度大致均一。透光層的厚度優選在0.3mm以下。更優選透光層的厚度為0.1mm或0.1mm以下。
另外，樹脂原模101與第1基板111，或第1基板111與第2基板121的膠合也可以在真空中進行。此時，在膠合的一個或兩個基板或者樹脂原模的膠合面上，如圖16(a)所示旋轉涂覆輻射固化性樹脂211，然后如圖16(b)所示在真空中疊合，通過輻射線照射使輻射固化性樹脂211固化。由于在真空中進行膠合，能夠防止氣泡的混入。
這樣，采用本實施例的制造方法，能夠制造高密度化的光盤。
(實施例3)用圖17至圖19說明本發明的光盤制造方法的其它例子。另外，對于與上述實施例中已說明的部分相同的部分，不再重復說明。
圖17表示本實施例的光盤制造方法的全部流程。
直到形成圖18(a)所示的具有第1信息記錄層517和第2信息記錄層518的第1基板511之前，與實施例2相同。
特別是在本實施例中，在第1基板511的信息記錄層518上形成透光層時，通過輻射固化性樹脂進行。
如圖18(b)所示，在第1基板511的信息記錄層518上用噴管601涂覆輻射固化性樹脂602成半徑約為24mm的圓環形。此時，以低速(20～120rpm)旋轉放置第1基板511的旋轉臺603或噴管601。
接著，如圖19(a)所示，通過使旋轉臺603旋轉，高速(200～10000rpm)旋轉第1基板111，使輻射固化性樹脂602被大致均勻地設置在信息記錄層518上。根據輻射固化性樹脂602的粘度改變旋轉臺603的轉數和旋轉時間等，從而能夠在第1基板111上大致均勻地涂覆輻射固化性樹脂602。
然后，如圖19(b)所示，照射輻射線605，使輻射固化性樹脂602固化。其中形成約0.1mm厚的輻射固化性樹脂602的透光層。輻射固化性樹脂大多具有如果與氧接觸就難以固化的性質。因此，在氮氣環境612中照射輻射線605，使輻射固化性樹脂602固化。這樣，通過使用輻射固化性樹脂形成透光層，能夠更廉價地制造光盤。
如上所述，采用上述實施例2、3的光盤制造方法，即使是使記錄和再生側基板薄型化的光盤，也能夠容易地制造多層光盤。具體而言，通過使用樹脂原模，由于原模質輕且具有柔性，從而使原模的操作變得容易。另外，通過使用與膠合DVD的設備幾乎相同的裝置使之旋轉，能夠使用于復制的輻射固化性樹脂大致均勻地延展。而且，即使在原模的剝離不順利，必須更換原模的場合，由于是樹脂原模，能夠通過注射成型大量且廉價地進行生產。
(實施例4)用圖20至圖27說明本發明的光盤制造方法的其它例子。圖20表示本實施例的光盤制造方法的全部流程。
圖21(a)的樹脂原模101是通過注射成型形成的厚度為1.1mm，直徑為120mm，中心孔徑為15mm的聚碳酸酯基板，在一個主面上設置凹凸槽103。樹脂原模101也可以是聚碳酸酯以外的樹脂材料，例如丙烯酸類樹脂、聚烯烴類樹脂等。另外，這里使用樹脂原模101的厚度為1.1mm的原模，也可以使用更薄的，例如約0.6mm的物質。通過使之變薄，能夠降低材料成本。如圖21(b)所示在樹脂原模101的凹凸槽103上，用噴管201滴加第1輻射固化性樹脂(下面稱為“輻射固化性樹脂LA”)104大致成圓環狀，如圖21(c)所示，旋轉樹脂原模101，甩掉剩余的樹脂，使樹脂大致均勻地設置。
然后，如圖22(a)所示照射輻射線202，使輻射固化性樹脂LA104固化。上述場合優選在真空中進行樹脂原模101的旋轉。這樣，樹脂可以浸透至比溝深的深度。而且，此時更優選在空氣中即大氣壓下進行隨后的輻射線照射使樹脂固化。這是由于這樣樹脂與原模的密合程度進一步加強。即，優選與隨后進行的通過照射輻射線使輻射線固化樹脂104固化的步驟時相比，在較低的壓力下進行旋轉樹脂原模101，在樹脂原模101上設置輻射線固化樹脂104的步驟，這樣，能夠提高輻射線樹脂對樹脂原模101的填充性、復制性。另外，可以看出，以上內容也能夠適用于其它實施例中所示的制造方法。
圖22(b)的第1基板111是通過注射成型形成的厚度為1.1mm，外徑為120mm，中心孔112直徑為15mm的聚碳酸酯基板，在一個主面上設置由凹凸槽113和Al反射膜115構成的信息記錄層SA116。第1基板也可以是聚碳酸酯以外的樹脂材料，例如丙烯酸類樹脂、聚烯烴類樹脂。另外，由于第1基板不是記錄·再生側基板，因而也可以使用光透過率低的不透明樹脂。如圖22(c)所示，在第1基板上用噴管211涂覆第2輻射固化性樹脂(下面稱為“輻射固化性樹脂LB”)114大致成半徑為約27mm的圓環狀。
接著，如圖23(a)所示，將樹脂原模101與第1基板111相對大致成同心圓，疊合。另外，也可以在樹脂原模101的輻射固化性樹脂LA104上涂覆輻射固化性樹脂LB114大致成圓環形，與第1基板111疊合。疊合后，如圖23(b)所示，高速(例如1000～10000rpm)旋轉，使輻射固化性樹脂LB114擴散至外周部。這樣就很難在粘接部分混入氣泡，另外剩余的輻射固化性樹脂LB117被甩掉。
通過使樹脂原模101與第1基板111的內徑大致相同，從而能夠使第1基板的信息記錄層SA的中心與樹脂原模的凹凸槽的中心重合。在通過旋轉延展輻射固化性樹脂LB時，通過在旋轉臺上設置與中心孔102、112直徑大致相同的中軸，從而使其能夠容易地進行。為了進一步減小偏心，也可以在延展輻射固化性樹脂LB后且使之固化前，設置使中心重合的部件。
而且，如圖23(c)所示，通過照射輻射線212使輻射固化性樹脂LB114固化。由于第1基板111上有信息記錄層116，通過照射來源于第1基板111側的輻射線難于使輻射固化性樹脂LB114固化。因此，原模101的輻射線透過量必須足以使輻射固化性樹脂固化。本實施例中，通過使用由透明的聚碳酸酯材料構成的原模，能夠容易地實現。另外，只要輻射線的透過量充分，也可以使用其它材料。
