專利名稱：氣霧劑噴射設備的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種用于以噴霧的形式排放液體產品(例如，諸如空氣清新劑的家用產品)的氣霧劑噴射設備。本發明特別應用于利用壓縮氣體推進劑而非液化氣體推進劑的氣霧劑噴射設備。
背景技術：
廣泛而言，氣霧劑噴射設備包括將待被排放的液體保持在一起的容器和與閥門系統裝置關聯的出口噴嘴，閥門系統裝置可選擇性地操作以允許液體借助容器內提供的推進劑從噴嘴作為噴霧被排放。“壓縮氣體推進氣霧劑”和“液化氣體推進氣霧劑”均已知。前者包括的推進劑為溫度為25° C且壓力為至少50巴(bar)的氣體(例如，空氣、氮氣或二氧化碳)。這種氣體在氣霧劑噴射設備中沒有液化。當閥門系統裝置打開時，壓縮氣體“推動”噴射設備中的液 體通過提供用于霧化的上述噴嘴。事實上，具有兩種類型的“壓縮氣體推進氣霧劑”。在一種類型中，只有來自容器的液體(被壓縮氣體“推出”)被供給到出口噴嘴。在另一種主要類型中，來自容器的推進劑氣體的一部分被泄放至正被供應到噴嘴的液體中，噴嘴使所產生的兩相氣泡充滿(“多泡”)流霧化以產生噴霧。后種方式能產生比前者更細的噴霧。相反，“液化氣體推進氣霧劑”使用既以氣相存在也以液相存在(在氣霧劑噴射設備中)的推進劑并可與后者溶混。例如，推進劑可為丁烷、丙烷及其混合物。在排放時，氣相推進劑“推進”容器中的液體(包括通過噴嘴溶解的液相推進劑)。眾所周知，“液化氣體推進氣霧劑”比“壓縮氣體推進氣霧劑”能夠產生更細的噴霧。這是由于在前者中，大部分液化氣體在從氣霧劑噴射設備排放液體期間“迅速蒸發”，該快速膨脹導致細的噴霧。這種細的噴霧通常不能通過上述兩種主要形式的“壓縮氣體推進氣霧劑”實現。已經嘗試改進由“壓縮氣體推進氣霧劑”產生的噴霧的“細度”。現有技術提案包括“泄放”存在于容器中的壓縮氣體(例如，氮氣)中的一些且將其與液體產品混合以實現“兩種流體霧化”的可能性，已知這種技術為噴霧技術的其他領域提供細的噴霧，例如液體燃料燃燒。然而，已發現對于氣霧劑噴射設備使用兩種流體霧化以產生細的噴霧特別困難，最接近的方法是使用蒸汽相龍頭的相當物(VPTs被用于“液化氣體推進氣霧劑”中)以將一些氣體泄放至閥中。然而，改進噴霧細度的結果不是顯著有利。WO 90/05580 (Weston等)公開一種用于調整來自被諸如氮氣的永久氣體推進劑加壓的氣霧劑罐的液體產品流的排放閥。該排放閥包括能從第一極限位置移動到第二極限位置的閥桿，以影響從設備經由其噴霧出口區域的噴霧排放。該閥桿形成有流動管道(被稱為“混合腔”)，流動管道形成有至少一個上游液體孔和至少一個下游氣體孔。排放閥包括閥門系統裝置，使得閥桿從第一極限位置到第二極限位置的移動打開液體孔和氣體孔，以使液體/氣體混合物被產生在混合腔中。WO 90/05580的表I給出了混合室、液體孔和氣體孔的橫截面的示例性尺寸，但是沒有給出對其相對尺寸的詳細考慮。
WO 90/05580中設備的混合腔的下游為至少一個限流器，混合物被迫使通過限流器以產生扼流或聲速流，導致混合物膨脹以形成“泡沫混合物”，該“泡沫混合物”被傳到噴霧出口區域的出口孔以從噴射設備排放。限流器被用于WO 90/05580中的氣霧劑噴射設備以確保從出口孔的噴射在設備中的液體成分的排放期間基本恒定。這通過確保在設備中的液體成分將要耗盡時繼續通過每個限流器的殘留壓力仍然足夠高，以產生通過每個限流器的至少大致的扼流并由此在每個限流器后產生沖擊波來實現。更具體而言，流在限流器的下游變為超音速的，并且隨著流隨后從超音速轉為亞音速而產生沖擊波，導致氣體粒子的有力的破裂以產生均勻的泡沫。然而，提供限流器的需要導致相對復雜的構造和排放組件，其不能通過諸如注射模制的大規模生產技術而被容易地生產。與此有關的美國專利申請第61/261，906號公開了一種在“壓縮氣體推進氣霧劑”的情況下產生細的噴霧的氣霧劑噴射設備，但是對于“液化氣體推進氣霧劑”具有一些適用性。在先美國申請公開的實施例包括噴霧排放組件，該噴霧排放組件包括用于將流體從容器供給到設備的噴霧出口區域的流動管道。流動管道具有用于來自容器的液體的至少一個 第一入口和用于來自容器的頭部空間的推擠氣體的至少一個第二入口。噴霧排放組件進一步包括閥門系統裝置，以使閥桿從第一極限位置向第二極限位置的移動打開第一入口和第二入口以使用于供給到噴霧出口區域的氣泡包含流產生在流動管道中。根據在先美國申請的教導，在流動管道的下游提供具有至少一個入口和與排放孔連通的出口的引導腔。引導腔的出口(實際上為排放孔的入口)被尖銳的邊緣圍繞。注射孔被定位在流動管道和引導腔之間，氣泡包含流通過注射孔從流動管道穿過并作為射流流入引導腔中，注射孔被配置為將射流對準尖銳的邊緣。已發現在先美國發明申請由于排放孔中的氣泡包含流的分離和重附著現象而產生細的噴霧。
發明內容
根據本發明的第一方面，提供一種氣霧劑噴射設備，該氣霧劑噴射設備包括容納有待從所述設備通過氣態推進劑被排放的液體的加壓或可加壓的容器和安裝在所述容器上的噴霧排放組件，所述氣態推進劑為在溫度為25°c且壓力為至少50巴的氣體，所述噴霧排放組件包括閥桿，所述閥桿能夠從第一極限位置移動到第二極限位置以影響從所述設備的噴霧排放；噴霧出口區域，所述噴霧出口區域具有出口孔，來自所述容器的流體從所述出口孔被排放；流動管道，所述流動管道用于將流體從所述容器供給到所述噴霧出口區域，所述流動管道具有用于來自所述容器的液體的至少一個第一入口和用于來自所述容器的頭部空間的推進劑氣體的至少一個第二入口，所述第二入口沿所述管道位于與所述第一入口相同的距離處或位于所述第一入口的下游；和閥門系統裝置，所述閥門系統裝置適于使所述閥桿的從所述第一極限位置向所述第二極限位置的移動打開所述第一入口和所述第二入口，以在所述流動管道中產生氣泡包含流，并且所述閥門系統裝置適于使所述閥桿的返回所述第一極限位置的移動關閉所述第一入口和所述第二入口，其中
