薄膜太陽電池制造系統(tǒng)以及共用基板保管架的制作方法

專利名稱：薄膜太陽電池制造系統(tǒng)以及共用基板保管架的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及薄膜太陽電池制造系統(tǒng)以及在薄膜太陽電池制造中使用 的共用基板保管架。
背景技術：
作為太陽電池公知有薄膜太陽電池。薄膜太陽電池主要由模塊化工序 和面板化工序進行制造。在模塊化工序中， 一邊在玻璃基板上對透明電極 層、光電變換層以及背面電極層進行制膜、 一邊對各個層進行激光刻蝕， 由此使單元集成化構成模塊。在面板化工序中，利用粘接板(EVA)和背板
來覆蓋該模塊并設置端子箱以構成面板。這樣，采用多個處理裝置經(jīng)過復 雜的處理工序來制造薄膜太陽電池。
作為制造這樣的薄膜太陽電池的系統(tǒng)，在日本特開2005 - 235904號 公報中公開了薄膜太陽電池制造系統(tǒng)。圖1是示出該薄膜太陽電池制造系 統(tǒng)的實施例的結構圖。沿著基板的流向來說明該薄膜太陽電池制造系統(tǒng)中 的非晶硅太陽電池制造時的各工序設備的配置。首先，作為模塊化工序， 在一般氣氛環(huán)境131中被放入基板搬入裝置101的玻璃基板經(jīng)過基板洗凈 器102、管理器103、透明電極制膜裝置104以及基板洗凈器105實施了 各種處理等后，利用基板輸送器106向潔凈室130內輸送。然后，在激光 刻蝕裝置107、基板洗凈器108、基板輸送器109、非晶硅膜制膜裝置(等 離子CVD裝置)llO、基板輸送器lll、激光刻蝕裝置112、背面電極制膜 裝置113、基板輸送器114、基板洗凈器115、背面激光刻蝕裝置116、基 板輸送器117、發(fā)電檢查裝置118、基板緩沖裝置148中實施各種處理等。 通過以上步驟來完成模塊。接著，作為面板化工序，在將模塊經(jīng)由基板輸送器119向一般氣氛環(huán)境132輸送后，利用膜研磨裝置120、基板洗凈器 121、貯存(V一7:y:7。)裝置122、層壓裝置123、面板化裝置124、端 子臺安裝裝置125、基板輸送器126以及發(fā)電檢查裝置127實施了各種處 理等，然后在性能分類保管庫128中進行分類。通過以上步驟來完成面板。
這樣，各處理裝置以s字狀的蛇形線進行排列，各處理裝置依次利用
基板輸送器進行連接。在該薄膜太陽電池制造系統(tǒng)中，作為伴隨各處理裝 置的處理間歇差及維護周期的基板滯留用緩沖器，基本上針對每個處理裝
置(每個制造工序)都設置有臨時保管基板的基板盒140。圖2是表示該基 板盒的結構圖。在基板盒140中橫向水平地存儲基板100并水平保管。該 基板盒140可通過橋式起重機(未圖示)來輸送。
作為關聯(lián)技術在日本特開平8 - 139153號公報中公開了枚頁式基板處 理裝置，基板輸送裝置以及盒。該枚頁式基板處理裝置1是以傾斜姿勢取 出在盒中收納的基板并對基板逐一地進行多個基板處理后再將基板放回 盒中的裝置。具有載置盒的盒載置臺；用于交接基板的第1基板交接部； 在盒載置臺所載置的盒與第1基板交接部之間保持縱姿勢逐一地輸送基板 的送片機器人(indexer robot);對基板傾斜姿勢地進行處理的多個處理部； 以及在第1基板交接部與各處理部之間以傾斜姿勢保持并輸送基板的基板 輸送機器人。并且，記載了利用傾斜收納基板的盒來縮小占有面積的情況； 通過傾斜地輸送基板來縮小輸送空間的情況。
另外，在日本特開平10 - 123193號公報中公開了顯示面板基板的檢 査裝置以及檢查方法。該檢查裝置使工作臺所載置的顯示面板基板的電極 與探針接觸來檢查上述顯示面板基板。該檢查裝置具有盒、工作臺、基板 輸送機構以及探針單元。盒以相對于水平面呈65 80。的傾斜角度收納多 個顯示面板基板。工作臺中用于載置顯示面板基板的載置面相對于水平面 呈上述傾斜角度傾斜。基板輸送機構可以從上述盒中逐一地取出傾斜狀態(tài) 的顯示面板基板并保持該傾斜狀態(tài)輸送至上述工作臺。探針單元與上述工 作臺的載置面對置地配置。并且，記載了通過水平傾斜60 80。地收納基
7板的盒來降低占有面積的情況；抑制基板變形的情況。
另外，在日本特開2001 - 291765號公報中公開了基板收容箱以及處 理系統(tǒng)。該基板收容箱具備箱體，其構成為具有可氣密地收容一片被處 理基板的內部空間，且上述內部空間的上表面、側面或底面的任意一個可 開閉；以及支持部件，其設置在上述箱體內，用于以垂直或傾斜站立的狀 態(tài)支持上述被處理基板。并且還有在防塵用基板收容箱內傾斜保持著基板 的移動系統(tǒng)的記載。
另外，在日本特開平11 _ 199007號公報中公開了盒的輸送方法以及 處理設備。該處理設備夾著可引導具有移載裝置的堆垛機(stackercrane) 移動的導軌，在其兩側對置地配備有保管盒的堆料機(stocker)和具有裝 載部的處理裝置。除此之外，在潔凈室主體內配置有上述堆料機、堆垛機 和處理裝置中的僅裝載部。并且，還有在己并排配置的處理裝置的裝載部 中設置堆料機并僅對裝載部配置潔凈室的記載。
專利文獻1:日本特開2005 - 235904號公報 專利文獻2:日本特開平08 - 139153號公報 專利文獻3:日本特開平10 - 123193號公報 專利文獻4:日本特開2001 - 291765號公報 專利文獻5:日本特開平11 _ 199007號公報
在日本特開2005 - 235卯4號公報所述的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)中， 如上所述使用了臨時保管基板的多個基板盒。但是，在與各制造工序、各 處理裝置對應地設置多個基板盒時具有如下的課題。即，需要能夠與各制 造工序、各處理裝置的各自保管所需的最大基板數(shù)量相對應的基板盒，從 而導致了基板盒的大型化或多量化。結果，基板盒的設置場所增大從而大 量占有了工場空間。另外，因為需要管理多個基板盒，所以該管理變得煩 雜，這構成了成本上升的主要原因。另外，不僅可成批地保管處理中的基 板的共用堆料機，處理裝置的基板進出也變得煩雜，從而有可能產(chǎn)生處理工序的混亂。即，構建在作為制造線配置各處理裝置的處理速度及維護周 期的工作時間分散并無法統(tǒng)一的處理裝置及處理裝置群進行運用中能夠 簡單可靠地進行運用的系統(tǒng)成為課題。
尤其，在大型基板(例示1.1mxl.4mx4mmt)的情況下，當為了水平保 管基板而考慮基板的撓度(例示當以l.lm寬度支持4mmt的玻璃基板時 基板中央的撓度約為5mm)和基板出入時，盒的基板間隔需要在30 50mm 以上。為此，不得不增大基板盒，這在工場中成為各制造工序的設置空間 增大的主要原因之一
發(fā)明內容

本發(fā)明是鑒于這樣的狀況而作出的，本發(fā)明的目的是提供可削減工場 設置空間的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)。
另外，本發(fā)明的另一目的是提供可削減大小以及設置空間的薄膜太陽 電池制造用的共用基板保管架。
另外，本發(fā)明的另一目的是提供作為基板滯留用緩沖器能夠與滯留的 制造工序的變動柔性對應的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)以及薄膜太陽電池制 造用的共用基板保管架。
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供以下手段。
本發(fā)明第1方式的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)具備:第1共用基板保管架， 其比鉛直方向傾斜地保管基板；以及多個處理裝置，其在薄膜太陽電池的
制造工序中使用于上述基板的處理，并被配置為向上述第1共用基板保管 架搬出己結束處理的基板。第1共用基板保管架被多個處理裝置所共用， 并且不遵從制造工序處理順序地保管上述基板。
本發(fā)明第1方式的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)適當設置不遵從制造工序處理順序地保管基板的第1共用基板保管架，由此可采用第1共用基板保管 架來并排地配置多個處理裝置的至少一部分，這樣可構成不僅能降低工場 內的薄膜太陽電池制造運用成本還能降低工場建設成本的太陽電池制造 系統(tǒng)。
另外，在本發(fā)明第1方式的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)中，共用基板保管 架被多個處理裝置所共用，用于保管基板。即，該共用基板保管架不是各 處理裝置專用的，而是在多個處理裝置之間共用的。由此，作為共用基板 保管架的基板庫存數(shù)量不需要設置各個裝置的最大必要量，從而能夠實現(xiàn) 共用基板保管架的有效利用化和最小化。結果，與以圖1現(xiàn)有技術的S字 蛇形線進行配置的基板盒保管相比，作為整體能夠顯著降低設置空間。