如圖24(a)或24(b)所示，在樹脂原模101與輻射固化性樹脂LA108(復制凹凸槽后的輻射固化性樹脂LA)的界面剝離樹脂原模101。這樣，能夠在第1基板111的信息記錄層116上形成復制了凹凸槽的輻射固化性樹脂LA108。其中，通過用鉤狀的鉤301使樹脂原模101的一部分外周端或內周端浮起，然后用鼓風302向其中吹入空氣，進行剝離。樹脂原模101的外徑也可以與第1基板111的大致相同，但在圖24(a)的場合，通過改變樹脂原模101與第1基板111的外徑，易于在剝離時插入鉤301，能夠有效地進行剝離。例如，將樹脂原模的直徑增大至0.5～1mm的程度。另外，為了使鉤301易于插入，也可以將原模101的外周端加工成外周部沖頭側的厚度薄至0.1～0.3mm的程度等。輻射固化性樹脂LA108優選密合性、復制性好，與原模101的粘合力弱的物質。
輻射固化性樹脂LB114特別優選對第1基板111的信息記錄層116和輻射固化性樹脂LA108的粘合力高的物質。另外，輻射固化性樹脂LA104優選對樹脂原模101的粘合力低的物質。這樣，通過使用對樹脂原模101粘合力低的樹脂LA和對第1基板111的信息記錄層116和樹脂LA粘合力高的樹脂LB，能夠提高樹脂原模101與樹脂LA之間的剝離性。另外，此時，為了避免由于輻射固化性樹脂LA108(104)和樹脂原模101粘結，使剝離變得困難，將輻射固化性樹脂LA108設置于樹脂原模101的外周端之內，使輻射固化性樹脂LA108的內周端比輻射固化性樹脂LB114的內周端小。另外，優選粘接于樹脂原模101上，用于復制凹凸槽的樹脂LA的硬度優選比用于粘接樹脂LA和信息記錄層的樹脂LB的硬度高，另外，樹脂LA的玻璃化點也比樹脂LB的高。這樣，通過利用2種輻射固化性樹脂，能夠將復制性和粘合性的效果分別分配給不同的輻射固化性樹脂，易于開發輻射固化性樹脂。
另外，考慮到與輻射固化性樹脂LA的剝離難易程度，也可以對原模101實施易于脫膜的處理。可以形成以金屬為主要成分的膜，如Si、Ag、Au或金屬以外的膜，例如電介質膜等薄膜。而且，也可以在樹脂原模101的凹凸槽103上或者樹脂原模101上形成的薄膜上涂覆脫膜劑。其中脫膜劑有硅氧烷、氟單分子膜等。而且，也可以用玻璃或金屬硅等對紫外線具有一定透光性的材料代替樹脂構成原模101。
在信息記錄層16對于牽引力的強度低的場合，剝離樹脂原模101時，可能使信息記錄層116受到損傷。因此，如圖25所示，通過預先在信息記錄層116上設置用于保護的第3輻射固化性樹脂204(下面成為“輻射固化性樹脂HC”)，能夠防止損傷。此時，優選將輻射固化性樹脂HC設置成至少由信息記錄層16的內周端覆蓋至外周端。而且，優選設置成內周覆蓋第1基板111的壓板領域的一部分或全部，外周覆蓋至第1基板的外周端。此時，優選輻射固化性樹脂HC的鉛筆硬度在B以上。
如圖26(a)所示，在復制了凹凸槽的第1基板111上，形成半透明的反射膜118(這里是以Ag為主要成分的金屬膜)約20nm，形成第2信息記錄層119。另外，該反射膜也可以是以Rh為主要成分的金屬，也可以形成電介質反射膜。圖26(b)的第2基板121是厚度為80μm，直徑為119.5mm，中心孔122直徑為22mm的聚碳酸酯制成的片狀基板，沒有信息記錄層且平坦。第2基板121是由通過鑄塑法制成的片材上切取的物質。第2基板121也可以由丙烯酸類或降冰片烯類樹脂材料構成。
如圖26(c)所示，用第4輻射固化性樹脂(下面稱為“輻射固化性樹脂LC”)124膠合該第2基板122和形成了第1和第2信息記錄層116和119的第1基板111，其中以具有信息記錄層116、119的主面作為內側。此時的膠合，與上述膠合第1基板111和樹脂原模101的方法相同，在一個基板上涂覆輻射固化性樹脂LC大致成圓環狀，疊合后，使通過輻射固化性樹脂LC成為一體的第1基板111和第2基板121旋轉，大致均勻地延展輻射固化性樹脂LC。然后，照射輻射線，使輻射固化性樹脂LC固化。
如上所述，作為透光層，通過使用片狀的第2基板，容易使透光層的厚度大致均勻。輻射固化性樹脂LB和輻射固化性樹脂LC也可以是同一物質。通過使形成透光層后的信息記錄層的厚度為1.2mm，能夠確保與CD或DVD厚度的互換性。
另外，樹脂原模101與第1基板111，或第1基板111與第2基板121的膠合也可以在真空中進行。下面，作為一個實例說明膠合第1基板111和第2基板121的場合。如圖27(a)所示，在膠合的一個或兩個基板111、121上，旋轉涂覆輻射固化性樹脂，然后，如圖27(b)所示在真空室303中疊合，通過輻射線照射使輻射固化性樹脂固化。這樣，由于在真空中進行膠合，不用擔心氣泡的混入。而且，也提高了基板或樹脂原模與輻射固化性樹脂的密合性。從而也具有提高凹凸槽復制性的效果。
如果用輻射固化性樹脂形成透光層，能夠降低成本。在本實施例中，設置了用于保護第2信息記錄層的透光層，但是即使沒有透光層，只要光信息記錄層穩定，也可以不設置透光層。
(實施例5)用圖28至圖29說明本發明的光盤制造方法的其它例子。圖28表示本實施例的光盤制造方法的全部流程。另外，對于與上述實施例中已說明的制造方法相同的部分，有時不再重復說明。樹脂原模101和第1基板111是與上述實施例中所述的相同物質。
如圖29(a)所示，在第1基板411的信號記錄層416上設置輻射固化性樹脂LB414，照射輻射線，使輻射固化性樹脂LB固化。與實施例4的圖21(b)、(c)同樣，通過旋轉使之設置成大致均勻。然后，通過與實施例4的圖23(c)、圖24(a)同樣的方法，如圖29(b)所示，用輻射固化性樹脂LA404膠合使用樹脂材料的原模401和第1基板411，照射輻射線，使輻射固化性樹脂LA固化。
由于使樹脂原模401與第1基板411的內徑大致相等，從而能夠使第1基板的信息記錄層SA的中心和樹脂原模凹凸槽403的中心重合。在通過旋轉延展輻射固化性樹脂LA時，通過在旋轉臺上設置與中心孔402、412直徑大致相同的中軸，可以使該操作容易進行。在欲使偏心更小時，也可以在延展輻射固化性樹脂后且使之固化前，設置使中心重合的部件。通過照射輻射線使輻射固化性樹脂LA固化。與實施例1中所述的同樣，由于第1基板上有信息記錄層SA，所以通過從第1基板側照射輻射線難于使輻射固化性樹脂LA固化。因此，原模的輻射線透過量必須能夠足以使輻射固化性樹脂固化。在本實施例中，使用由透明的聚碳酸酯材料構成的原模，從而使該操作容易進行。只要輻射線的透過量充分，也可以使用其他材料。