(i)所述流動管道至少在由下面第(iii)中限定的所述第二入口的區域中具有與直徑為O. 5mm至I. 5mm的圓相當的橫截面面積；(ii)所述第一入口具有的總橫截面面積與直徑為O. 15mm至I. 5mm的圓的面積相當，附加條件是至少一個第一入口具有與直徑為至少O. Imm的圓的面積相當的橫截面面積；并且(iii)所述第二入口具有的總橫截面面積與直徑為O. Imm至O. 7mm的圓的面積相當，附加條件是至少一個第二入口具有與直徑為至少O. IOmm的圓的面積相當的橫截面面積，進一步的附加條件是所述第二入口具有的總橫截面面積比所述第一入口的總橫截面面積小；并且(iv)所述噴霧出口孔具有的橫截面面積比所述第一入口的所述總橫截面面積小且比所述第二入口的所述總橫截面面積大。為了上述限定的目的，所述第一入口的橫截面面積和所述第二入口的橫截面面積 在它們進入所述流動管道的點處被測量。本發明基于以下發現通過所述流動管道的適當的尺寸以及進入所述流動管道的所述第一(液體)入口和所述第二 (氣體)入口的截面尺寸，能夠從氣霧劑噴射設備產生良好的噴霧，而不需要包括如在WO 90/05580的構造中所需要的限流器。這是由于這一事實所述第一(液體)入口和所述管道的相對小的尺寸在所述管道內產生壓降，并產生所述管道中相對高的流體速度，這有助于將氣體拉進通過所述第二 (氣體)入口以產生氣泡包含流，該氣泡包含流導致細的噴霧從所述氣霧劑噴射設備的所述排放孔排放。使用本發明的所述設備在不需要WO 90/05580的構造中所需要的限流器的情況下獲得良好的噴霧的事實意味著本發明的所述排放組件容易適合于通過注射模制并以小數量的部件來生產，該小數量與用于構造用于家用氣霧劑設備的常規的閥門的零件的數量可比或相等。通過采用上面概述的尺寸，根據本發明的氣霧劑設備可具有低于20的氣體/液體體積流速比，更優選地低于15，并且理想的在6-10的范圍內(氣體體積流速按20°C的大氣壓力條件來計算)。已發現本發明特別適用于以下情況噴霧出口區域包括適于在氣泡包含流從設備排放之前將渦流運動傳到氣泡包含流的噴嘴。該噴嘴可為機械破裂單元，在下面給出該機械破裂單元進一步詳細的示例。具有這種單元，已發現正被排放的液體的良好的霧化被獲得，導致細的噴霧。根據本發明的氣霧劑噴射設備非常適于與家用產品結合使用，例如空氣清新劑、拋光劑和除臭劑。優選地，所述流動管道被配置為基本上不擾動所述氣泡包含流到所述設備的所述噴霧出口區域的流動。通過將所述流動管道配置為不存在任何流動擾動而實現基本上不擾動所述氣泡包含流的流動，由此所述氣泡包含流基本以其產生的形成被傳遞到所述噴霧出口區域。另夕卜，一旦所述泡充滿流產生后，存在于所述氣霧劑噴射設備中的所述閥門系統裝置也不應該對所述泡充滿流具有任何實質的影響。因而，在所述泡充滿流的產生與所述氣霧劑噴射設備的所述噴霧出口區域之間的所述氣泡包含流中優選沒有閥門或障礙物。優選地，所述氣泡包含流是這樣的，它包括具有類似直徑而不具有穿越所述流動管道的理想同質氣泡流。在下面給出能夠獲得這種流的所述流動管道和所述第一入口和所述第二入口的適合的尺寸。所述氣泡包含流應該為給予所述流動管道中的所述流足夠短的停留時間的速度，以使氣泡合并或層化不會發生。典型地，流速應該在O. 5至5m/s的范圍內。所述氣泡包含流應該處于Ibar至20bar的壓力，并且在用于家用氣霧劑罐的優選的實施例中在4bar至12bar之間(所述壓力在所述罐的排放期間降低)。包含在所述流動管道中的所述氣泡包含流中的氣體體積與液體體積的比在該管道中的主要壓力下應該在O. 2與3. O之間，更優選地在O. 3與I. 3之間。本發明的所述氣霧劑噴射設備中的所述流動管道可被看作混合腔。如所述第二(氣體)入口的高度處所測量，該流動管道具有與直徑為O. 5至I. 5mm的圓的面積相當的橫 截面面積，更優選地與直徑為O. 8至I. 2mm的圓的面積相當的橫截面面積。例如,該橫截面可為大約1_。所述管道沿其長度可為均勻的和/或圓形的橫截面。所述流動管道(混合腔)可被提供在所述氣霧劑噴射設備的閥桿中，在這種情況下，所述第一入口和所述第二入口也被提供在所述閥桿中(并與所述混合腔連通)。所述噴霧出口孔可具有與直徑為O. 2mm至O. 7mm的圓相當的橫截面面積。液體通過所述第一入口從所述容器被供給到所述流動管道中，優選地在所述第二入口的上游進入所述流動管道，氣體通過所述第二入口從所述容器的所述頭部空間被協防或以其他方式被供給。在替代實施例中，所述第一入口和所述第二入口位于所述管道的橫截面的相同的平面上。所述第一入口和所述第二入口通常將各具有I至6個。所述第一入口理想地為均勻的(優選為圓形的)橫截面,并具有與直徑為O. 15mm至I. 5mm的圓的面積相當的總橫截面面積，更優選地與直徑為O. 15mm至O. 70mm的圓的面積相當，甚至更優選地，對于較低粘度的液體，與直徑為O. 3mm至O. 5mm的圓的面積相當。在具有多于一個第一入口的情況下，那么至少一個這種入口應該具有與直徑至少為O. Imm的圓的面積相當的橫截面面積。所述第二入口理想地也為均勻的(優選為圓形的)橫截面，并具有與直徑為O. Imm至O. 7mm的圓的面積相當的總橫截面面積,更優選地與直徑為O. 15mm至O. 35mm的圓的面積相當。在具有多于一個第二入口的情況下，那么至少一個這種入口應該具有與直徑至少為O. Imm的圓的面積相當的橫截面面積。通過所述入口泄放的氣體的量可為液體體積的4至8倍，其中所述氣體體積規定為在大氣壓力和20°C。更高的數值可導致所述罐壓快速下降，并導致在所有罐壓已被耗盡時液體仍在所述罐中，除非所述罐的初始填充比(初始液體體積除以總的罐體積)被減少低于50%，從家用氣霧劑對購買者的吸引力的角度，這是不期望的。所述噴射設備可包括致動器組件，該致動器組件被安裝在所述閥桿上并包括所述噴霧出口區域。在這種情況下，所述致動器組件將包括提供用于所述流動管道與所述噴霧出口區域之間的連通的排放管道。所述流動管道可為圓形截面，所述排放管道也可為圓形截面。優選地，所述流動管道和所述排放管道為相同的直徑，理想地在O. 5mm至I. 5mm的范圍內。所述流動管道和所述排放管道各自可具有3至50倍于它們的直徑的長度。所述排放管道貫穿其長度可與所述流動管道共線。可替代地，所述排放管道可以兩部分被形成，即第一部分與所述流動管道共線，第二部分與所述流動管道成角度(例如垂直于所述流動管道)。