此外，上述薄膜太陽電池制造系統(tǒng)還具備第2共用基板保管架，其 比鉛直方向傾斜地保管基板；以及基板處理控制裝置，其控制基板的處理 順序。在第1共用基板保管架和第2共用基板保管架之間的區(qū)域內可配置 多個處理裝置，以使基板的搬出部以及搬入部的任意一方面向第1共用基 板保管架，另一方面向第2共用基板保管架。第l共用基板保管架以及第 2共用基板保管架可以被多個處理裝置所共用?；逄幚砜刂蒲b置可控制 基板向多個處理裝置的至少一部分搬入以及搬出，控制基板向第1共用基 板保管架以及第2共用基板保管架搬入以及搬出。
在上述薄膜太陽電池制造系統(tǒng)中，兩個共用基板保管架被多個處理裝 置所共用，用于保管基板。即，該兩個共用基板保管架不是各處理裝置專 用的，而在多個處理裝置之間共用的。由此，作為共用基板保管架的基板 庫存數(shù)量不需要設置各個裝置的最大必要量，從而能夠實現(xiàn)共用基板保管 架的有效利用化和最小化。結果，與以圖1現(xiàn)有技術的S字蛇形線進行配 置的基板盒保管相比，作為整體能夠更顯著地降低設置空間。
而且，在上述薄膜太陽電池制造系統(tǒng)中該兩個共用基板保管架和多個 處理裝置被配置為面向搬出部以及搬入部，所以能夠盡量縮短基板的移動 距離。由此，能夠顯著抑制基板移動所需的移動路徑的空間增加。除此之外，因為移動距離短，所以移動時間縮短，作業(yè)效率提高。另外，處理裝 置是基板從裝置一方側進入、基板從另一側出來這樣的搬入部以及搬出部 不同的流向作業(yè)的裝置，因為兩側有兩個共用基板保管架，所以能夠極有 效地進行基板的臨時保管。
這里，關于朝向配置是配置為大致朝向的情況，其間可以有基板移載 裝置這樣的使基板移動的裝置，或者可以有改變基板方向的裝置。另外， 關于基板不僅是無垢的基板，還可以是利用處理裝置進行了各種處理的基 板。另外，關于處理裝置可以是不限于一個裝置單位的進行一系列處理的 裝置群，或者可以是伴隨基板輸送路徑的裝置群。另外，關于共用可以是 在兩個共用基板保管架的各個保管架中由不同的處理裝置利用同一基板 存儲場所的情況。
在專利文獻2中沒有記載是否共用了盒，以使不同處理裝置能夠利用 同一基板存儲場所。另外，因為沒有與各處理裝置對置地設置盒，所以需 要多余的基板移動所需的移動路徑(導軌)的空間。此外，因為不是在處理 裝置的兩側而是僅在單側設置有盒，所以認為不能與流向作業(yè)的裝置相對應。
在專利文獻3中因為處理裝置是一個所以沒有記載多個處理裝置共用 盒的結構。另外，不是在處理裝置兩側而是在單側設置盒，因此認為不能 與流向作業(yè)的裝置相對應。
在專利文獻4中沒有記載是否共用盒裝卸臺，以使不同的處理裝置能 利用同一基板存儲場所。另外，因為沒有與各處理裝置對置著設置盒裝卸 臺，所以在基板從與盒裝卸臺相離的位置向處理裝置移動時需要延長移動距離。此外，不是在處理裝置兩側而是在單側設置盒，因此認為不能與流 向作業(yè)的裝置相對應。
在專利文獻5中沒有記載是否共用堆料機，以使不同的處理裝置能利 用同一基板存儲場所。此外，不是在處理裝置兩側而是在單側設置盒，因 此認為不能與流向作業(yè)的裝置相對應。
在上述薄膜太陽電池制造系統(tǒng)中，多個處理裝置的至少一部分可通過 第1共用基板保管架或上述第2共用基板保管架來相互并排地進行配置， 上述多個處理裝置的至少一部分的配置順序不遵從上述薄膜太陽電池的 制造工序的順序。
通過利用被多個處理裝置所共用并設置在這些處理裝置周圍的共用 基板保管架，無需按照薄膜太陽電池制造工序的順序就能夠將多個處理裝 置分別配置在適合薄膜太陽電池制造工場內設置的場所。這是因為共用基 板保管架被各處理裝置所共用，處理裝置的至少一部分相互并排地進行配 置，這樣無論在哪個中保管基板都能夠與處理裝置的配置順序無關地取出 該基板。并且，能夠將基板向下一處理工序的處理裝置高效地輸送。另外， 因為并排地配置有多個處理裝置的至少一部分，所以處理裝置彼此間的間 隔為共有維護空間，因此維護空間也能夠同時降低。
在上述薄膜太陽電池制造系統(tǒng)中，多個處理裝置的至少一部分沒有變 更上述多個處理裝置的配置順序，可通過基板處理控制裝置來變更薄膜太 陽電池制造工序的順序。
艮口，當薄膜太陽電池制造工序的一部分有處理順序的變更時，無需移 動設置與處理工序順序變更對應的處理裝置，只要通過基板處理控制裝置 的控制程序變更就能夠改變制造工序的處理順序。
在上述薄膜太陽電池制造系統(tǒng)中，優(yōu)選將多個處理裝置分別配置在根 據(jù)多個處理裝置的高度而設定的區(qū)域內。
通過將多個處理裝置配置在不是根據(jù)薄膜太陽電池制造工序的順序
12而是根據(jù)多個處理裝置與地面相距的高度而設定的區(qū)域內，能夠有效地利 用多個處理裝置周邊的空間。例如，通過集中高度低的處理裝置來降低其 上部空間的頂板，或者在上部空間內設置兩層且配置其它處理工序的裝置 等，由此能夠有效利用工場內的空間，并降低工場建筑的建設成本。
在上述薄膜太陽電池制造系統(tǒng)中，優(yōu)選將多個處理裝置分別配置在根 據(jù)多個處理裝置的使用實用性而設定的區(qū)域內。
通過將多個處理裝置配置在不是根據(jù)薄膜太陽電池制造工序的順序、 而是根據(jù)多個處理裝置的使用實用性而設定的區(qū)域內，能夠簡便且進一步 安全地縮短與實用性相關的管道及布線等的引導。
在上述薄膜太陽電池制造系統(tǒng)中，第1共用基板保管架優(yōu)選具備保持 內部氣氛潔凈度比外部氣氛潔凈度高的第l凈化裝置。此外，第2共用基 板保管架優(yōu)選具備保持內部氣氛潔凈度比外部氣氛潔凈度高的第2凈化裝置。
因為兩個共用基板保管架分別具有凈化裝置，所以能夠保持這些內部 氣氛潔凈度比外部氣氛潔凈度高。由于兩個共用基板保管架限制內容積， 因此凈化裝置的通氣氣流容量不是大容量。結果，能夠以低成本極高地確 ?；鍧崈舳取?br> 在上述薄膜太陽電池制造系統(tǒng)中優(yōu)選還具有第1室、第3凈化裝置、 第2室、第4凈化裝置。其中，第1室包含第1共用基板保管架和多個處 理裝置之間的空間。第3凈化裝置保持第1室內的氣氛潔凈度比其它區(qū)域 的氣氛潔凈度高。第2室包含第2共用基板保管架和多個處理裝置之間的 空間。第4凈化裝置保持第2室的氣氛的潔凈度比其它區(qū)域的氣氛潔凈度 咼0
利用第1室以及第2室來覆蓋共用基板保管架和各處理裝置之間的空 間，并以凈化裝置進行凈化，所以能夠保持兩室的清潔度高。結果，能夠 保持共用基板保管架的清潔度也更高。由此，不需要形成使整個工場內都 為潔凈室這樣的嚴格管理狀態(tài)，從而降低工場建設的成本。而且，工場內
13各處理裝置可配置在潔凈室外的一般氣氛環(huán)境中，所以不需要穿著無塵服 這樣的特別作業(yè)管理，這樣特別提高了維護時的作業(yè)性，有助于生產(chǎn)性提 高。另外，為了保持清潔的環(huán)境可限定空間，所以能夠顯著地降低使HEPA 過濾器通氣的風扇動力等的潔凈室運用成本。
在上述薄膜太陽電池制造系統(tǒng)中優(yōu)選還具有第1基板移載裝置和第2 基板移載裝置。其中，第l基板移載裝置在第l室內進行基板的移動。第 2基板移載裝置在第2室內進行基板的移動。在此情況下，第l基板移載 裝置優(yōu)選具備保持內部氣氛潔凈度比外部區(qū)域氣氛潔凈度高的第5凈化裝 置。第2基板移載裝置優(yōu)選具備保持內部氣氛潔凈度比外部區(qū)域氣氛潔凈 度高的第6凈化裝置。
因為采用具備第5凈化裝置的第1基板移載裝置和具備第6凈化裝置 的第2基板移載裝置，所以即使在移載基板時也能夠更清凈地保持基板。
在上述薄膜太陽電池制造系統(tǒng)中，優(yōu)選在保管時的基板從鉛直方向傾 斜5°以上15°以下。
在從鉛直方向傾斜地保管基板時，為了以自重來穩(wěn)定地保持基板而優(yōu) 選從鉛直方向傾斜5。以上，為了減小裝置空間而優(yōu)選從鉛直方向傾斜15 °以下。此時，基板的撓度量因為上述傾斜角度而降低到水平時的約1/10。 由此，共用基板保管架內的基板設置間隔例如能夠從水平時的50mm降低 到30mm。結果，共用基板保管架的設置空間與水平的情況相比能夠降低 約20%。
在上述薄膜太陽電池制造系統(tǒng)中，第1共用基板保管架以及第2共用
基板保管架優(yōu)選分別具有多個基板保管架。多個基板保管架優(yōu)選能夠分別 和與多個基板保管架的每一保管架相同的其它基板保管架交換。
在一個基板保管架被處理工序途中的基板填滿時，將該保管架用橋式 起重機或叉車等取出向其它保管場所移動，取而代之能夠在此處插入其它 空的基板保管架。由此，即使在某基板保管架被填滿而無法繼續(xù)保管基板 時也能夠進行用其它基板保管架對應等柔性對應。
在上述薄膜太陽電池制造系統(tǒng)中還具備基板輸送裝置，其設置在第1 共用基板保管架以及第2共用基板保管架之間，保持內部氣氛潔凈度比外 部區(qū)域氣氛潔凈度高，并且使基板從第1共用基板保管架以及第2共用基 板保管架的一方向另一方移動。