如實施例4所述，也可以在真空中進行樹脂原模401與基板411的膠合。由于在真空中進行膠合，不用擔心氣泡的混入。而且，也提高了基板或樹脂原模與輻射固化性樹脂的密合性。從而也具有提高凹凸槽復制到輻射固化性樹脂LA上的復制性的效果。
與實施例4的圖24(a)或(b)同樣，從輻射固化性樹脂LA108剝離樹脂原模401。此時，輻射固化性樹脂LA優選密合性、復制性好，對原模401粘合力弱的物質。此時，為了防止由于輻射固化性樹脂LA與第1基板411粘合而引起的剝離困難，將輻射固化性樹脂LB設置于第1基板411的外周端之內，使輻射固化性樹脂LB的內周端比輻射固化性樹脂LA的內周端小。這樣，通過利用2種輻射固化性樹脂，能夠將復制性和粘合性的效果分配給不同的輻射固化性樹脂，易于開發輻射固化性樹脂。
另外，考慮到與輻射固化性樹脂LA剝離的難易程度，也可以對原模401實施易于脫膜的處理。可以形成例如以Si、Ag、Au等金屬為主要成分的膜或電介質薄膜等金屬以外的膜。而且，也可以在樹脂原模401的凹凸槽或者樹脂原模401上形成的薄膜上涂覆脫膜劑。
在信息記錄層416對牽引力的強度低的場合，剝離樹脂原模401時，會使信息記錄層416受到損傷。因此，與實施例4的圖25相同，通過預先在信息記錄層416上設置用于保護的輻射固化性樹脂HC，可以避免損傷。此時，優選將輻射固化性樹脂設置成至少由信息記錄層416的內周端覆蓋至外周端。而且，優選設置成內周覆蓋第1基板411的壓板領域的一部分或全部，外周覆蓋至第1基板411的外周端。此時，優選輻射固化性樹脂HC的鉛筆硬度在B以上。
以下的在復制了凹凸槽的第1基板上形成半透明的反射膜，形成透光層等步驟與實施例4相同。這樣，能夠得到與實施例4圖26(c)同樣的光信息記錄介質。
(實施例6)用圖30至31說明本發明的光盤制造方法的其它例子。圖30表示本實施例的光盤制造方法的全部流程。另外，對于與上述實施例中已說明的制造方法相同的部分，說明從略。樹脂原模101和第1基板111是與上述實施例中所述的相同物質。
如圖31(a)所示，在樹脂原模501的凹凸槽503上設置輻射固化性樹脂LA504，如圖31(b)所示，在第1基板511的信號記錄層SA516上設置輻射固化性樹脂LB514。然后，與實施例4的圖21(b)、(c)同樣，通過旋轉使之設置成大致均勻。
然后，與圖21(c)的場合同樣，使輻射固化性樹脂LA與輻射固化性樹脂LB相對，將樹脂原模501和第1基板511疊合(參照圖31(c))。此時的疊合為了防止混入氣泡，在真空中進行。疊合后照射輻射線，使輻射固化性樹脂LA和輻射固化性樹脂LB固化。由于第1基板511上有信息記錄層516，所以通過從第1基板511側照射輻射線難以使輻射固化性樹脂LA固化。因此，原模501的輻射線透過量必須能夠足以使輻射固化性樹脂固化。在本實施例中，使用由透明的聚碳酸酯材料構成的原模，從而使該操作容易進行。只要輻射線的透過量充分，也可以使用其他材料。
通過使樹脂原模501與第1基板511的內徑大致相等，能夠使第1基板的信息記錄層SA的中心和樹脂原模凹凸槽503的中心重合。在通過旋轉延展輻射固化性樹脂LA時，通過在旋轉臺上設置與中心孔502、512直徑大致相同的中軸，可以使該操作容易進行。在欲使偏心更小時，也可以在延展輻射固化性樹脂后且使之固化前，設置使中心重合的部件。
與實施例4的圖24(a)或(b)同樣，剝離樹脂原模。輻射固化性樹脂LA優選密合性、復制性好，與原模的粘合力弱的物質。另外，輻射固化性樹脂LB優選與第1基板的信息記錄層和輻射固化性樹脂LA的粘合力高的物質。此時，由于輻射固化性樹脂LA與第1基板，或者輻射固化性樹脂LB與樹脂原模粘合而引起剝離困難，將輻射固化性樹脂LB設置于第1基板的外周端以內，輻射固化性樹脂LA設置于樹脂原模的外周端以內。通過利用2種輻射固化性樹脂，能夠將復制性和粘合性的效果分配給不同的輻射固化性樹脂，易于開發輻射固化性樹脂。
另外，與實施例4的場合同樣，考慮到與輻射固化性樹脂LA剝離的難易程度，也可以對原模501實施易于脫膜的處理。
另外，與實施例4的圖25同樣，通過預先在信息記錄層SA上設置用于保護的輻射固化性樹脂HC，能夠使信息記錄層SA避免損傷。此時，優選將輻射固化性樹脂設置成至少由信息記錄層SA的內周端覆蓋至外周端。而且，優選設置成內周覆蓋第1基板的壓板領域的一部分或全部，外周覆蓋至第1基板的外周端。此時，優選輻射固化性樹脂HC的鉛筆硬度在B以上。
以下的在復制了凹凸槽的第1基板上形成半透明的反射膜，形成透光層等步驟與實施例4相同。這樣，能夠得到與實施例4圖26(c)同樣的光信息記錄介質。
(實施例7)用圖32至35說明本發明的光盤制造方法的其它例子。圖32表示本實施例的光盤制造方法的全部流程。另外，對于與上述實施例中已說明的制造方法相同的部分，說明從略。樹脂原模101和第1基板111是與上述實施例中所述的相同物質。
圖33(a)的樹脂原模801是通過注射成型形成的厚度為1.1mm，外徑為120mm，中心孔802直徑為15mm的聚碳酸酯基板，在一個主面上設置凹凸槽803。樹脂原模801也可以是聚碳酸酯以外的樹脂材料，例如丙烯酸類樹脂、聚烯烴類樹脂等。另外，其中樹脂原模的厚度為1.1mm，也可以使用更薄的，例如約0.6mm的物質。通過使之變薄，能夠降低材料成本。
如圖33(b)所示，在樹脂原模801的凹凸槽803上形成第1薄膜(下面稱為“薄膜FA”)804。其中，薄膜FA通過濺射Au約20nm形成。然后，如圖33(c)所示，在薄膜FA804上形成第2薄膜(下面稱為“薄膜FB”)814。其中，薄膜FB通過濺射SiO2約20nm形成。