在所述流動管道被提供在所述氣霧劑噴射設備的閥桿中，同時所述第一入口和所述第二入口也被提供在所述閥桿中的情況下，所述閥門系統裝置可包括在所述閥桿處于所述第一位置時分別關閉所述第一入口和所述第二入口的第一密封件和第二密封件。可選擇地，所述閥門系統裝置包括兩個所述密封件，兩個所述密封件中的一個位于所述閥桿的所述第一位置的上游，另一個位于所述閥桿的所述第一位置的下游。可替代地，在所述流動管道被提供在所述氣霧劑噴射設備的閥桿中，同時所述第一入口和所述第二入口也被提供在所述閥桿中的情況下，所述閥門系統裝置可包括單個密封件，同時所述第一入口和所述第二入口被配置為通過所述單個密封件而被關閉。所述閥桿的下部區域可位于殼體內，并且所述密封件或每個密封件可被安裝在所述殼體上以與所述閥桿相對滑動接合。具有這種布置，所述殼體的一部分優選在所述第二入口區域圍繞所述閥桿接合。
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所述密封件或每個密封件可為O形環。如上面所指出，本發明對這種噴射設備特別有效，噴霧出口區域包括適于在所述氣泡包含流從所述設備排放之前將渦流運動傳到氣泡包含流的噴嘴。所述噴嘴可為常規的機械破裂單元。因而，所述噴嘴可包括排放孔、圍繞所述排放孔提供的渦流腔以及一個或多個從所述渦流腔向外延伸的溝道(“渦流溝道”或“渦流臂”)。在這種布置中，所述流動管道與所述溝道的外端連通(例如，經由致動器組件中的排放管道)，從而所述氣泡包含流被供給到所述渦流腔以通過所述孔排放。例如，所述噴嘴的所述排放孔可具有O. 15至O. 5_的直徑。可具有I至8個渦流溝道,每個渦流溝道具有O. lmm-0. 5mm的寬度和O. Imm至O. 5mm的深度。所述渦流腔可為直徑為O. 3mm至2mm的圓形。所述噴嘴可包括插件，該插件具有的面定位為抵靠所述設備的所述噴霧出口區域中的凸出物的面，其中所述排放孔被提供在所述插件中，并且其中所述凸出物的所述面和所述插件被配置為限定所述渦流腔和所述溝道。根據本發明的第一方面的氣霧劑設備可包含從由藥劑、農用化學品、芳香劑、空氣清新劑、氣味中和劑、消毒劑、拋光劑、殺蟲劑、脫毛化學品(諸如巰基乙酸鈣)、去毛化學品、美容劑、除臭劑、止汗劑、防菌劑、防過敏化合物以及其兩個或更多的混合物組成的組中選擇的材料。特別地，所述設備包含藥劑成分、芳香劑成分、氣味中和劑成分或脫毛劑成分。例如，用于本發明的所述氣霧劑噴射設備中的所述流動管道和所述閥門系統裝置可如上述美國專利申請USSN 61/261,906中圖3和圖8-10所示。然而，本說明書不提供可被用于較早的美國專利申請的發明中和其它的氣霧劑噴射設備中的另外的閥門系統/流動管道裝置的細節。因此，本發明的第二方面擴展至這種閥門系統/流動管道裝置。根據本發明的第二方面，提供一種用于氣霧劑噴射設備的閥門系統裝置，該閥門系統裝置包括保持待從所述設備通過推進劑排放的液體的受壓或耐壓容器和用于將流體從所述容器供給到噴霧出口區域的流動管道，所述流動管道具有用于來自所述容器的至少一個第一入口和用于來自所述容器的頭部空間的推進劑氣體的至少一個第二入口，所述第二入口沿所述管道位于與所述第一入口相同距離處或位于所述第一入口的下游，所述閥門系統裝置包括
閥桿，該閥桿能夠從第一極限位置向第二極限位置移動以影響從所述設備的噴霧排放；單個密封件，該單個密封件被配置為當所述閥桿處于其第一極限位置時關閉所述第一入口和所述第二入口二者；其中所述閥桿從其第一極限位置向其第二極限位置的移動打開所述第一入口和所述第二入口，以使氣泡包含流在所述流動管道中產生，并且所述閥桿返回其第一極限位置的移動關閉所述第一入口和所述第二入口。這種閥門系統裝置的應用不被限制到本發明的第一方面中所限定的類型的氣霧劑噴射設備，盡管它們確實特別應用于本發明的第一方面中所限定的類型的氣霧劑噴射設備。相反，本發明第二方面的所述閥門系統裝置可被應用于任何合適的氣霧劑噴射設備。
所述閥門系統裝置可進一步包括殼體，所述殼體至少部分限定將所述容器中所述液體連接到所述第一入口的液體流動路徑和連接所述頭部空間與所述第二入口的單獨的氣體流動路徑。如同本發明的第一發明的一實施例，所述閥桿的下部區域可位于所述殼體中，并且所述單個密封件可被安裝在所述殼體上，用于與所述閥桿的相對滑動接合。在一實施例中，所述閥門系統裝置進一步包括分配塞，該分配塞在所述殼體內被安裝在所述單個密封件的緊下面并進一步限定所述單獨的液體流動路徑和液體流動路徑。所述分配塞可執行雙重功能限定所述單獨的流動路徑以及起用于所述閥桿的止動器的作用。可替代地，所述單個密封件可包括兩個部件薄的上墊圈，該薄的上墊圈被安裝在所述殼體上用于與所述閥桿的相對滑動接合；和薄的下墊圈，該薄的下墊圈在所述殼體中被安裝在所述上墊圈的緊下面并進一步限定所述單獨的液體流動路徑和單獨氣體流動路徑。這種布置意味著所述上墊圈和所述下墊圈能由不同的材料形成。而且，線所述單獨的液體流動路徑和氣體流動路徑的形成可簡單地通過在所述墊圈的一側上形成通向通過所述墊圈的關聯的凹口的溝道并在所述墊圈的相反側上形成通過所述墊圈的單獨的凹口而被完成。所述薄的墊圈可通過注射模制來制造。與具有分離相鄰的上墊圈和下墊圈相反的是，所述上墊圈和所述下墊圈可彼此以整體形成，從而形成相對厚的墊圈。這種相對厚的墊圈也可通過注射模制來制造，所述流動路徑在模制過程中可通過注射模制而被限定。
將僅參考附圖以示例的方式進一步描述本發明，其中圖I示意性地例示根據本發明的氣霧劑噴射設備的第一實施例；圖2示意性地例示根據本發明的氣霧劑噴射設備的第二實施例；圖3示意性地例示根據本發明的氣霧劑噴射設備的第三實施例；圖4示意性地例示根據本發明的氣霧劑噴射設備的第四實施例；圖5示意性地例示根據本發明的第一可替代閥門系統裝置；圖6示意性地例示可被用于根據本發明的氣霧劑噴射設備的噴嘴裝置；圖7示意性地例示根據本發明的第二可替代閥門系統裝置；圖8示意性地例示根據本發明的第三可替代閥門系統裝置；