因為能夠在潔凈度高的氣氛環(huán)境下進行第1共用基板保管架和第2共 用基板保管架之間的基板移動，所以可更清凈地保持基板。另外，通過采 用基板移動裝置，不僅是只包含第1共用基板保管架的基板保管場所共有， 實質上包含第2共用基板保管架的基板保管場所也能夠共有。結果，能夠 提高基板保管場所的靈活性，這樣即使進一步削減第1共用基板保管架和 第2共用基板保管架的基板保管中的余裕容量也能夠進行適當運用，能夠 降低工場建設成本?；遢斔脱b置可以是多個。
本發(fā)明第2方式的共用基板保管架具備多個基板保管架和多個凈化裝 置。多個基板保管架從鉛直方向傾斜地保管基板，且并排地設置在與上述 基板出入方向不同的方向上，多個凈化裝置針對上述多個基板保管架分別 地設置，向對應的上述多個基板保管架內提供潔凈度比周邊氣氛環(huán)境高的 氣體。將在薄膜太陽電池制造工序中使用的多個處理裝置內的上述基板搬 出的搬出部以及將上述基板搬入的搬入部的任意一方面向上述多個基板 保管架，并配置為被多個處理裝置所共用。上述多個基板保管架分別能夠 和與上述多個基板保管架的每一基板保管架相同的其它基板保管架交換。
在上述共用基板保管架中，基板保管架具有凈化裝置和開口機構。由 此，能夠清凈地保管基板。另外，因為基板從鉛直方向傾斜，所以基板即 使在與水平設置狀態(tài)相比基于基板自重的撓度量小、與鉛直設置狀態(tài)相比 狹的空間內也能夠利用基板自重來穩(wěn)定地保持基板的設置位置，所以能夠 顯著削減基板保管架的設置面積。而且，基板保管架和多個處理裝置被配 置為面向搬出部或搬入部，所以能夠使基板的移動距離極短。由此，能夠 顯著抑制基板移動所需的移動路徑的空間增加，從而能夠縮短基板保管處
理所需的間歇時間。
本發(fā)明的第3方式是采用了薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的薄膜太陽電池的 制造方法。這里，薄膜太陽電池系統(tǒng)具備第l共用基板保管架、第2共用 基板保管架和多個處理裝置。第1共用基板保管架和第2共用基板保管架 比鉛直方向傾斜地保管基板。多個處理裝置在薄膜太陽電池制造工序中使 用于基板的處理，該多個處理裝置被配置在第1共用基板保管架和第2共 用基板保管架之間的區(qū)域內，以使基板的搬出部以及搬入部的任意一方面 向第l共用基板保管架，另一方面向第2共用基板保管架。另外，還具備 控制上述基板的處理順序的基板處理控制裝置。第1共用基板保管架以及 第2共用基板保管架被多個處理裝置所共用，上述基板處理控制裝置控制 上述基板向上述多個處理裝置的至少一部分搬入以及搬出，控制上述基板 向上述第1共用基板保管架以及上述第2共用基板保管架搬入以及搬出。
薄膜太陽電池的制造方法具有以下工序(a)搬出第1共用基板保管架 或第2共用基板保管架所保管的基板，向多個處理裝置中的一個即對象處 理裝置搬入的工序；(b)在對象處理裝置中處理所搬入的基板的工序；以及 (c)從對象處理裝置中搬出已處理的基板，并向第1共用基板保管架或第2 共用基板保管架搬入并保管的工序。
在上述薄膜太陽電池的制造方法中，兩個共用基板保管架被多個處理 裝置所共用，用于保管基板。由此，作為共用基板保管架的基板庫存數(shù)量 不需要設置各裝置的最大必要量，從而能夠實現(xiàn)共用基板保管架的有效利 用化和最小化。另外該兩個共用基板保管架和多個處理裝置被配置為面向 搬出部或搬入部，所以能夠使基板的移動距離極短。由此，能夠顯著抑制 基板移動時間所需的移動路徑的空間增加。此外，因為移動距離短，所以 可縮短移動時間，提高作業(yè)效率。另外，處理裝置的至少一部分是基板從 裝置一方側進入、基板從另一側出來這樣的搬入部以及搬出部不同的在線 裝置或裝置群，因為在搬入或搬出基板的兩側方向上具有兩個共用基板保 管架所以不需要限定搬入方向和搬出方向，就能夠極有效地進行基板的臨 時保管。利用上述薄膜太陽電池制造系統(tǒng)可削減工場的設置空間，并能夠提高 處理裝置的維護性。利用上述基板保管架可削減基板保管架本身的大小以 及設置空間，并能夠簡單地維持清潔環(huán)境。另外，作為基板滯留用緩沖器 可與滯留的制造工序的變動柔性對應。此外，還能夠縮短基板保管處理所 需的間歇時間，提高生產(chǎn)效率。


圖1是表示現(xiàn)有技術的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的實施例的結構圖。 圖2是表示現(xiàn)有技術的基板盒的結構圖。 圖3是表示本實施方式的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的結構圖。 圖4A是表示釆用了該薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的薄膜太陽電池的制造 工序的示意圖。
圖4B是表示采用了該薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的薄膜太陽電池的制造
工序的示意圖。
圖4C是表示采用了該薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的薄膜太陽電池的制造 工序的示意圖。
圖4D是表示采用了該薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的薄膜太陽電池的制造 工序的示意圖。
圖4E是表示采用了該薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的薄膜太陽電池的制造 工序的示意圖。
圖4F是表示采用了該薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的薄膜太陽電池的制造 工序的示意圖。
圖4G是表示采用了該薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的薄膜太陽電池的制造
工序的示意圖。
圖4H是表示采用了該薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的薄膜太陽電池的制造 工序的示意圖。
圖41是表示采用了該薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的薄膜太陽電池的制造 工序的示意圖。
圖5A是表示采用了該薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的薄膜太陽電池的制造工序的示意圖。
圖5B是表示采用了該薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的薄膜太陽電池的制造 工序的示意圖。
圖5C是表示采用了該薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的薄膜太陽電池的制造 工序的示意圖。
圖5D是表示采用了該薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的薄膜太陽電池的制造
工序的示意圖。
圖5E是表示采用了該薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的薄膜太陽電池的制造
工序的示意圖。
圖5F是表示采用了該薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的薄膜太陽電池的制造 工序的示意圖。
圖6A是表示本實施方式的共用基板保管架的結構的示意圖。 圖6B是表示本實施方式的共用基板保管架的結構的示意圖。 圖7A是表示本實施方式的共用基板保管架的使用狀況的一例的示意圖。
圖7B是表示本實施方式的共用基板保管架的使用狀況的一例的示意圖。
圖8是表示本實施方式的基板保管架的結構的立體圖。
圖9是表示在基板保管架中支持基板的狀態(tài)的示意圖。
圖IO是表示本實施方式的基板保管架的開口機構的立體圖。
圖11是表示本實施方式的基板保管架的開口機構的俯視圖。
圖12是表示本實施方式的基板移載裝置的結構的立體圖。
圖13是表示本實施方式的基板下部支持輥的動作的立體圖。
圖14A是表示在基板移載裝置中支持著基板的狀態(tài)的示意圖。
圖14B是表示在基板移載裝置中移動著基板的狀態(tài)的示意圖。
圖15A是表示在基板下部支持輥中支持/移動基板的狀態(tài)的示意圖。
圖15B是表示在基板下部支持輥中夾持基板的狀態(tài)的示意圖。
圖16是表示本實施方式的基板移載裝置的其它結構的立體圖。
圖17是表示本實施方式的基板移載裝置的其它結構的立體圖。
圖18是表示本實施方式的基板輸送裝置的結構的立體圖。符號說明
1基板搬入裝置 2基板洗凈裝置
4透明電極制膜裝置(熱CVD裝置) 7 TCO(透明電極)激光刻蝕裝置 8基板洗凈裝置 9基板輸送裝置
10光電變換層制膜裝置(等離子CVD裝置)
12光電變換層激光刻蝕裝置
13背面電極制膜裝置(濺射裝置)
15基板洗凈裝置
16-1背面激光刻蝕裝置
16-2絕緣激光刻蝕裝置