圖34(a)的第1基板811是通過注射成型形成的厚度為1.1mm，外徑為120mm，中心孔812直徑為15mm的聚碳酸酯基板，在一個主面上設置由凹凸槽813和Al反射膜815構成的信息記錄層816。第1基板811也可以是聚碳酸酯以外的樹脂材料，例如丙烯酸類樹脂、聚烯烴類樹脂。另外，由于第1基板不是記錄和再生側基板，所以也可以使用透光率低的不透明樹脂。
與實施例4的圖22(c)至圖23(c)所示相同，如圖34(b)所示，用輻射固化性樹脂LD824膠合樹脂原模801和第1基板811。通過使樹脂原模801與第1基板811的內徑大致相同，能夠使第1基板811的信息記錄層816的中心與樹脂原模801的凹凸槽803的中心重合。在通過旋轉延展輻射固化性樹脂LD824時，在旋轉臺上設置與中心孔802、812直徑大致相同的中軸，從而使其能夠容易進行。欲進一步減小偏心時，也可以在延展輻射固化性樹脂后且使之固化前，設置使中心重合的部件。
按照與實施例4的圖24(a)或24(b)同樣的方法，在薄膜FA804和薄膜FB814的界面剝離樹脂原模801。這樣，能夠在第1基板811上形成圖34(c)所示的由SiO2構成的凹凸槽808。由于Au與SiO2的粘合力弱，因而剝離變得非常容易。考慮到剝離和復制性，也可以改變薄膜的組合。薄膜FA和薄膜FB也可以分別由多種材料構成。但是，為了使記錄再生光透過薄膜FB，優選是透明的。由于薄膜FB與樹脂原模粘合而引起剝離困難，優選使薄膜FA的外周端比薄膜FB的外周端大，而且薄膜FA的內周端比薄膜FB的內周端小。
另外，如圖25所示，通過預先在信息記錄層SA上設置用于保護的輻射固化性樹脂HC，能夠避免損傷。此時，優選將輻射固化性樹脂HC設置成至少由信息記錄層SA的內周端覆蓋至外周端。而且，優選設置成內周覆蓋第1基板的壓板領域的一部分或全部，外周覆蓋至第1基板的外周端。此時，優選輻射固化性樹脂HC的鉛筆硬度在B以上。
在復制了凹凸槽的第1基板811上，如圖35所示形成半透明的反射膜(這里是以Ag為主要成分的金屬膜)818約20nm，形成第2信息記錄層819。以下的形成透光層等步驟與實施例4相同。這樣，能夠得到圖35(b)所示的光信息記錄介質。
(實施例8)通過上述實施例4至7中的任意一種制造方法已經敘述了，能夠容易地在第1基板的第1信息記錄層上形成第2信息記錄層。實施例1至7中，說明了如圖26(c)和圖35(b)所示的具有2層結構的信息記錄介質，但也可以通過使用與實施例4至7中所述的同樣方法反復操作，制造在第1基板的第1信息記錄層上具有如圖36(a)、(b)所示的3層結構或4層結構、甚至4層以上的多層結構的信息記錄介質。
其中，將輻射固化性樹脂HC作為保護層，將輻射固化性樹脂LB或輻射固化性樹脂LD作為中間層，將包括輻射固化性樹脂LA或薄膜FB以及其上的信息記錄層作為記錄層。如實施例4至7所述，只要在剝離原模時不會使信息記錄層發生損傷或腐蝕等劣化，也可以沒有保護層。如上述實施例所述，也可以沒有透光層，但為了保護信息記錄層優選形成透光層。記錄再生的光學體系可以使N.A.達到0.9的程度，波長達到400nm的程度。為了保持與DVD相同程度的傾斜界限，使透光層的厚度為約0.1mm。
這樣，只要是具有1個以上由保護層和中間層及記錄層或中間層和記錄層組成的基本層的重復結構的信息記錄層，即可通過上述實施例4至7中所述的方法，成為具有多個信息記錄層的高密度化的信息記錄介質，而且容易生產。考慮到各信息記錄層記錄再生時的串音、互相抹除、球面象差的影響，基本層的厚度為15μm以上，45μm以下。而且優選20μm以上，40μm以下。
考慮到記錄再生光的劣化等影響，使用保護層與中間層的折射率大致相同的物質。另外，考慮到吸收引起的光劣化，使用保護層或中間層為大致透明的物質。各信息記錄層以及記錄層可以是再生專用型，也可以是可記錄型。而且，也可以在一個信息記錄層中同時存在上述兩種。
采用實施例3至8，容易制造多層光信息記錄介質。特別是對記錄和再生側基板薄型化的光信息記錄介質，也能夠容易地制造多層光信息記錄介質。另外，由于使用由透過一部分特定波長輻射線的硬質材料構成的原模，特別是由樹脂材料構成的原模，因而原模質輕，而且具有柔性，因此容易操作。
另外，使用與膠合DVD等光盤的設備大致相同的裝置，使之旋轉，能夠大致均勻地延展用于復制的輻射固化性樹脂。而且，即使在不能剝離原模，必須更換原模的場合，由于是樹脂原模，能夠通過注射成型大量且廉價地進行生產。按照本發明，能夠得到上述有益的效果。
以上說明的各實施例中，為了復制凹凸槽而剝離的樹脂原模可以直接再次利用，如果由于反復利用使信號復制的效率變差也可以廢棄。由于利用廉價的樹脂材料作為原模，因而即使是廢棄的場合，與準備幾個金屬材料的原模相比，成本要低。而且，能夠通過注射成型大量生產原模。
另外，上述各實施例中，作為信息記錄層將信息信號作為凹凸槽進行記錄并且設置了反射層的所謂再生專用型記錄介質進行了說明。但是，本發明并不只限于此，也可適用于由制成磁盤后可進行信號記錄再生的薄膜層構成的可記錄型記錄介質。
另外，對于上述各實施例，也可以在樹脂原模上設置溝代替凹凸槽，然后將其進行復制。
本發明對特定的實施例進行了說明，但本領域技術人員可以進行大量的變形、修改以及其他利用。因而，本發明并不只限于這里的特定公開，可以僅根據權利要求的范圍進行限定。
按照本發明，能夠容易地制造在不能注射成型的0.3mm以下的基板上具有信息記錄層的高密度化光盤。
權利要求
1.一種光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，將一個主面上具有形成了薄膜的溝或凹凸槽且具有透光性的原模和厚度在0.3mm以下的第2基板，以上述溝或凹凸槽作為內側，用輻射固化性樹脂膠合，固化上述輻射固化性樹脂，通過剝離上述原模，在上述第2基板上形成上述溝或凹凸槽，在上述第2基板的上述溝或凹凸槽上形成金屬膜或記錄膜，在上述第2基板上形成第2信息記錄層，以上述信息記錄層作為內側，膠合第1基板和形成了上述第2信息記錄層的上述第2基板。