圖9a和圖9b示意性地例示根據本發明的分別處于打開狀態和休止狀態的第四可替代閥門系統裝置；圖10為用于圖9a和圖9b的閥門系統裝置的分配塞的透視圖，其顯示出內部管道；圖11為沿圖9a的A-B的橫截面；圖12a和圖12b示意性地例示根據本發明的分別在打開狀態和休止狀態的第五可替代閥門系統裝置；圖13為圖12a的閥門系統裝置的橫截面；圖14為圖12a和圖12b的閥門系統裝置中所使用的薄墊圈的透視圖；圖15示意性地例示根據本發明的第六可替代閥門系統裝置； 圖16為從圖15的第六可替代閥門系統裝置中所使用的厚墊圈的下方觀察的厚墊圈的透視圖；圖17-20例示下面的示例的結果。
具體實施例方式圖I例示根據本發明的氣霧劑噴射設備I的第一實施例，其處于正常“休止”位置。設備I包括加壓容器2，噴霧排放組件3被安裝在加壓容器2的頂部，如圖中示意地例示，噴霧排放組件3被壓到容器2的頂部部分。在容器2中提供通過諸如氮氣、空氣或二氧化碳的加壓氣體有待從設備中分配的液體5，加壓氣體在液體5中具有有限的溶解度并位于容器2的頭部空間6中。例如，頭部空間6中的氣體的初始壓力根據所使用的容器的類型可為9至20bar。例如，初始壓力可為9至12bar。然而現在，較高壓力“標準”的罐是能利用的(但是到目前為止幾乎沒被使用)，例如對這種罐來說，初始壓力為ISbar或更高。這種罐也能被用于本發明。更高的初始罐壓是有益的，因為能利用更多質量的氣體來幫助霧化，并且更高的噴嘴速度也幫助霧化，而且罐壓由于罐變空而成比例的損失較少。這有助于在罐的操作時限期間保持較好的噴霧質量和流速。閥組件3包括大致圓柱形的軸向能移動的閥桿7，閥桿7具有從閥桿7的上端朝向其下端延伸部分距離的軸向膛孔8。閥桿7的下端位于被定位在容器2的內部的圓柱形殼體9內，并且在其上端裝配有帽10形式的具有噴霧出口區域11的致動器。該帽10 (可為能從Precision Valve (英國)有限公司獲得的名稱為“Kosmos”的類型)被模制為位于閥桿7的頂部上并具有內部L形管道，該內部L形管道被形成為與閥桿7的膛孔8共線的第一部分12a以及與部分12a成直角延伸并通向噴霧出口區域11的第二部分12b。常規MBU(機械破裂單元)插件13被提供在區域11的出口端，在下面更詳細的描述MBU插件13。概略地，通過在帽10上向下壓以促使閥桿7向下運動并且因而從噴霧出口區域11排放噴霧來操作氣霧劑噴射設備1，在下面更加詳盡地描述以這種方式產生的噴霧。如各圖所示，通過螺旋彈簧14將閥桿7向容器2的上方偏壓，螺旋彈簧14的上端圍繞閥桿7上的下球狀鼻15。螺旋彈簧14的下端圍繞殼體9的下壁17中的孔16。具有下壁擴展端部19的管狀聯接器18從壁17垂下，延伸到容器2的底部的汲取管20被裝配到下壁擴展端部19。將從圖中理解的是，容器2的下部區域經由汲取管20、聯接器18和孔16 (其為殼體9提供液體入口)與殼體9的內部連通。
將由于隨后的描述而變得清楚的是，閥桿7具有的外徑稍微小于殼體9的內徑，從而在閥桿7與殼體9之間限定環形間隙21。由橡膠或其它彈性材料形成的環形墊圈22和23分別被提供在殼體9的上部區域和中心區域，并且尺寸上適于密封抵靠閥桿7的外表面。為了便于理解下面進一步描述的設備，上述環形間隙被示出為被再分割為標記為21a和21b的兩部分。環形間隙的部分21a在兩個墊圈22和23之間延伸，而環形間隙的部分21b位于下墊圈23的下方。多個端口 24被形成在兩個墊圈22和23之間的殼體9的壁中，多個端口 24提供頭部空間6中的加壓氣體和環形間隙2Ia之間的連通。在內部，閥桿7被形成為具有流動管道8 (沿閥桿7同軸延伸)和經由通道27與流動管道8連通的液體供應腔26。流動管道8從閥桿7的上端延伸該閥桿7的長度的50%以上。腔26在流動管道8的下方，并且其直徑大于流動管道8，但是其長度顯著較小。 兩個液體供應通道28從液體供應腔26橫向延伸，并通向閥桿7的外表面。如同將從下面給出的更詳細的描述理解，來自容器2中的液體5徑向向內通過(噴霧排放期間)液體供應通道28進入腔26，并且隨后經由通道27進入流動管道8。以這種方式，流動通道27為流動管道8提供液體入口。兩個氣體泄放入口通道29從流動管道8橫向延伸以通向閥桿7的外表面處。液體供應通道28和氣體泄放入口通道29彼此軸向間隔一距離，從而在如圖I所示的氣霧劑的“休止”狀態下，通道29被上墊圈22密封，并且通道28被下墊圈23密封。通道28和29的橫截面連同這些通道之間的軸向間距以及上墊圈22和下墊圈23的尺寸使得在壓下閥桿7時氣體泄放入口通道29與液體供應通道28被同時打開(或者更有選地，氣體泄放入口通道29剛好在液體供給通道28之前被打開)。在下面將更詳盡地描述打開通道28和29的效果。將要理解，僅有一個這種液體供給通道28和/或一個氣體泄放入口通道29的構造也是可用的。作為后者的替代布置的示例，圖5中例示的實施例僅具有單個氣體泄放入口通道29。圖5的實施例還省略了腔26，液體供應通道28直接延伸到通道27。現在參照致動帽10的噴霧出口區域11。該區域11在內部由整體模制的凸出物30形成，該整體模制的凸出物30被布置為一方面，使得其限定致動帽10內的環形間隙或廊道31 ;另一方面，其自由端位于距帽10的外部一短距離處以留下圓柱形缺口，MBU插件13位于該圓柱形缺口中。該插件在下面被更詳細的描述，但是在這點，將要理解的是管道部分12b與環形缺口 31連通，從而正從容器2排放的液體可周向第圍繞該缺口通過。MBU插件13為慣用的構造并在圖I的插圖中被更詳細地示出。在慣用的方式中，插件13為圓形的并具有中心孔32，中心孔32在插件的一個(上游)表面上被凹槽33圍繞，凹槽33與從凹槽33向外延伸的溝道34連通。MBU插件13具有的外徑使其使其緊壓配合在出口區域11的外端部中，從而其形成有凹槽33和溝道34的上游表面鄰接抵靠凸出物30的自由端，同時溝道34的外端與由管道部分12b供應的環形空間31連通。將要理解，由于MBU插件位于所述的位置中，凹槽33與凸出物30的端面形成渦流腔35，溝道35經由溝道34被供應。為了操作設備1，致動帽10被壓下以使閥桿7向下移動來抵抗偏壓彈簧14的偏壓。