17基板處理控制裝置
20-1， 20-2， 22區(qū)域
30薄膜太陽電池制造系統(tǒng)
30-1， 30-2邊界(側面)
40， 40-1、 40-2共用基板保管架
41， 41a-41g基板保管架
42過濾裝置
43基板上部支持輥
43a輥
44基板下部支持輥
44a輥
44b凹部
45箱體
46開口機構
47板
48， 48-1， 48-2板收納部49開口部
50移動用導軌
51基板移載裝置
52過濾裝置
53基板上部支持輥
53a輥
54基板下部支持輥
54a， 54b， 54b- 1， 54b - 1 ， ， 54b - 2， 54b-2，部件 54c輥
54c- 1， 54c-2輥部件
54e凹部
54f輥驅動部
55凈化臺(clean bench)
56移載機移動裝置
57移載部上下移動裝置
58移載部支持臺
61基板移載裝置
62過濾裝置
63基板側部支持輥
64基板側部支持輥
65凈化臺
66移載機移動裝置
67移載部上下移動裝置
68移載部支持臺
69移動部輥
70移動用導軌
72過濾裝置
73基板上部支持輥
74基板下部支持輥
75凈化臺81基板 82透明電極層
83光電變換層 84背面電極層 85太陽電池 86模塊
90， 91， 92分離槽
94周邊區(qū)域
95絕緣槽
97蓋板
98端子箱
200氣體關聯(lián)設備
具體實施方式

以下，參照附圖對本發(fā)明的實施方式進行說明。圖3是表示本實施方 式的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的結構圖。薄膜太陽電池制造系統(tǒng)30是設置 在薄膜太陽電池工場內、在透光性玻璃基板等基板上制造如非晶太陽電池 及串接型太陽電池這樣的薄膜太陽電池的系統(tǒng)。薄膜太陽電池制造系統(tǒng)30 具有配置在一般氣氛環(huán)境室內的多個處理裝置和共用基板保管架40 (40 -
1、 40 - 2)。
多個處理裝置是在薄膜太陽電池的制造工序中應用的裝置。這里作為 直到模塊制造的多個處理裝置的一例具備基板搬入裝置1、基板洗凈裝置
2、 透明電極制膜裝置(熱CVD裝置)4、 TC0(透明電極)激光刻蝕裝置7、 基板洗凈裝置8、基板輸送裝置9、光電變換層制膜裝置(等離子CVD裝 置)IO、光電變換層激光刻蝕裝置12、背面電極制膜裝置(濺射裝置)13、基 板洗凈裝置15、背面激光刻蝕裝置16-1、絕緣激光刻蝕裝置16-2。這 些處理裝置在被共用基板保管架40 - 1、 40 - 2相夾的區(qū)域22中基本上并 排地配置有各制造工序的各處理裝置或進行組合的前后工序的處理裝置群。此外，各處理裝置可以是組合了進行一連串處理的多個裝置的處理裝 置。
共用基板保管架40-1、 40-2是各處理裝置共同使用的用于吸收基 板滯留的緩沖器。其分別沿著面向配置薄膜太陽電池制造系統(tǒng)30的區(qū)域 的兩個邊界(側面)30 - 1、 30-2進行設置。S卩，共用基板保管架40- 1、 40 - 2在處理裝置群的周圍以面向各處理裝置中基板的搬入部以及搬出部 的方式進行配置。在各共用基板保管架40-1、 40-2上針對各處理裝置 處理后的基板未設定收納保管的專用區(qū)域(固定區(qū)域)，而構成為各處理裝 置能夠共同使用的方式。此外，基板不僅是還未進行任何處理的基板也可 以是由上述各處理裝置進行了處理的基板，在此為了簡單而統(tǒng)稱為基板。
通過在區(qū)域20-1、 20-2中主要沿著X方向移動并且動作的基板移 載裝置(后述)來分別進行共用基板保管架40 - 1、 40 - 2與各處理裝置之間 的基板的搬入/搬出。區(qū)域20- 1、 20-2分別是區(qū)域22和共用基板保管架 40- 1、 40-2之間的區(qū)域?；逡戚d裝置不是各處理裝置專用的，而構成 為各處理裝置可以共同使用?；逡戚d裝置在各個區(qū)域20- 1、 20-2中 可以是一臺也可以是多臺。
基板的處理順序可由基板處理控制裝置17來控制。基板處理控制裝 置17控制基板向至少一部處理裝置搬入和搬出，并且控制基板向第1共 用基板保管架40 - 1以及第2共用基板保管架40 - 2搬入和搬出。此外， 還進行基板移載裝置彼此間的聯(lián)系及各基板移載裝置和各處理裝置之間 的聯(lián)系，并利用內置于基板處理控制裝置17的控制用計算機(未圖示)中的 控制程序來進行控制。在基板處理控制裝置17中，例如，可通過薄膜太 陽電池制造系統(tǒng)30內的無線LAN來收發(fā)基板移載裝置彼此間、各基板移 載裝置與各處理裝置之間、各基板移載裝置以及各處理裝置與計算機之間 的信息及命令。該控制程序可將基板位置(包含保管位置)、基板向共用基 板保管架40的搬入/搬出預先存儲在控制用計算機專用的記錄區(qū)域內。另 外，可采用對基板所設置的基板ID進行管理?；錓D可以與各處理裝置的處理工序及中途的檢査工序聯(lián)動地使用于處理基板的品質管理中。另 外，該基板ID可以在設置于各基板移載裝置內的讀取裝置中進行讀取， 并在向計算機發(fā)送后能夠確認基板向共用基板保管架40的搬入/搬出。
對上述各處理裝置和薄膜太陽電池制造工序的對應進行說明。圖4A 圖4H以及圖5A 圖5F是表示采用了該薄膜太陽電池制造系統(tǒng)的薄膜太 陽電池的制造工序的示意圖。
首先，參照圖4A 圖4H以及圖5A 圖5F的示意圖來依次記述薄膜 太陽電池中的薄膜太陽電池制造時的主要制造工序。這里，模塊化工序如 圖4A 圖4H所示具有以下的(A) (H)的工序。
(A) 圖4A:基板81的接收、洗凈。
(B) 圖4B:在基板81上對透明電極層82進行制膜。
(C) 圖4C :激光刻蝕透明電極層82來形成、洗凈分離槽90。
(D) 圖4D :在透明電極層82上對光電變換層83進行制膜。
(E) 圖4E:激光刻蝕光電變換層83后形成、洗凈分離槽91。
(F) 圖4F:在光電變換層83上對背面電極層84進行制膜。
(G) 圖4G:激光刻蝕光電變換層83和背面電極層84來形成、洗凈分 離槽92。
(H) 圖4H:激光刻蝕透明電極層82、光電變換層83和背面電極層84 來形成、洗凈絕緣槽95，從而完成模塊86。
另一方面，面板化工序如圖5A 圖5F所示具有以下的(I) (N)的工序。
(I) 圖5A:削除、洗凈周邊區(qū)域94的透明電極層82、光電變換層83 和背面電極層84。
(J)圖5B:粘接蓋板97。 (K)圖5C:安裝端子箱98。 (L)圖5D 注入密封材料。 (M)圖5E:發(fā)電檢查。 (N)圖5F:完成薄膜太陽電池面板。
23以下，參照圖3 圖5F來說明薄膜太陽電池制造工序中的各處理裝置
以及共用基板保管架40和基板流向的關系。
(A) 將基板投入基板搬入裝置l(圖3中的(l))。接著，在基板洗凈裝置2中洗凈基板(圖3中的(2)，圖4A)。利用基板移載裝置將基板從基板洗凈裝置2搬出，向共用基板保管架40-2搬入。
(B) 利用基板移載裝置將基板從共用基板保管架40 - 2搬出，向透明電極制膜裝置(熱CVD裝置)4搬入。然后，在透明電極制膜裝置4中，在基板上對透明電極層82進行制膜(圖3中的(3)，圖4B)。利用基板移載裝置將基板從透明電極制膜裝置4搬出，向共用基板保管架40 - 1搬入。
(C) 將基板從共用基板保管架40 - 1搬出，向TCO(透明電極)激光刻蝕裝置7搬入。然后，利用TC0激光刻蝕裝置7經(jīng)由激光刻蝕在透明電極層82上形成槽90(圖3中的(4)，圖4C)。由此，將透明電極層82分離成長方形狀。然后，利用基板洗凈裝置8洗凈基板(圖3中的(5))。利用基板移載裝置將基板從基板洗凈裝置8搬出，向共用基板保管架40 - 2搬入。或者將基板從基板洗凈裝置8搬出，利用基板移載裝置向基板輸送裝置9搬入，并經(jīng)由基板輸送裝置9進行輸送(圖3中的(6))，利用基板移載裝置從基板輸送裝置9搬出并向基板共用架40 - 1搬入。
(D) 利用基板移載裝置將基板從基板共用架40-1搬出，向光電變換層制膜裝置(等離子CVD裝置)IO搬入。然后，利用光電變換層制膜裝置10，在透明電極層82上對光電變換層83進行制膜(圖3中的(7)，圖4D)。光電變換層83通常由p層、i層、n層半導體層構成。在光電變換層83為串接型的情況下，還將基板從基板共用架40-2搬出，利用基板移載裝置向基板輸送裝置9搬入，并經(jīng)由基板輸送裝置9進行輸送(圖3中的(6))，利用基板移載裝置從基板輸送裝置9搬出，向光電變換層制膜裝置(等離子CVD裝置)IO搬入。然后，利用光電變換層制膜裝置IO對作為串接型太陽電池底部層的光電變換層83進行制膜(圖3中的(7)，圖4D)。
(E) 通過光電變換層激光刻蝕裝置12以激光刻蝕的方式在光電變換層83上形成槽91(圖3中的(8)，圖4E)。由此，光電變換層83在透明電極層82的刻蝕位置和稍稍偏移的位置上分離成長方形狀。利用基板移載裝置將基板從光電變換層激光刻蝕裝置12搬出，向共用基板保管架40-2搬入。(F) 利用基板移載裝置將基板從共用基板保管架40 - 2搬出，向背面電