2.一種如權利要求1所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，在上述第1基板與上述第2基板膠合的面上具有第1信息記錄層。
3.一種如權利要求1或2所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，由上述第2基板側照射用于記錄或再生的光線。
4.一種如權利要求1所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述原模通過注射成型形成。
5.一種如權利要求1或4所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述原模由樹脂材料構成。
6.一種如權利要求5所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述樹脂材料為聚碳酸酯。
7.一種如權利要求1所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，用上述輻射固化性樹脂膠合上述原模和上述第2基板時，使通過上述輻射固化性樹脂成為一體的上述原模和上述第2基板旋轉，大致均勻地延展上述輻射固化性樹脂。
8.一種如權利要求1所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，用上述輻射固化性樹脂膠合上述原模和上述第2基板時，對上述原模與上述第2基板中至少一個，在一部分或全部膠合面上大致均勻地設置上述輻射固化性樹脂，然后在真空中膠合上述原模和上述第2基板。
9.一種如權利要求1所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述薄膜為金屬膜或準金屬膜。
10.一種如權利要求9所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述金屬膜或準金屬膜為Al或以Al為主要成分的金屬。
11.一種如權利要求9所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述金屬膜或準金屬膜為Si或以Si為主要成分的金屬。
12.一種如權利要求1所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，在上述薄膜上涂覆脫膜劑。
13.一種如權利要求1所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述第2基板的厚度為約0.1mm。
14.一種如權利要求1所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，將上述第1基板和上述第2基板膠合后壓板部分的厚度為約1.2mm。
15.一種如權利要求1所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述原模的厚度與上述第1基板的厚度大體相等。
16.一種如權利要求1所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述原模和上述第2基板同時具有中心孔，而且上述原模的中心孔與上述第2基板的中心孔的孔徑不同。
17.一種如權利要求1所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述原模與上述第2基板的外徑不同。
18.一種如權利要求1所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，在具有上述溝或槽的上述第2基板的、與具有上述溝或槽的面相對的一面上膠合支持基板，在上述溝或槽上形成反射膜或記錄膜，形成上述第2信息記錄層。
19.一種如權利要求18所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述第2基板和上述支持基板的總厚度與上述原模或上述第1基板的厚度大致相同。
20.一種光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，將一個主面上有溝或凹凸槽且具有透光性的原模和具有第1信息記錄層的第1基板用輻射固化性樹脂膠合，使上述溝或凹凸槽與上述第1信息記錄層相對，固化輻射固化性樹脂，通過剝離上述原模，在上述第1基板的上述第1信息記錄層上形成上述溝或凹凸槽，在上述第1基板的溝或凹凸槽上形成金屬膜或記錄膜，從而在上述第1基板上形成第2信息記錄層，而且在上述第2信息記錄層上形成透光層。
21.一種如權利要求20所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述透光層的厚度在0.3mm以下。
22.一種如權利要求20或21所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述透光層的厚度為約0.1mm。
23.一種如權利要求20所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述透光層用輻射固化性樹脂形成。
24.一種如權利要求20所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，通過膠合上述第1基板和第2基板形成上述透光層。
25.一種如權利要求20所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述原模通過注射成型形成。
26.一種如權利要求20或25所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述原模由樹脂構成。