結果，氣體泄放入口通道29從墊圈22處移走，以使壓縮氣體能從頭部空間6經由端口24 (在殼體9的壁中)、環形間隙21a和氣體泄放入口通道29泄放到流動管道8。氣流的產生的同時或優選稍微晚于氣流的產生，一個或多個液體入口通道28借助于移動越過下墊圈23而被打開。現在，液體5能通過沿汲取管20向上、通過入口 16進入殼體9、進入環形間隙21b并通過液體入口通道28的通道流動進入液體供應腔26。被導入到液體供應腔26中的液體5經過通道28進入流動管道8，液體5在那里與通過通道29被泄放的壓縮氣體混合。具有相似直徑而不具有顯著聚結或層化的均勻氣泡的氣泡包含流在流動管道8中被形成，并且沿管道8流動進入管道部分12a (在致動帽10內)并隨后進入管道部分12b。氣泡包含流從后一管道部分進入并圍繞環形廊道31，并隨后在進入渦流腔35并通過排放孔32排出之前進入渦流溝道34的外端。在氣霧劑噴射設備I的構造中，應該確保，氣體泄放通道29的總橫截面面積不應該大到使過多的氣體被泄放到管道8中而使容器2在容器中的全部液體5被排放之前將加壓氣態推進劑耗盡。典型地，氣體泄放入口通道29的總橫截面面積應該等于直徑為O. 15-0. 7mm的單個圓形截面入口的總橫截面面積。
在下表中示出噴射設備I的構造的優選尺寸，這些尺寸確保產生具有相似直徑而不具有顯著聚結或層化的均勻氣泡的氣泡包含流。
_ __w圖標記__直徑_長度
每+ 為 0.15mm
Γηηβ7Π 氣體泄放入口 29I .Oinm
(提供兩個)
0,4mm
液體入0通道27丨,Omm
(提供~~~個) I
閥桿中的管道8 _I nun__I Oimn
「 nMBU 的出口孔320.33inm----
凹槽 33 0.75mm0.3mm (深)___34__0.2mm (寬)| .3mm (深)具有如上所示尺寸的噴射設備I特別適用于諸如拋光劑和空氣清新劑的家用氣
霧劑產品。附圖中的圖2所示的(第二)實施例與圖I的實施例相似，但是致動帽10中排放管道的部分12a和12b由彎曲的過渡區域12c連接。該彎曲過渡區域12c確保氣泡包含流在其從其產生到致動帽的出口區域11之間的通道中具有較少的擾動。現在參見圖3，圖3示出根據本發明的氣霧劑噴射設備的第三實施例。本質上，圖3的實施例與圖I的實施例非常相似(并且相似的附圖標記限定相似的部分)，但是致動帽10中的排放管道12為線性的而非如圖I的實施例中的情況那樣被分割成彼此成直角的部分12a和12b。在致動帽10中提供的線性排放管道12有利于使氣泡包含流的擾動較少，并且致使噴射設備能夠產生比圖I所示的實施例的噴霧更穩定和更細的噴霧。圖3的設備特別適用于空氣清新劑。圖4所示的(第四)實施例基于圖I所示的實施例(在致動帽10中的排放管道部分12a和12b之間具有突變的直角過度)，但區別在于出口區域11的結構。在圖4的實施例中，出口部分12b同軸地匯入(feed)到廊道31中(與前述實施例相比，在前述實施例中被偏心匯入到廊道31中)。在這種情況下，廊道31被提供為圍繞支撐在支柱41上的插件40。如迄今所述，圖I至圖4中所示的MBU插件13彼此相同。然而，各種其它形式的MBU插件可被使用，例如如被描繪為附圖中圖6所示的MBU插件50。在本實施例中，如圖6清晰描繪的那樣，凸出物51具有斜角周界邊緣。在這種情況下，渦流溝道可被形成在凸出物51的斜角邊緣上(其中標記為52a),或在插件50自身中(其中標記52b),或二者的結合。對于任一種可能，渦流溝道52a、52b的方向具有軸向分量以及與渦流腔53相切的分量。附圖的圖7和圖8示出用于產生有待被傳到MBU插件的氣泡包含流的修改的閥門系統裝置。 除了(在氣霧劑噴射設備的休止狀態中)通道28被兩個O形環60 (在每個通道28的上方和下方均有一個)與液體5隔離之外，圖7的裝置與圖I的裝置相似。當閥桿7被壓下時，通道28移動越過下O形環60以被暴露給閥門殼體中的高壓液體，從而允許液體流動進入管道。氣體泄放入口 29以與上面概述的完全相同的方式起作用。應該注意，盡管圖I至圖5和圖7的實施例示出在管道8的下端同軸進入管道8的單個液體入口通道27，但是能夠在管道的下部分的側壁中形成兩個或更多液體入口。此夕卜，盡管圖I至圖4和圖7的實施例示出腔26 (腔26匯入液體入口 27到達管道8)通過兩個通道28供應液體的，但是能夠將閥桿修改為使得腔26和液體入口 27被省略，并在流動管道8和通道28具有合適的橫截面的情況下經由通道28直接供應流動管道8 (例如，如圖5所示)。在圖8的裝置中，下密封件23已被省略并且將閥桿7和殼體9修改為允許裝置與剩下的單個密封件23作用。更具體而言，閥桿7包括管道8、氣體泄放入口 71和液體入口72，在原理上，氣體泄放入口 71和液體入口 72分別與圖I的裝置中的通道29和28執行相同的功能。如圖8所示的氣霧劑噴射設備的休止狀態，氣體泄放入口 71被密封件23關閉并向上延伸遠離密封件23。液體入口 72為有角的結構，該結構具有與管道8同軸的短部分，該短部分連接到向上延伸至密封件23以被密封件23關閉的另一部分。替代地，入口 72可直接進入管道8的側邊。在其它實施例中，第二入口 71可垂直于管道8，并且在另外的實施例中，第一入口 72和第二入口 71均可在管道8的同一正交面進入管道8。另外，殼體9的一部分已被修改為圍繞閥桿7的區域(在該區域氣體泄放入口 71通向閥桿7的外表面)緊密滑動配合。此外，氣體供應端口 73 (相當于圖I中的端口 24)已被配置為使得其出口端在閥桿7被壓下時直接匯入到氣體泄放入口 71中。這些布置避免氣體從容器的頭部空間泄漏到液體入口 72，或者避免液體泄漏到氣體入口 71中。雖然期望盡可能地避免這種泄漏，但因為氣體和液體在容器2中處于基本相同的壓力下，因此它們不是主要問題。與圖I所示并參照圖I描述的實施例相比，圖8的實施例具有多種優點。特別地，其使用較少的零件，因而降低材料、制造和裝配的成本。另外，其在尺寸上可容易地被制造為特別適于以與傳統液化氣體推進氣霧劑閥相同的整體尺寸制造。在圖9a至圖16中例示另外的可替代實施例，在所有這些實施例中，墊圈22被省略。