極制膜裝置(濺射裝置)13搬入。然后，利用背面電極制膜裝置13，在光電變換層83上對背面電極層84進行制膜(圖3中的(9)，圖4F)。利用基板移載裝置將基板從背面電極制膜裝置13搬出，向基板共用架401搬入。
(G) 利用基板移載裝置將基板從共用基板保管架40-1搬出，向基板洗凈裝置15搬入。并且，在基板洗凈裝置15中洗凈基板(圖3中的(IO))。然后，利用背面激光刻蝕裝置16-1以激光刻蝕的方式在背面電極層84以及光電變換層83上形成槽92(圖3中的(ll)，圖4G)。由此，背面電極層84以及光電變換層83在進一步偏移了刻蝕位置的位置上分離成長方形狀，形成與長方形狀的多個太陽電池85串聯(lián)連接的模塊86。
(H) 利用純緣激光刻蝕裝置16 - 2在背面電極層84、光電變換層83以及透明電極層82上以激光刻蝕的方式形成有絕緣槽95(圖3中的(12)，圖4H)。由此，使面向模塊86的二邊絕緣。利用基板移載裝置將基板從絕緣激光刻蝕裝置16-2搬出，向共用基板保管架402搬入。其中，關于圖4H中的X方向以及Y方向，圖4I所示的模塊86中的太陽電池85的長方形方向是Y方向，與Y方向垂直的方向是X方向。
此外，當在設置于共用基板保管架40- 1、 40-2之間的空間內的處理裝置中有裝置長度較短的裝置時，在處理裝置的基板搬入側或搬出側追加設置必要輸送長度的基板輸送裝置，以能夠與基板移載裝置進行基板交接。另外在處理裝置中，如果有基板的搬入及搬出方向不面向共用基板保管架40- 1、 40-2的處理裝置，則追加向基板的搬入及搬出方向旋轉的裝置進行對應。
另外，可利用基板輸送裝置9使基板在共用基板保管架40 - 1和共用基板保管架402之間移動，并且根據(jù)需要設置多臺基板輸送裝置9，由此
能夠縮短使基板移動的間歇時間，提高制造線的靈活性。
之后的面板化工序與模塊制造工序相比，其處理裝置的設置氣氛環(huán)境不需要嚴格的清潔環(huán)境可以是一般的環(huán)境，所以能夠在工場的其它區(qū)劃中配置處理裝置。例如可以在圖3模塊化工序的地板的階上、階下或鄰接地板上配置圖1所示的日本特開2005 - 235904號公報中進行從膜研磨裝置200880020468.X
說明書第21/34頁 管架40 _ 2取出的基板利用膜研磨裝置120來研磨除去周邊區(qū)域94的背面電極層84/光電變換層83/透明電極層82 (圖5A)。 (J)接著，利用基板洗凈器121洗凈基板，利用貯存裝置122、層壓裝置123以及面板化裝置124將蓋板97與基板粘接(圖5B)。 (K)接著，在端子臺安裝裝置125中將端子箱安裝到基板上(圖5C)。 (L)利用密封劑(封閉劑)來填充端子箱進行封閉封入(圖5D)。 (M)然后，利用基板輸送器126向發(fā)電檢查裝置127輸送，并在此進行發(fā)電檢查(圖5E)。 (N)然后，作為完成品分類至(圖5F)性能分類保管庫128。
如圖3所示，優(yōu)選將處理裝置或組合后的處理裝置群配置在區(qū)域22內，以使其基板搬入口以及基板搬出口的任意一方朝向共用基板保管架40-l，另一方朝向共用基板保管架40-2。這樣容易將從共用基板保管架40搬出的基板搬入處理裝置內。另外，處理裝置具有直線形狀，在其一端具有基板搬入口、另一端具有基板搬出口的情況下，優(yōu)選相對于共用基板保管架40-1、 40-2的長邊方向將處理裝置配置成近似直角。圖3的例子為相對于X方向是長邊的共用基板保管架40在Y方向上處理前進的處理裝置或處理裝置群。
其中，在共用基板保管架40 - 1某側以及共用基板保管架40 - 2某側的任意一方?jīng)]有基板滯留或即便不使基板滯留也能夠對應這樣的情況下，可以僅選擇共用基板保管架40- 1、 40-2的某一方。在此情況下，在沒有共用基板保管架40的一側，例如可通過基板移載裝置(后述)使基板向下一處理裝置移動。
在圖3的例子中，作為薄膜太陽電池制造系統(tǒng)30例示了用于實施光電變換層為單層的薄膜太陽電池的模塊化工序的多個處理裝置。但本發(fā)明不限于此例，也可以是制造光電變換層為多個的串接型薄膜太陽電池的系統(tǒng)或包含面板化工序的制造系統(tǒng)。在此情況下，根據(jù)需要將其它處理裝置配置在被共用基板保管架40-1、 40-2相夾的區(qū)域(22)內。
在薄膜太陽電池的制造工序中，有由于處理裝置的尺寸及基板搬入部(裝載機)和搬出部(卸載機)的位置這樣的裝置特征而在處理工序依次排列時導致工場內設置空間的效率變差的處理裝置。另外，還有因為實用性(例
示如氣體供給裝置以及排氣體處理裝置這樣的氣體關聯(lián)設備)等的關系而限制工場內設置位置的裝置。例如在圖3的情況下，光電變換層制膜裝置
(等離子CVD裝置)10需要在設置于工場建筑外的氣體關聯(lián)設備200之間進行氣體的供給以及排出。由于希望氣體管道盡量短，所以優(yōu)選將光電變換層制膜裝置10盡量配置在工場建筑的壁側。另外，光電變換層制膜裝置10與其它處理裝置相比是距離地面的高度較高的裝置，優(yōu)選在裝置維護中利用橋式起重機，因此難以進行在其上部空間內造出上層(例如兩層)房屋這樣的空間有效利用。為了在工場內造出廣闊的兩層房屋以有效利用空間，而需要將光電變換層制膜裝置10盡量配置在工場建筑的壁側，將能夠在上部空間造出兩層房屋的高度低的處理裝置集中到其相對側。為此，將光電變換層制膜裝置10設置在工場建筑的壁側即區(qū)域P2，將其它
處理裝置設置在其相對側的區(qū)域P1。如果在區(qū)域P1的上部空間內造出上層(例如兩層)的房屋、在其地板上配置面板化工序的處理裝置，則能夠縮小工場的設置面積并有效地利用土地。
這樣，這些各處理裝置并不遵從處理工序的順序，而是并排地分別配置在適合薄膜太陽電池制造工場內設置的場所，通過利用周圍所設置的共用基板保管架和基板移載裝置，可將基板在下一工序中向能夠進行必要處理的裝置高效輸送。然后，通過采用該共用基板保管架，可確保向自動倉庫和各裝置的基板融通性的雙方功能。適合工場內設置的場所例如是被設
27定為在每個處理裝置的高度范圍內集中配置的場所或以實用性關系預先設定的場所。在本實施方式中還因為處理裝置彼此間的間隔為共有維護空間，所以連維護空間也能夠同時降低。
接著，對共用基板保管架40詳細地進行說明。
圖6A、圖6B是表示本實施方式的共用基板保管架的結構的示意圖。這里對共用基板保管架40 - 1進行說明，不過共用基板保管架40 - 2也是同樣的。如圖6A所示，共用基板保管架40- 1具有多個基板保管架41，該多個基板保管架41具有在X方向上排列的結構。例如在圖例中，在一個基板保管架41上保存50片基板的情況下具有6個基板保管架41a 41f，所以能夠保存300片基板。
另外如圖6B所示，例如，某處理裝置需要長時間的運轉停止，在該處理裝置的上游大量處理基板開始滯留，因此基板保管架41c被基板填滿而無法接受其它處理裝置的基板，在此情況下會給長時間運轉停止中的處理裝置上游和下游的處理裝置的處理作業(yè)帶來影響。此時，取出被基板填滿的基板保管架41c并移動到其它保管場所，取而代之在此插入空的基板保管架41g。由此，即使在某基板保管架41被填滿而無法繼續(xù)保管基板的情況下，也能夠利用其它基板保管架41對應，從而可以進行能繼續(xù)長時間運轉停止中處理裝置的上游和下游處理裝置的處理作業(yè)等柔性對應。作
為移動方法可采用日本特開2005 - 235904號公報所述的橋式起重機來進 行輸送。
圖7A、圖7B是表示本實施方式的共用基板保管架的使用狀況的一例 的示意圖。圖7A以及圖7B表示在不同時刻的基板滯留狀態(tài)的例子。處 理工序結束后的基板滯留量根據(jù)各處理工序的處理狀況而不同。如圖7A 所示，在某時刻中將處理工序A已結束的基板100a、處理工序B己結束 的基板100b、處理工序C已結束的基板100c、處理工序D已結束的基板 100d分別保存在共用基板保管架40 - 1上。在基板100a及基板100c的保 管中，基板保管架41 一個就夠了。但是，在基板100b及基板100d的保 管中，基板保管架41需要兩個。
另一方面，如圖7B所示，在某時刻中將處理工序A己結束的基板 100a、處理工序B己結束的基板100b、處理工序C已結束的基板100c、 處理工序D已結束的基板100d分別保存在共用基板保管架40- 1上。在 基板100b及基板100d的保管中基板保管架41 一個就夠了。但是，在基 板100a及基板100c的保管中，基板保管架41需要兩個。
當考慮上述狀況時，在圖l現(xiàn)有技術的情況下，處理工序A、 B、 C、 D用的基板保管架41需要分別準備兩個。g卩， 一共需要準備八個基板保 管架41。
但是，如圖7A、圖7B所示，共用基板保管架40 - 1的各基板保管架 41在各處理工序中共用，所以各處理工序對最近的基板保管架41沒有束 縛，可以使用周圍的基板保管架41。即，在滯留基板多的情況下，不限于 最近的基板保管架4K其它多個基板保管架41也能夠使用。在此情況下， 基板保管架41無論是否正在其它處理工序中使用都能夠進行應用。由此， 能夠抑制基板保管架41的需要量并縮小余裕量。此時，只要一共準備六 個基板保管架41就能夠對應。