27.一種如權利要求20所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，用上述輻射固化性樹脂膠合上述原模和上述第1基板時，使通過上述輻射固化性樹脂成為一體的上述原模和上述第1基板旋轉，大致均勻地延展上述輻射固化性樹脂。
28.一種如權利要求20所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，用上述輻射固化性樹脂膠合上述原模和上述第1基板時，對上述原模或上述第1基板中至少一個，在一部分或全部膠合面上大致均勻地設置上述輻射固化性樹脂，然后在真空中膠合上述第1基板和上述原模。
29.一種如權利要求20所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，在上述原模的上述凹凸槽上涂覆脫膜劑。
30.一種如權利要求20所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，在上述原模的上述溝或凹凸槽上形成薄膜。
31.一種如權利要求30所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述薄膜為金屬膜或準金屬膜。
32.一種如權利要求31所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述金屬膜或準金屬膜為Si或以Si為主要成分的金屬。
33.一種如權利要求30所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述薄膜為電介質。
34.一種如權利要求30所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，在上述薄膜上涂覆脫膜劑。
35.一種如權利要求20所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，通過上述輻射固化性樹脂使上述原模和上述第1基板成為一體后，使上述輻射固化性樹脂固化時，沿著與上述原模的主面大致平行的方向照射輻射線。
36.一種如權利要求20所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，壓板部分的厚度為約1.2mm。
37.一種如權利要求20所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述原模的厚度與上述第1基板的厚度大致相等。
38.一種如權利要求20所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述原模和上述第1基板同時具有中心孔，而且上述原模的中心孔與上述第1基板的中心孔的孔徑大致相同。
39.一種如權利要求20所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述原模與上述第1基板的外徑不同。
40.一種光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，包括下述步驟第1步，對一個主面上有溝或凹凸槽的原模，在上述溝或凹凸槽上設置第1輻射固化性樹脂，然后固化上述第1輻射固化性樹脂；第2步，用第2輻射固化性樹脂膠合上述原模和一個主面上具有第1信息記錄層的第1基板，使上述第1輻射固化性樹脂和上述第1信息記錄層相對，然后固化上述第2輻射固化性樹脂；第3步，剝離上述原模，然后在上述第1基板上形成由上述第1輻射固化性樹脂構成的上述溝或凹凸槽；第4步，在上述第1基板的溝或凹凸槽上形成反射膜或記錄膜，從而形成第2信息記錄層。
41.一種光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，包括下述步驟第1步，對一個主面上有第1信息記錄層的第1基板，在上述第1信息記錄層上設置第2輻射固化性樹脂，然后固化上述第2輻射固化性樹脂；第2步，用第1輻射固化性樹脂膠合一個主面上有溝或凹凸槽的原模和上述第1基板，使上述溝或凹凸槽與上述第2輻射固化性樹脂相對，然后固化上述第1輻射固化性樹脂；第3步，剝離上述原模，然后在上述第1基板上形成由第1輻射固化性樹脂LA構成的上述溝或凹凸槽；第4步，在上述第1基板的溝或凹凸槽上形成反射膜或記錄膜，從而形成第2信息記錄層。
42.一種光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，包括下述步驟第1步，對一個主面上有溝或凹凸槽的原模，在上述溝或凹凸槽上設置第1輻射固化性樹脂；第2步，在一個主面上有第1信息記錄層的第1基板的第1信息記錄層上設置第2輻射固化性樹脂；第3步，使上述第1輻射固化性樹脂和上述第2輻射固化性樹脂LB相對，膠合上述原模和上述第1基板，然后固化上述第1輻射固化性樹脂和上述第2輻射固化性樹脂；第4步，剝離上述原模，然后在上述第1基板上形成由上述第1輻射固化性樹脂構成的上述溝或凹凸槽；第5步，在上述第1基板的溝或凹凸槽上形成反射膜或記錄膜，從而形成第2信息記錄層。
43.一種光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，包括下述步驟第1步，在一個主面上有溝或凹凸槽的原模的上述溝或凹凸槽上形成由1層或多層組成的第1薄膜；第2步，在上述第1薄膜上形成由1層或多層組成的第2薄膜；第3步，使上述第2薄膜與上述第1信息記錄層相對，用輻射固化性樹脂膠合上述原模和一個主面上有第1信息記錄層的第1基板，固化；第4步，在上述第1薄膜與上述第2薄膜的界面剝離上述原模和上述第1基板，從而在上述第1基板上形成由上述第2薄膜構成的上述溝或凹凸槽；第5步，在上述第1基板的上述溝或凹凸槽上形成反射膜或記錄膜，從而形成第2信息記錄層。
44.一種如權利要求40至43中任意一項所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，預先在上述第1基板的上述第1信息記錄層上設置第3輻射固化性樹脂，然后固化該第3輻射固化性樹脂。