圖9a和圖9b分別在打開和休止狀態下示出這種可替代的‘單個墊圈’的實施例，其中修改的殼體9在其上端包含分配塞101。分配塞為大致環形件，該大致環形件具有由其內表面限定的腔104。塞具有從外表面突出的用于與殼體9的內壁中的配合凹口(未不出)協作接合的定位凸耳102，以確保塞101在殼體9中的適當定位。L形氣體入口溝道83從頭部空間延伸到腔104。倒L形流體入口溝道84在與氣體溝道83相對的位置處從殼體9的填滿流體的內部延伸到腔104。塞101可由乙縮醛或其它適合的硬塑性材料形成。可替代地，其可包括模制橡膠。塞可被注射模制，在這種情況下其可與密封件23被整體形成。在一實施例中，塞可被提供有圍繞腔104的底邊緣的另外的唇形密封件，以改善密封并確保沒有液體泄漏到氣體流動路徑中。如同圖8的實施例，在圖9a至圖11的實施例中，已經對閥桿7和殼體9做出修改以允許該裝置與剩余的單個密封件23作用。更具體而言，閥桿7包括管道8、氣體泄放入口81和液體入口 82，在原理上，氣體泄放入口 81和液體入口 82分別與圖I的裝置中的通道29和28執行相同的功能。如圖9b所示的氣霧劑噴射設備的休止狀態，閥桿7在彈簧14的作用下伸出殼體9，以使氣體泄放入口 81和液體入口均位于密封件23的與分配塞101相反的側上，并且由此分別不與殼體9的頭部空間和內部連通。 氣體泄放入口 81與圖8的實施例的氣體泄放入口 71相似。液體入口 82與圖8的實施例的液體入口 72相似，為有角的結構，但是在該例中沒有連接和管道8同軸的短部分。替代地，入口 82直接進入管道8的側邊。如同圖8，在其它實施例中，第二入口 81可垂直于管道8，并且在另外的實施例中，第一入口 82和第二入口 81均可在管道8的同一正交平面進入管道8。腔104在尺寸上適于圍繞閥桿7的一區域(在該區域中氣體泄放入口 81和液體供應入口 82通向閥桿7的外表面)緊密滑動配合。由于該緊密滑動配合，沒有液體能夠泄漏穿過閥桿/腔的界面，所以氣體流動路徑將不會被來自腔的任何液體污染，這種泄漏將妨礙噴射氣霧劑的性能。當閥桿7被壓下時，氣體泄放入口 81和液體供應入口 82被推動越過墊圈23并分別與氣體溝道83和流體入口溝道84連通。為了防止閥桿7在殼體9中的旋轉，殼體可包括用于協作接合閥桿中的相應的凹口 92的突起91。為了防止閥桿7伸出殼體9太遠，桿的下部分可被擴大并限定臺階94，臺階94與分配塞101的下側結合起止動器的作用(見圖％)。在圖12a至圖14中例示另一替代實施例。橫向氣體泄放入口 121取代前述實施例的有角度的氣體泄放入口 81 ;有角的液體供應入口 122取代相似的入口 82 (但是在稍微向上的位置接合管道8)。代替殼體的與閥桿上的凹口協作以防止這些零件的相對旋轉的突起，在本實施例中，從閥桿7突出的凸耳7a被承接在殼體9的內部中的槽9a中并平行于其軸線延伸。液體入口的布置也是不同的，在于通過閥桿7的下部分的軸向溝道106延伸至與殼體9的下壁中的孔16流體連通。橫向開口 108位于溝道106的上端并將溝道106連接到桿7與殼體9之間的環形間隙21。在殼體的上端，圖9a至圖11的分配塞101被環形襯套110和夾持在襯套的上端與密封件23之間的薄墊圈112取代。在圖14更詳細的示出薄墊圈112，并且其包括具有中心孔113的盤，中心孔在尺寸上為圍繞閥桿的緊密配合。徑向槽123a在盤的一側上從中心孔延伸至盤的邊緣，在這里槽與延伸通過盤的邊緣的軸向槽口 123b連接。槽123a和槽口123b共同包括氣體入口端口，氣體入口端口在閥桿被壓下時形成從頭部空間至氣體泄放入口 121的氣體流動路徑，如圖12那樣。槽口 124在孔113的與槽123截然相反的邊緣處的點延伸通過盤112。當閥桿被壓下時，槽口 124在環形間隙21與液體供給入口 122之間形成液體流動路徑。圖12b示出該實施例的處于休止狀態的閥桿，其中閥桿7在彈簧14的作用下伸出殼體9，以使氣體泄放入口 121和液體入口 122均在密封件23的與墊圈112相反的側上，或至少被密封件阻塞。襯套110與閥桿7的擴展部結合也可起到止動器的作用，以防止桿在殼體9外的過渡延伸。圖15和圖16為替代實施例的示意例示。單個厚墊圈130被使用，而不是具有單獨的密封件23和薄墊圈112。例如，這可采用注射模制技術來制造以包含相應的氣體流動通道123a、123b和液體流動通道124。
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應該理解，可對例示的實施例作出各種修改。因而，例如，圖1-4和圖6所示的噴射設備可具有單個氣體泄放入口 29 (見圖5)和/或單個液體供應入口 28，或者具有三個或更多這種入口。類似地，圖7所示的噴射設備的實施例可分別具有兩個或更多氣體泄放入口 29和兩個或更多液體供應入口 28。通常，各種不同實施例的方面可被結合，以使例如任何一種閥桿結構可與任何一種帽結構結合，同樣兩者中的任何一個可與任何一種可替代的出口區域結構結合。更普遍而言，根據本發明的噴射設備的實施例可具有I至6個氣體泄放入口，優選具有的橫截面與直徑為O. 15-0. 7mm的單個入口的相當。類似地，可具有I至6個液體入口，該I至6個液體入口具有的總截面與直徑為O. 15-0. 7mm的單個入口的相當。而且，不是具有協作突起/凹口或槽布置以防止閥桿7在殼體9內由于它們的圓形形狀而相對旋轉，而是桿和殼體可替代地具有會固有地防止這種旋轉的其它截面輪廓(例如正方形)。此外，盡管所有的實施例被例示為具有帶有四個渦流溝道的MBU插件，但是更一般而言，能夠使用帶有I至8個這種溝道的插件。應該理解，上面圖7至16所示的并參照圖7至16描述的流動管道/閥門系統裝置可被用在作為上述美國專利申請的主題的并在該專利申請中公開的氣霧劑噴射設備中。下面的非限制性示例例示本發明。丞M使用根據本發明的氣霧劑噴射設備來實施本示例，該氣霧劑噴射設備具有排放組件，該排放組件具有直徑為I. Omm且在桿中長度為15. Omm的流動管道，并具有直徑為O. 40mm的單個液體入口以及在該單個液體入口下游的直徑為O. 20mm的單個氣體入口。這兩個直徑均為在入口進入流動管道的點處測量的。液體入口和氣體入口被隔開2. 4_。