因為在各處理工序中有處理速度或維護周期的偏差，所以需要臨時保管滯留基板的基板保管架。當沒有滯留連貫地流動基板時，由于存在各處 理裝置的處理速度差及維護定時差，所以整個工場的生產(chǎn)量大大降低。當 針對各個處理工序設置基板保管架(圖1的現(xiàn)有技術)時，需要與在各個處 理工序中滯留的最大量對應的基板保管架。而且，如果滯留臨時增大，則 向基板盒等保管、向工場線外移動等應對處理有可能嚴重地產(chǎn)生生產(chǎn)性處 理混亂。
但在本實施方式的共用基板保管架中，基板保管架不是每個處理裝置 的專用而是在多個處理裝置間共用。由此，作為基板保管架的基板庫存量 不需要設置各裝置的最大必要量，這樣可實現(xiàn)基板保管架的有效利用化和
最小化。例如，與以圖1現(xiàn)有技術的S字蛇形線進行配置的基板盒保管相 比，針對保管空間，作為整體可降低約50°/。的設置空間。通過這樣的基板 保管架整體量的降低可實現(xiàn)工場內空間的有效利用和基板保管架的成本 降低。另外，能夠使在各處理工序中的基板滯留整體流動化，并能夠防止 生產(chǎn)線處理混亂。而且，在保管基板萬一增大的情況下，由橋式起重機等 吊起基板保管架向工序外搬出并暫時保管，另一方面可以向空的部分插入 空的基板保管架來進行對應。
接著，對基板保管架41詳細地進行說明。
如上所述，共用基板保管架40具備多個基板保管架41，多個基板保 管架41具有在x方向上排列的結構。圖8是表示本實施方式的基板保管 架的結構的立體圖?；灞９芗?1具有箱體45、過濾裝置42、多個基 板上部支持輥43和多個基板下部支持輥44。箱體45具有近似長方體的形狀。其與Y方向垂直的一個面開放，使
基板100能夠出入。其中，基板IOO不僅表示沒有實施任何處理的基板，
還表示包含實施了制膜及刻蝕等處理后的基板雙方的基板。
過濾裝置42吸引外部空氣利用HEPA過濾器進行凈化，并向箱體45 提供比周邊氣氛環(huán)境的潔凈度(清潔度)高的氣體，使其內部為少許正壓。
多個基板上部支持輥43沿著X方向相互平行地排列在箱體45內側的 上部平面上，使其長邊方向與Y方向平行。在基板上部支持輥43中設置 有多個輥，當基板100移動時，能夠容易移動地進行旋轉。
多個基板下部支持輥44沿著X方向相互平行地排列在箱體45內側的 下部平面上，使其長邊方向與Y方向平行。在基板下部支持輥44中設置 有多個輥，當基板100移動時，能夠容易移動地進行旋轉。
在將制膜等處理面作為上表面且與鉛直方向傾斜角度a的狀態(tài)下，將 基板100支持在基板上部支持輥43和基板下部支持輥44上，該處理面與 基板的制膜面未接觸、通過基板自重來穩(wěn)定其位置并予以保持。圖9是表 示在基板保管架中支持基板的狀態(tài)的示意圖?；?00的下側被支撐于基 板下部支持輥44的輥44a的凹部44b中。另外，基板100的上部表面(與 制膜面相對側的基板表面)被支撐于基板上部支持輥43的輥43a上。在相 對于基板保管架41將基板100搬入/搬出時，輥43a以及輥44a —邊支持 基板100并且容易移動地進行旋轉。另外，基板100的傾斜方向是將形成 太陽電池的面(制膜面)作為上表面傾斜成與輥43a所接觸的面相對。凹部 44b的凹深度比太陽電池模塊的周邊區(qū)域94的寬度小。這樣，作為支撐基 板100自重的場所的輥43a與膜面成為相對側，凹部44b也未與膜接觸， 所以在基板保管架41上將基板100搬入/搬出時，不會傷到制膜面?；?上部支持輥43a及基板下部支持輥44a等各輥的材質優(yōu)選不會使基板受傷 且生塵少的材質，例如，作為一例可使利用UpE、奪鋼(-二，〕:/， duracon)、特氟隆(x7口乂)(注冊商標)等。
從基板100的鉛直方向傾斜的角度a如日本特開2000 - 177842號公 報「輸送裝置以及真空處理系統(tǒng)」所述，優(yōu)選用于確保以基板自重來穩(wěn)定的輸送狀態(tài)的7。以上，優(yōu)選用于節(jié)省裝置空間的12°以下。但是，基板
保管架41在基板100靜止的狀態(tài)下保持。因此，其容許值范圍可稍微放 寬，根據(jù)確認試驗的結果，如果是5。以上則能夠以自重穩(wěn)定并保持。另 一方面，因為基板保存有多片，所以即使距鉛直方向的傾斜角稍稍增大作 為基板保管架41整體也僅對兩端區(qū)域的基板傾斜角度的死區(qū)空間產(chǎn)生影 響，對尺寸放大的影響非常小。因此，該容許值范圍可朝變大的方向稍稍 放寬，根據(jù)與占有面積的關系，只要是15°以下就充分地節(jié)省了空間。
另外，基板100的撓度量為距鉛直方向傾斜角度的sin分量，所以在 上述傾斜角度的范圍內降低為水平時的約1/10。由此，基板保管架40內 的基板設置間隔可從水平時的約50mm降低至約30mm。結果，能夠使基 板保管架41的設置空間降低約20%。
圖10是表示本實施方式的基板保管架的開口機構的立體圖。另外， 圖11是表示本實施方式的基板保管架的開口機構的上表面圖。開口機構 46限制與箱體45的Y方向垂直的面中開放至基板100能夠出入的區(qū)域的 開口面積。該開口機構46具備板收納部48-l、 48-2、板47。通過限 制開放區(qū)域的開口面積，能夠容易地提高基板保管架內部的清潔度。
板收納部48- 1、 48-2的任意一方巻起板47，另一方送出該板47。 板47具有與垂直于箱體45的Y方向的面大致相同的寬度，該板被設置成 覆蓋其面。其中，在板47的一部分上設置有開口部49。當該開口部49 出現(xiàn)在板收納部48- 1、 48-2之間(與箱體45的Y方向垂直的面上)時， 可從該開口部49出入基板100。作為板47可采用清潔室用的抗靜電塑料 幕。由本開口機構46和箱體45來構成可極高地確保基板100的潔凈度的 凈化臺。
此外，這里示出與箱體45的Y方向垂直的兩面中從一個面出入基板 100的情況作為例子。但是，在從與箱體45的Y方向垂直的兩面出入基 板100的情況(開放與箱體45的Y方向垂直的兩面的情況)下，另一面 也可以設置開口機構46。
接著，對基板移載裝置詳細地進行說明。
圖12是表示本實施方式的基板移載裝置的結構的立體圖?；逡戚d 裝置51是進行各處理裝置和共用基板保管架40或其它處理裝置之間的基 板移動以及搬入/搬出的裝置。基板移載裝置51可設置在區(qū)域20-1、 20 -2的各個區(qū)域上，并被在X方向上延伸的移動用導軌50引導著進行移 動?；逡戚d裝置51具備過濾裝置52、基板上部支持輥53、基板下部 支持輥54、凈化臺55、移載機移動裝置56、移載部上下移動裝置57、移 載部支持臺58。
過濾裝置52吸引外部空氣后利用HEPA過濾器進行凈化，提供潔凈 度(清潔度)比周邊氣氛環(huán)境高的氣體，使凈化臺55內部成為少許正壓。
基板上部支持輥53配置在凈化臺55內側的上部平面上，使其長邊方 向與Y方向平行。在基板上部支持輥53中設置有多個輥，其支持與基板 IOO上部制膜面的相對側，在基板100移動時，可容易移動地進行旋轉。
基板下部支持輥54配置在凈化臺55內側的下部平面上，使其長邊方 向與Y方向平行。在基板下部支持輥54中設置有多個輥，當基板100移
動時進行旋轉驅動，使基板在其移動方向上移動。另外，基板下部支持輥 54的共用基板保管架40側的端部在基板搬入/搬出時朝共用基板保管架40 方向移動。同樣，基板下部支持輥54的處理裝置側的端部在基板搬入/搬 出時朝處理裝置方向移動。 ' 凈化臺55具有近似長方體的形狀。與Y方向垂直的面具有門部(未圖 示)，在基板搬入/搬出時開放該門部。或者與Y方向垂直的面具有對基板 搬入/搬出沒有支障的縫隙寬度的開口。該基板移載裝置在即使是基板移載 中也能夠確保潔凈度的空間內可通過凈化臺55和過濾裝置52來保持基板 100。
移載機移動裝置56保持移載部支持臺58，該移載部支持臺58正保持 著移載部以及移載部上下移動裝置57。其中，移載部包含過濾裝置52、 基板上部支持輥53、基板下部支持輥54以及凈化臺55。移載機移動裝置 56自身在移動用導軌50上沿著士X方向移動，由此使移載部支持臺58向士X
33方向時希望位置移動。
移載部上下移動裝置57在基板向各處理裝置以及基板保管架40搬入
/搬出時沿著上下方向(Z方向)移動，以使移載部在Y方向的基板輸送水平
一致。.—
移載部支持臺58在上下方向(Z方向)上保持移載部上下移動裝置57。
圖13是表示本實施方式的基板下部支持輥54的動作的立體圖。基板 下部支持輥54具有在Y方向上延伸的部件54a、在Y方向上延伸并設置 于部件54a兩端的部件54b(54b- 1、 54b - 2)、多個輥54c。多個輥54c 在基板100移動時進行旋轉驅動，以使基板在其移動方向上移動。
設置在部件54a的共用基板保管架40側端的部件54b - 1在基板搬出
時通過延伸機構(未圖示)朝共用基板保管架40方向(54b - r的位置)移動，