45.一種如權利要求44所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述第3輻射固化性樹脂的鉛筆硬度在B以上。
46.一種如權利要求44所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述第3輻射固化性樹脂至少設置在上述第1信息記錄層的內周端至外周端。
47.一種如權利要求40至43中任意一項所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，具有在上述第2信息記錄層上形成透光層的步驟。
48.一種如權利要求47所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述透光層的厚度在0.3mm以下。
49.一種如權利要求48所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述透光層的厚度為約0.1mm。
50.一種如權利要求47所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述透光層由輻射固化性樹脂構成。
51.一種如權利要求47所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述透光層由輻射固化性樹脂和樹脂基板構成。
52.一種如權利要求40至42中任意一項所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述原模透過至少一部分使第1輻射固化性樹脂或第2輻射固化性樹脂固化的波長的輻射線。
53.一種如權利要求43所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述原模、上述第1薄膜和上述第2薄膜透過至少一部分使輻射固化性樹脂固化的波長的輻射線。
54.一種如權利要求40至43中任意一項所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述原模由樹脂材料構成。
55.一種如權利要求54所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述原模通過注射成型形成。
56.一種如權利要求54所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述原模由聚碳酸酯構成。
57.一種如權利要求40所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，用上述第2輻射固化性樹脂膠合上述原模和上述第1基板時，使通過上述第2輻射固化性樹脂成為一體的上述原模和上述第1基板旋轉，大致均勻地延展上述第2輻射固化性樹脂。
58.一種如權利要求41所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，用上述第1輻射固化性樹脂膠合上述原模和上述第1基板時，使通過上述第1輻射固化性樹脂成為一體的上述原模和上述第1基板旋轉，大致均勻地延展上述第1輻射固化性樹脂。
59.一種如權利要求43所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，用上述輻射固化性樹脂膠合上述原模和上述第1基板時，使通過上述輻射固化性樹脂成為一體的上述原模和上述第1基板旋轉，大致均勻地延展上述輻射固化性樹脂。
60.一種如權利要求40所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，用上述第2輻射固化性樹脂膠合上述原模和上述第1基板時，在上述原模或上述第1基板中至少一個的一部分或全部膠合面上大致均勻地設置上述第2輻射固化性樹脂，然后在真空中膠合上述第1基板和上述原模。
61.一種如權利要求41所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，用上述第1輻射固化性樹脂膠合上述原模和上述第1基板時，在上述原模或上述第1基板中至少一個的一部分或全部膠合面上大致均勻地設置上述第1輻射固化性樹脂，然后在真空中膠合上述第1基板和上述原模。
62.一種如權利要求42所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，使上述第1輻射固化性樹脂和上述第2輻射固化性樹脂相對，然后在真空中疊置、膠合上述原模和上述第1基板。
63.一種如權利要求43所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，用上述輻射固化性樹脂膠合上述原模和上述第1基板時，在上述原模或上述第1基板中至少一個的一部分或全部膠合面上大致均勻地設置上述輻射固化性樹脂，然后在真空中膠合上述第1基板和上述原模。
64.一種如權利要求40所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述第1輻射固化性樹脂的內徑與上述第2輻射固化性樹脂的內徑相同，或者比其小。
65.一種如權利要求40或42所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述第1輻射固化性樹脂設置于上述原模的外周端之內。
66.一種如權利要求41所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述第2輻射固化性樹脂的內徑與上述第1輻射固化性樹脂的內徑相同，或者比其小。
67.一種如權利要求41或42所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述第2輻射固化性樹脂設置于上述第1基板的外周端之內。