氣霧劑噴射設備被裝配有具有O. 23mm出口孔的“AQUA"MBU插件，并且總體布置類似于圖I中所示的氣霧劑噴射設備。設備的罐具有486ml的內部體積，其50%被填充有去離子水。使用具有優于O. Olbar (I. OkPa)精度的電傳感器型壓力計將罐加壓至12. 13bar的內壓。連續地以20秒的離散周期壓下閥桿直到容器為空。對于每次排放，測量并記錄罐壓。另外，對于每次排放，噴霧被收集并被稱重(盡管作為替代，罐可在排放前后被稱重，區別是給出液體噴霧的質量，并作出合理的假設所排放的氣體的質量是可忽略不計的)。質量測量被用于計算噴霧排放期間所噴射的液體的體積(dVL)。所釋放的霧化氣體體積的值(dVat ml)通過利用與氣體的壓力、體積、質量和溫度相關的理想氣體定律的標準方程來確定，從而計算出在20s的噴射間隔前后罐中的氣體質量。在這方面，氣體的壓力(Abs)與氣體體積(罐中)的乘積與留在罐中的氣體的質量成比例(根據氣體定律，假定在這些實驗情況下溫度恒定)。這不需要詳述使用，因為罐中氣體的初始體積和壓力為已知的，因而氣體密度以及罐中的初始氣體質量是已知的。20s后的氣體密度可使用新的罐壓并乘以罐中氣體的體積(已增加已知體積，該已知體積等于在20s中所噴射的液體的測量體積)計算出，以給出留在罐中的氣體的質量。罐中氣體的質量在20s前后的差為已離開氣體的氣體的質量。在時間間隔期間平均的液體流速和氣體流速(分別為QL ml/min和Qg ml/min)通過將在那部分時間通過MBU的液體和氣體的體積除以時間間隔而被簡單的計算出。最后， Qg/QL的比值被確定。結果被顯示在下表中。
權利要求
1.一種氣霧劑噴射設備，包括容納有待從所述設備通過氣態推進劑被排放的液體的加壓或可加壓的容器和安裝在所述容器上的噴霧排放組件，所述氣態推進劑為在溫度為25°C且壓力為至少50巴的氣體，所述噴霧排放組件包括 閥桿，所述閥桿能夠從第一極限位置移動到第二極限位置以影響從所述設備的噴霧排放； 噴霧出口區域，所述噴霧出口區域具有出口孔，來自所述容器的流體從所述出口孔被排放； 流動管道，所述流動管道用于將流體從所述容器供給到所述噴霧出口區域，所述流動管道具有用于來自所述容器的液體的至少一個第一入口和用于來自所述容器的頭部空間的推進劑氣體的至少一個第二入口，所述第二入口沿所述管道位于與所述第一入口相同的距離處或位于所述第一入口的下游；和 閥門系統裝置，所述閥門系統裝置適于使所述閥桿的從所述第一極限位置向所述第二極限位置的移動打開所述第一入口和所述第二入口，以在所述流動管道中產生氣泡包含流，并且所述閥門系統裝置適于使所述閥桿的返回所述第一極限位置的移動關閉所述第一入口和所述第二入口，其中 (i)所述流動管道至少在由下面第(iii)中限定的所述第二入口的區域中具有與直徑為O. 5mm至I. 5mm的圓相當的橫截面面積； (ii)所述第一入口具有的總橫截面面積與直徑為O.15mm至I. 5mm的圓的面積相當，附加條件是至少一個第一入口具有與直徑為至少O. Imm的圓的面積相當的橫截面面積；并且 (iii)所述第二入口具有的總橫截面面積與直徑為O.Imm至O. 7mm的圓的面積相當，附加條件是至少一個第二入口具有與直徑為至少O. IOmm的圓的面積相當的橫截面面積,進一步的附加條件是所述第二入口具有的總橫截面面積比所述第一入口的總橫截面面積小；并且 (iv)所述噴霧出口孔具有的橫截面面積比所述第一入口的所述總橫截面面積小且比所述第二入口的所述總橫截面面積大。
2.如權利要求I所述的氣霧劑噴射設備，其中所述流動管道被提供在所述閥桿中，并且所述第一入口和所述第二入口被提供在所述閥桿中。
3.如權利要求2所述氣霧劑噴射設備，進一步包括致動器組件，所述致動器組件被安裝在所述閥桿上并包括所述噴霧出口區域，所述致動器組件進一步包括提供所述流動管道與所述噴霧出口區域之間的連通的排放管道。
4.如權利要求2或3所述的氣霧劑噴射設備，其中所述流動管道為圓形截面。
5.如從屬于權利要求3時的權利要求4所述的氣霧劑噴射設備，其中所述排放管道為圓形截面并具有與所述流動管道相同的直徑。
6.如權利要求5所述的氣霧劑噴射設備，其中所述致動器中所述排放管道的長度為該排放管道的直徑的3至50倍。
7.如權利要求5或6所述的氣霧劑噴射設備，其中所述流動管道具有的長度為該流動管道的直徑的3至50倍。
8.如權利要求4至7中任一項所述的氣霧劑噴射設備，其中所述流動管道具有O.8mm至I. 2mm的直徑。
9.如權利要求I至8中任一項所述的氣霧劑噴射設備，其中所述噴霧出口孔具有與直徑為O. 2mm至O. 7mm的圓相當的橫截面面積。
10.如權利要求3至9中任一項所述的氣霧劑噴射設備，其中所述排放管道與所述流動管道共線。
11.如權利要求3至9中任一項所述的氣霧劑噴射設備，其中所述排放管道具有與所述流動管道共線的第一部分和垂直于所述流動管道的第二部分。
12.如權利要求2至11中任一項所述的氣霧劑噴射設備，其中在所述閥桿中具有I至6個所述第一入口。
13.如權利要求12中所述的氣霧劑噴射設備，其中所述第一入口具有的總橫截面面積與直徑為O. 15mm至O. 7mm的圓相當。
14.如權利要求13中所述的氣霧劑噴射設備，其中所述第一入口具有的總橫截面面積與直徑為O. 3mm至O. 5mm的圓相當。
15.如權利要求2至14中任一項所述的氣霧劑噴射設備，其中在所述閥桿中具有I至6個所述第二入口。
16.如權利要求15中所述的氣霧劑噴射設備，其中所述第二入口具有的總橫截面面積與直徑為O. 15mm至O. 35mm的圓的橫截面面積相當。
17.如權利要求2至16中任一項所述的氣霧劑噴射設備，其中所述閥門系統裝置包括在所述閥桿處于所述第一位置時分別關閉所述第一入口和所述第二入口的第一密封件和第二密封件。
18.如權利要求17所述的氣霧劑噴射設備，其中所述閥門系統裝置包括兩個所述第一密封件，在所述閥桿處于所述第一位置時，兩個所述第一密封件中的一個位于所述第一入口的上游，兩個所述第一密封件中的另一個位于所述第一入口的下游。
19.如權利要求2至16中任一項所述的氣霧劑噴射設備，其中所述閥門系統裝置包括單個密封件，并且所述第一入口和所述第二入口被配置為通過所述單個密封件而被關閉。