并到達共用基板保管架40的基板下部支持輥44的跟前。由此，能夠使基 板從基板移載裝置51向共用基板保管架40穩(wěn)定地移動。另外，部件54b
- 1利用延伸機構在基板搬入時， 一度向下方(-z方向)降低，朝共用基板
保管架40方向(54b-1，的方向)移動，并從此處向上方(+Z方向)提升到達 54b- 1，的位置。部件54b - 1(54b - 1，的位置)在向上方提升時，夾持共 用基板保管架40的基板100的端部。然后，在部件54b - 1返回到初始位 置時，基板100向基板移載裝置51引出。然后，利用輥54c的驅動可使 基板100向基板移載裝置51穩(wěn)定地移動。
同樣，設置在部件54a的共用基板保管架40側端的部件54b - 2在基 板搬出時，通過延伸機構(未圖示)向處理裝置方向(54b-2'的位置)移動， 并到達處理裝置的基板出入部(未圖示)的跟前。由此，可使基板從基板移 載裝置51向處理裝置穩(wěn)定地移動。另外，部件54b-2利用延伸機構在基 板搬入時一度向下方(-Z方向)下降，朝處理裝置方向(54b-2，的方向) 移動，并從此處向上方(+Z方向)提升，到達54b-2'的位置。部件54b-2(54b-2'的位置)在向上方提升時，夾持處理裝置的基板100的端部。然 后，在部件54b-2返回初始位置時，基板100向基板移載裝置51引出。之后，通過輥54c的驅動可使基板100向基板移載裝置51穩(wěn)定地移動。
在將制膜等處理面作為上表面且從鉛直方向傾斜角度卩的狀態(tài)下，將 基板100支持在基板上部支持輥53和基板下部支持輥54上。圖14A是表 示在基板移載裝置中支持基板的狀態(tài)的示意圖。圖14B是表示在基板移載 裝置中使基板移動的狀態(tài)的示意圖。將基板100的下側支撐于基板下部支 持輥54的輥54c的凹部54e。另外，將與基板100上部的制膜面相對的表 面支撐于基板上部支持輥53的輥53a上。輥54c包含輥部件54c - 1 、 54c _ 2。
在基板移載裝置51保持基板100時，如圖14A所示，輥53a與輥43a 同樣地支持基板100。另一方面，輥54c利用輥部件54c - 1和輥部件54c -2來支持基板100，但輥部件54c - 1和輥部件54c - 2松弛且凹部54e
的寬度較寬，從而沒有夾住基板ioo。
輥53a優(yōu)選設置致動器，以使基板位置在基板移載裝置51移動中不 變化。優(yōu)選輥53a稍微夾住基板且在輥的旋轉軸上設置致動器機構的簡便 方法。
當基板移載裝置51搬入/搬出基板100時，在圖14A所示的狀態(tài)下， 輥53a—邊支持基板IOO—邊容易移動地進行旋轉。另一方面，在輥部件 54c - 1和輥部件54c - 2松弛且凹部54e的寬度較寬的狀態(tài)下，利用輥驅 動部54f進行旋轉驅動，使該基板100向希望的方向移動。其中，如前所 述在部件54b - 1、 54b - 2向共用基板保管架40及處理裝置延伸并夾持地 引出基板100時，輥54c如圖14B所示。即，與軸部件54d結合的輥部件 54c - 2因基于輥驅動部54f的軸部件54d移動而壓在輥部件54c - 1上并 相互接觸，使凹部54e的寬度變窄。由此，輥54c能夠以夾入的方式夾持 該基板100。
另外，基板100的傾斜方向是將形成太陽電池的面(制膜面)作為上表 面傾斜成與輥53a所接觸的面相對。凹部54e的凹深度比周邊區(qū)域94的
35寬度小。這樣，作為支撐基板100自重的場所的輥53a與膜面成為相對側， 凹部54e也未與膜接觸，所以在基板保管架51上將基板100搬入/搬出時， 不會傷到制膜面。
基板100的傾斜角度p如日本特開2000 - 177842號公報「輸送裝置 以及真空處理系統(tǒng)」所述，優(yōu)選用于確保以基板自重來進行穩(wěn)定的輸送狀 態(tài)的7°以上，優(yōu)選用于節(jié)省裝置空間的12°以下。
在圖12 圖14B中針對僅輸送1片基板的基板移載裝置進行說明。 但是，本發(fā)明不限于此，還可以通過增加基板上部支持輥53以及基板下 部支持輥54的數(shù)量來同時移載多個基板。圖15A是表示在基板下部支持 輥中支持/移動基板的狀態(tài)的示意圖。這里記載著同時夾持4片基板的基板 下部支持輥。圖15B是表示在基板下部支持輥中夾持基板的狀態(tài)的示意 圖。結構以及動作除了基板上部支持輥53以及基板下部支持輥54的數(shù)量 增加之外都與圖12 圖14B的情況相同，所以省略其說明。
在圖12 圖15B中說明使基板在大致站立的狀態(tài)(鉛直縱方向)下進行 保持、移動、搬入/搬出的基板移載裝置。但是，本發(fā)明不限于此，也可以 在基板平躺的狀態(tài)(水平橫方向)下進行保持、移動、搬入/搬出。在處理裝 置中以水平狀態(tài)對基板進行處理，這是因為在這樣的處理裝置中對每個處 理裝置的裝載機及卸載機都設置基板傾斜角旋轉機構是非效率的。圖16 以及圖17是表示本實施方式的基板移載裝置的其它結構的立體圖。圖16 表示基板平躺的狀態(tài)，圖17表示基板大致站立的狀態(tài)(與圖12 圖15B的 情況相對應)。該基板移載裝置61是進行基板向各處理裝置和共用基板保 管架40或其它處理裝置之間移動以及搬入/搬出的裝置?；逡戚d裝置61 被設置在區(qū)域20- 1、 20-2的各個區(qū)域中，并被在X方向上延伸的移動 用導軌50引導進行移動?；逡戚d裝置61具備過濾裝置62、基板側部 支持輥63、基板側部支持輥64、凈化臺65、移載機移動裝置66、移載部 上下移動裝置67、移載部支持臺68、移動部輥69、移動用導軌70。
36過濾裝置62吸引外部空氣后利用HEPA過濾器進行凈化，供給潔凈 度(清潔度)比周邊氣氛環(huán)境高的氣體，使凈化臺65內部成為少許正壓。
基板側部支持輥63以及基板側部支持輥64具有基板的水平載荷支持 和橫向引導功能。
凈化臺65具有近似長方體的形狀。與Y方向垂直的面具有門部(未圖 示)，在基板搬入/搬出時開放該門部?；蛘吲cY方向垂直的面可具有對基 板的搬入/搬出沒有阻礙的縫隙寬度的開口。該基板移載裝置在即使是基板 移載中也能夠確保潔凈度的空間內可通過凈化臺65和過濾裝置62來保持 基板100。
在圖16的狀態(tài)中，配置有基板側部支持輥63、 64，使其與凈化臺65 內的Y方向平行，然后設置有多個輥。該多個輥在基板100移動時利用旋 轉驅動部(未圖示)來旋轉驅動，使基板ioo朝其移動方向移動。
當基板朝水平方向搬入和搬出時(參照箭頭)，基板側部支持輥63以 及輥64可以從Y方向的兩側引入基板100。然后，旋轉驅動基板側部支 持輥63以及輥64，將基板100向凈化臺65外搬出。
移載機移動裝置66保持著移載部、移載部上下移動裝置67、移載部 支持臺68、移動用導軌70。其中，移載部包含過濾裝置62、基板側部 支持輥63、基板側部支持輥64、凈化臺65、移動部輥69。移載機移動裝 置66自身在移動用導軌50上朝士X方向移動，由此使移載部、移載部上 下移動裝置67、移載部支持臺68、移動用導軌70向士X方向的希望位置 移動。
移載部上下移動裝置67在基板搬入/搬出時使移動部對應于從基板搬 入/搬出對象的基板鉛直方向起的傾斜方向進行移動，使移動部內的基板成 為大致縱方向(大致鉛直方向)以及橫方向(水平方向)的某一方向。在移動部 內的基板為大致縱方向(大致鉛直方向)的情況下，使移載部上下移動裝置 67a沿著移動用引導器67b向上方(+Z方向)移動。由此，移動部輥69在移 動用導軌70上朝+X方向移動，并且移動部主體以旋轉支持軸67C為中心 相對地旋轉。結果，成為圖17所示的狀態(tài)。在移動部內的基板為橫方向(水
37平方向)的情況下，進行與大致縱方向的情況相反的動作。
移載部支持臺68在上下方向(Z方向)上保持移載部上下移動裝置67。
在凈化臺65中，將移動部輥69設置在與移動用導軌70的位置對應的位置上。當移動部移動時，通過移動該移動用導軌70來使移動部的移動變得圓滑。
移動用導軌70被設置在移載機移動裝置66上，其引導移動部輥69。
在希望將基板從共用基板保管架40-1、 40-2的任意一方側向另一方側移動時，可使用基板輸送裝置9。圖18是表示本實施方式的基板輸送裝置的結構的立體圖?；遢斔脱b置9具備過濾裝置72、基板上部支持輥73、基板下部支持輥74、凈化臺75。過濾裝置72、基板上部支持輥73、基板下部支持輥74、凈化臺75與基本地過濾裝置52、基板上部支持輥53、基板下部支持輥54、凈化臺55相同。其中，因為基板的移動距離較長，所以與基板上部支持輥53、基板下部支持輥54不同的點是基板上部支持輥73、基板下部支持輥74的中途部分變長。該基板移載裝置在即使是基板移載中也能夠確保潔凈度的空間內可通過凈化臺75和過濾裝置72來保持基板100。另外，因為采用了基板輸送裝置9，所以不僅僅是例如只包含一方的共用基板保管架40 (例示40 - l)且處理裝置共有基板保管場所的情況，實質上還可以是包含另一方的共用基板保管架40(例示40-2)且共有基板保管場所的情況。即，基板IOO的保管場所的靈活性提高?；遢斔脱b置9可以是多臺，通過根據(jù)需要設置多臺基板輸送裝置9可以縮短使基板移動的間歇時間，提高制造線的靈活性。