68.一種如權利要求43所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述第1薄膜和第2薄膜的內徑與上述輻射固化性樹脂的內徑相同，或者比其小。
69.一種如權利要求43所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述第1薄膜和上述第2薄膜在上述原模的外周端之內成膜。
70.一種如權利要求40至42中任意一項所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，對上述原模的上述溝或凹凸槽進行使之易于脫膜的處理。
71.一種如權利要求70所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，在上述原模的上述溝或凹凸槽上涂覆脫膜劑。
72.一種如權利要求70所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，在上述原模的上述溝或凹凸槽上形成以金屬為主要成分的膜或者電介質膜。
73.一種如權利要求43所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述第1薄膜為Au，且上述第2薄膜為SiO2。
74.一種如權利要求40至43中任意一項所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述原模和上述第1基板同時具有中心孔，而且上述原模的中心孔與上述第1基板的中心孔的孔徑大致相同。
75.一種如權利要求1所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，具有用輻射固化樹脂膠合上述樹脂原模和上述第2基板時，使上述樹脂原模旋轉，大致均勻地延展上述輻射樹脂的步驟，且在比上述固化步驟低的壓力下進行上述延展步驟。
76.一種如權利要求20所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，具有用輻射固化樹脂膠合上述樹脂原模和上述第1基板時，使上述樹脂原模旋轉，大致均勻地延展上述輻射樹脂的步驟，且在比上述固化步驟低的壓力下進行上述延展步驟。
77.一種如權利要求40或41所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述第2步驟具有使上述樹脂原模旋轉，大致均勻地延展上述輻射樹脂的步驟，且在比上述固化步驟低的壓力下進行上述延展步驟。
78.一種如權利要求42或43所述的光信息記錄介質的制造方法，其特征在于，上述第3步驟具有使上述樹脂原模旋轉，大致均勻地延展上述輻射樹脂的步驟，且在比上述固化步驟低的壓力下進行上述延展步驟。
79.一種光信息記錄介質，由權利要求1、20、40、41、42或43中所述的制造方法制造。
80.一種光信息記錄介質，其特征在于，在具有信息記錄層的基板上疊置1個以上由中間層、記錄層組成的基本層，在其上具有透光層。
81.一種如權利要求80所述的光信息記錄介質，其特征在于，上述基本層還可以具有保護層。
82.一種如權利要求80所述的光信息記錄介質，其特征在于，上述透光層的厚度在0.3mm以下。
83.一種如權利要求82所述的光信息記錄介質，其特征在于，上述透光層的厚度為約0.1mm。
84.一種如權利要求83所述的光信息記錄介質，其特征在于，上述基本層的厚度在15μm以上45μm以下。
85.一種如權利要求80所述的光信息記錄介質，其特征在于，上述透光層由輻射固化性樹脂構成。
86.一種如權利要求80所述的光信息記錄介質，其特征在于，上述透光層由輻射固化性樹脂和樹脂基板構成。
87.一種如權利要求80所述的光信息記錄介質，其特征在于，上述記錄層由具有溝或凹凸槽的輻射固化性樹脂和在上述溝或凹凸槽上形成的反射膜或記錄膜構成。
88.一種如權利要求80所述的光信息記錄介質，其特征在于，上述中間層具有粘接功能。
89.一種如權利要求80所述的光信息記錄介質，其特征在于，上述中間層由輻射固化性樹脂構成。
90.一種如權利要求80所述的光信息記錄介質，其特征在于，上述保護層的鉛筆硬度在B以上。
91.一種如權利要求81所述的光信息記錄介質，其特征在于，上述保護層由輻射固化性樹脂構成。
92.一種如權利要求80所述的光信息記錄介質，其特征在于，上述保護層與上述中間層的折射率大致相同。
93.一種如權利要求80所述的光信息記錄介質，其特征在于，上述保護層和上述中間層對記錄再生光大致透明。
94.一種如權利要求80所述的光信息記錄介質，其特征在于，上述中間層對記錄再生光大致透明。
95.一種光信息記錄介質，其特征在于，由第1基板和比該第1基板薄的第2基板組成，在第1基板和第2基板之間設置2個信息記錄層。
96.一種光信息記錄介質，其特征在于，由第1基板和透光層組成，在第1基板和透光層之間設置2個信息記錄層，其中上述透光層設置在上述第1基板上且由輻射固化樹脂構成。
全文摘要
伴隨著光盤的高密度化,如果透光層的厚度變薄達到0.3mm以下,就不能通過注射成型基板形成透光層。因此,難以形成信號記錄層,難于使光盤成為多層結構。在光盤的制造方法中,包括:將一個主面上具有形成了薄膜的凹凸槽的樹脂原模和厚度在0.3mm以下的第2基板,以凹凸槽作為內側,用輻射固化性樹脂膠合(S1),固化輻射固化性樹脂后,通過剝離樹脂原模,在第2基板上形成凹凸槽(S2),在第2基板的凹凸槽上形成金屬膜,在第2基板上形成信息記錄層(S3),以信息記錄層作為內側,膠合形成了信息記錄層的第1基板和形成了信息記錄層的第2基板(S4)。
文檔編號B29D17/00GK1343977SQ0114210
公開日2002年4月10日 申請日期2001年9月12日 優先權日2000年9月12日
發明者久田和也, 林一英, 大野銳二 申請人:松下電器產業株式會社