20.如權利要求17至19中任一項所述的氣霧劑噴射設備，其中所述閥桿的下部區域位于殼體內，并且所述密封件或每個密封件被安裝在所述殼體上用于與所述閥桿相對滑動地接合。
21.如從屬于權利要求18時的權利要求20所述的氣霧劑噴射設備,其中所述殼體的一部分在所述第二入口的區域中接合圍繞所述閥桿。
22.如權利要求17至21中任一項所述的氣霧劑噴射設備，其中所述密封件或每個密封件為O形環。
23.如權利要求I至22中任一項所述的氣霧劑噴射設備，其中所述噴霧出口區域包括噴嘴，該噴嘴適于在所述氣泡包含流從所述設備排放之前使所述氣泡包含流進行渦流運動。
24.如權利要求23所述的氣霧劑噴射設備，其中所述噴嘴為機械破裂單元。
25.如權利要求23或24所述的氣霧劑噴射設備，其中所述噴嘴具有排放孔、圍繞所述排放孔的渦流腔和一個或多個從所述渦流腔向外延伸的溝道，并且其中所述流動管道與所述溝道的外端連通，以使所述氣泡包含流被供給到所述渦流腔以通過所述孔排放。
26.如權利要求25所述的氣霧劑噴射設備,其中所述噴嘴包括插件,該插件具有一表面，該表面定位為抵靠所述設備的所述噴霧出口區域中的凸出物的表面，其中所述排放孔被提供在所述插件中，并且其中所述凸出物的所述表面與所述插件的所述表面被配置為限定所述渦流腔和所述溝道。
27.如前述權利要求任一項所述的氣霧劑噴射設備，包含從由藥劑、農用化學品、芳香齊U、空氣清新劑、氣味中和劑、消毒劑、拋光劑、殺蟲劑、脫毛化學品(諸如巰基乙酸鈣)、去毛化學品、美容劑、除臭劑、止汗劑、防菌劑、防過敏化合物以及其兩個或更多的混合物組成的組中選擇的材料。
28.如權利要求I至26中任一項所述的氣霧劑噴射設備，包含藥劑成分。
29.如權利要求I至26中任一項所述的氣霧劑噴射設備，包含芳香劑成分。
30.如權利要求I至26中任一項所述的氣霧劑噴射設備，包含氣味中和劑成分。
31.如權利要求I至26中任一項所述的氣霧劑噴射設備，包含脫毛劑成分。
32.一種用于氣霧劑噴射設備的閥門系統裝置，包括容納有待從所述設備通過推進劑被排放的液體的加壓或可加壓容器和用于將流體從所述容器供給到噴霧出口區域的流動管道，所述流動管道具有用于來自所述容器的至少一個第一入口和用于來自所述容器的頭部空間的推進劑氣體的至少一個第二入口，所述第二入口沿所述管道位于與所述第一入口相同的距離處或位于所述第一入口的下游，所述閥門系統裝置包括 閥桿，該閥桿能夠從第一極限位置移動到第二極限位置以影響從所述設備的噴霧排放； 單個密封件，該單個密封件被配置為當所述閥桿處于所述第一極限位置時關閉所述第一入口和所述第二入口二者； 其中所述閥桿從所述第一極限位置向所述第二極限位置的移動打開所述第一入口和所述第二入口，以在所述流動管道中產生氣泡包含流，并且所述閥桿返回所述第一極限位置的移動關閉所述第一入口和所述第二入口。
33.如權利要求32所述的閥門系統裝置，進一步包括殼體，所述殼體至少部分限定了將所述容器中的所述液體連接到所述第一入口的液體流動路徑和將所述頭部空間連接到所述第二入口的單獨的氣體流動路徑。
34.如權利要求33所述的閥門系統裝置，其中所述閥桿的下部區域位于所述殼體內，并且所述單個密封件被安裝在所述殼體上用于與所述閥桿相對滑動地接合。
35.如權利要求33或34所述的閥門系統裝置，進一步包括分配塞，所述分配塞在所述殼體內被安裝在所述單個密封件的緊下方，并進一步限定所述單獨的液體流動路徑和所述單獨的氣體流動路徑。
36.如權利要求34所述的閥門系統裝置，其中所述單個密封件包括兩個部件薄的上墊圈，該薄的上墊圈被安裝在所述殼體上用于與所述閥桿相對滑動地接合；和薄的下墊圈，該薄的下墊圈在所述殼體內被安裝在所述上墊圈的緊下方并進一步限定所述單獨的液體流動路徑和所述單獨的氣體流動路徑。
37.如權利要求36所述的閥門系統裝置，其中所述上墊圈和所述下墊圈彼此整體形成。
全文摘要
本發明提供一種氣霧劑噴射設備，包括容納有待從所述設備通過氣態推進劑被排放的液體的加壓或可加壓容器和安裝在所述容器上的噴霧排放組件，所述氣態推進劑為溫度為25℃且壓力為至少50bar的氣體。所述噴霧排放組件包括閥桿，所述閥桿能夠從第一極限位置移動到第二極限位置以影響從所述設備的噴霧排放；噴霧出口區域，所述噴霧出口區域具有出口孔，來自所述容器的流體從所述出口孔被排放；流動管道，所述流動管道用于將流體從所述容器供給到所述噴霧出口區域，所述流動管道具有用于來自所述容器的液體的至少一個第一入口和用于來自所述容器的頭部空間的推進劑氣體的至少一個第二入口，所述第二入口沿所述管道位于與所述第一入口相同的距離處或位于所述第一入口的下游；和閥門系統裝置，所述閥門系統裝置適于使所述閥桿的從所述第一極限位置向所述第二極限位置的移動打開所述第一入口和所述第二入口，以在所述流動管道中產生氣泡包含流，并且所述閥桿返回所述第一極限位置的移動關閉所述第一入口和所述第二入口，其中(i)所述流動管道至少在由下面第(iii)中限定的所述第二入口的區域中具有與直徑為0.5mm至1.5mm的圓相當的橫截面面積；(ii)所述第一入口具有與直徑為0.15mm至1.5mm的圓的面積相當的總橫截面面積，附加條件是至少一個第一入口具有與直徑為至少0.1mm的圓的面積相當的橫截面面積；并且(iii)所述第二入口具有與直徑為0.1mm至0.7mm的圓的面積相當的總橫截面面積，附加條件是至少一個第二入口具有與直徑至少為0.10mm的圓的面積相當的總橫截面面積，進一步的附加條件是所述第二入口具有的總橫截面面積比所述第一入口的總橫截面面積小；并且(iv)所述噴霧出口孔具有的橫截面面積比所述第一入口的所述總橫截面面積小且比所述第二入口的所述總橫截面面積大。所述氣霧劑噴射設備可包括適合的MBU和/或任何適當的插件。
文檔編號B65D83/16GK102892688SQ201080066800
公開日2013年1月23日 申請日期2010年12月6日 優先權日2010年4月13日
發明者卡西姆·加瓦米-納斯爾, 安德魯·約翰·尤爾, 馬丁·勞倫斯·伯比 申請人:索爾福德大學