在本實施方式中，共用基板保管架、基板移載裝置采用凈化臺，所以能夠在清凈的空間內保管、移載基板。例如，在整個薄膜太陽電池制造系統(tǒng)30處于一般氣氛環(huán)境(例如等級50萬左右)的情況下，基板保管架在有開口機構時是等級1000 5000左右，沒有開口機構時是等級1萬 5萬左右，基板移載裝置為等級1萬左右。而且，在利用凈化臺或清潔室(未圖示)來覆蓋包含共用基板保管架與基板移載裝置之間以及基板移載裝置與處理裝置之間的空間的區(qū)域20的情況下，當該區(qū)域的清潔度為例如等級10萬左右時，基板保管架在有開口機構時是等級1000左右，在沒有開口機
構時是等級1000 5000左右，基板移載裝置為等級IOOO左右。這樣，不需要形成使整個工場內都為潔凈室的嚴格管理狀態(tài)，從而能夠降低工場的成本。而且，還因為工場內各設備處于一般氣氛環(huán)境下，所以不需要穿著無塵服這樣的特別作業(yè)管理，這樣特別提高了維護時的作業(yè)性，有助于生產(chǎn)性提高。
如以上所示，利用本發(fā)明的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)可削減工場的設置空間。另外，利用本發(fā)明的共用基板保管架可削減保管所涉及的大小以及設置空間。另外，本發(fā)明的共用基板保管架可作為基板滯留用緩沖器與滯留的制造工序的變動柔性對應。
本發(fā)明不限于上述各實施方式，顯然在本發(fā)明的技術思想范圍內可適當變形或變更各實施方式。
權利要求
1.一種薄膜太陽電池制造系統(tǒng)，其具備第1共用基板保管架，其從鉛直方向傾斜地保管基板；以及多個處理裝置，其在薄膜太陽電池的制造工序中使用于上述基板的處理，并被配置為向上述第1共用基板保管架搬出已結束處理的基板，上述第1共用基板保管架被上述多個處理裝置所共用，并且不遵從制造工序處理順序地保管上述基板。
2. 根據(jù)權利要求l所述的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)，其中，還具備第2共用基板保管架，其從鉛直方向傾斜地保管上述基板；以及基板處理控制裝置，其控制上述基板的處理順序，在上述第1共用基板保管架和上述第2共用基板保管架之間的區(qū)域內配置上述多個處理裝置，以使上述基板的搬出部以及搬入部的任意一方朝向上述第1共用基板保管架，另一方朝向上述第2共用基板保管架，上述第1共用基板保管架以及上述第2共用基板保管架被上述多個處理裝置所共用，上述基板處理控制裝置控制上述基板向上述多個處理裝置的至少一部分搬入以及搬出，并且控制上述基板向上述第1共用基板保管架以及上述第2共用基板保管架搬入以及搬出。
3. 根據(jù)權利要求2所述的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)，其中，上述多個處理裝置的至少一部分通過上述第1共用基板保管架或上述第2共用基板保管架來相互并排地進行配置，上述多個處理裝置的至少一部分的配置順序不遵從上述薄膜太陽電池的制造工序的順序。
4. 根據(jù)權利要求3所述的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)，其中，上述多個處理裝置的至少一部分沒有變更上述多個處理裝置的配置順序，利用上述基板處理控制裝置能變更上述薄膜太陽電池的制造工序的
5. 根據(jù)權利要求3或4所述的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)，其中，上述多個處理裝置分別配置在根據(jù)上述多個處理裝置的高度而設定的區(qū)域內。
6. 根據(jù)權利要求3或4所述的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)，其中，上述多個處理裝置分別配置在根據(jù)上述多個處理裝置的使用實用性而設定的區(qū)域內。
7. 根據(jù)權利要求1 6中任意一項所述的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)，其中，上述第1共用基板保管架具備保持內部氣氛潔凈度比外部氣氛潔凈度高的第l凈化裝置，上述第2共用基板保管架具備保持內部氣氛潔凈度比外部氣氛潔凈度高的第2凈化裝置。
8. 根據(jù)權利要求7所述的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)，其中，還具備第1室，其包含上述第1共用基板保管架和上述多個處理裝置之間的空間；第3凈化裝置，其保持上述第1室內氣氛潔凈度比其它區(qū)域氣氛潔凈度高；第2室，其包含上述第2共用基板保管架和上述多個處理裝置之間的空間；以及第4凈化裝置，其保持上述第2室內氣氛潔凈度比其它區(qū)域氣氛潔凈度高。
9. 根據(jù)權利要求8所述的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)，其中，還具備.-第l基板移載裝置，其在上述第1室內進行上述基板的移動；和第2基板移載裝置，其在上述第2室內進行上述基板的移動，上述第1基板移載裝置具備保持內部氣氛潔凈度比外部區(qū)域氣氛潔凈度高的第5凈化裝置，上述第2基板移載裝置具備保持內部氣氛潔凈度比外部區(qū)域氣氛潔凈度高的第6凈化裝置。
10. 根據(jù)權利要求1 9中任意一項所述的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)，其中，在上述保管時的上述基板的傾斜是從鉛直方向5°以上15°以下。
11. 根據(jù)權利要求1 10中任意一項所述的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)，^中，上述第1共用基板保管架以及上述第2共用基板保管架分別具有多個 基板保管架，上述多個基板保管架分別能夠和分別與上述多個基板保管架相同的 其它基板保管架交換。
12. 根據(jù)權利要求1 11中任意一項所述的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)， 其中，還具備基板輸送裝置，其設置在上述第1共用基板保管架以及上述第 2共用基板保管架之間，保持內部氣氛潔凈度比外部區(qū)域氣氛潔凈度高， 并且使上述基板從上述第1共用基板保管架以及上述第2共用基板保管架 的一方向另一方移動。
13. —種共用基板保管架，其具備多個基板保管架，其從鉛直方向傾斜地保管基板，且并排地設置在與 上述基板的出入方向不同的方向上；禾口多個凈化裝置，其針對上述多個基板保管架分別地設置，向對應的上 述多個基板保管架提供潔凈度比周邊氣氛環(huán)境高的氣體，將在薄膜太陽電池的制造工序中使用的多個處理裝置中的上述基板 搬出的搬出部以及將上述基板搬入的搬入部的任意一方朝向上述多個基 板保管架，并配置為被多個處理裝置所共用，上述多個基板保管架分別能夠和分別與上述多個基板保管架相同的 其它基板保管架交換。
14. 一種薄膜太陽電池的制造方法，其采用了薄膜太陽電池制造系統(tǒng)， 其中，上述薄膜太陽電池系統(tǒng)具備第l共用基板保管架，其從鉛直方向傾斜5。以上15°以下地保管基第2共用基板保管架，其從鉛直方向傾斜5。以上15°以下地保管上 述基板；多個處理裝置，其在薄膜太陽電池的制造工序中使用于上述基板的處 理，該多個處理裝置被配置在上述第1共用基板保管架和上述第2共用基 板保管架之間的區(qū)域內，以使上述基板的搬出部以及搬入部的任意一方朝 向上述第1共用基板保管架，另一方朝向上述第2共用基板保管架；以及基板處理控制裝置，其控制上述基板的處理順序，上述第1共用基板保管架以及上述第2共用基板保管架被上述多個處 理裝置所共用，上述基板處理控制裝置控制上述基板向上述多個處理裝置的至少一 部分搬入以及搬出，并且控制上述基板向上述第1共用基板保管架以及上述第2共用基板保管架搬入以及搬出，且不遵從制造工序處理順序地保管上述基板，上述薄膜太陽電池的制造方法具有以下工序(a) 搬出上述第1共用基板保管架或上述第2共用基板保管架所保管的 基板，向上述多個處理裝置中的一個即對象處理裝置搬入的工序；(b) 在上述對象處理裝置中處理所搬入的上述基板的工序；以及 (C)從上述對象處理裝置中搬出已處理的上述基板，并向上述第1共用基板保管架或上述第2共用基板保管架搬入并保管的工序。
全文摘要
本發(fā)明提供可削減工場設置空間的薄膜太陽電池制造系統(tǒng)。薄膜太陽電池制造系統(tǒng)具備第1共用基板保管架(40-1)、第2共用基板保管架(40-2)和多個處理裝置(1～16-2)。第1共用基板保管架(40-1)和第2共用基板保管架(40-2)傾斜地保管基板。多個處理裝置(1～16-2)在薄膜太陽電池的制造工序中使用于基板處理，并被配置在第1共用基板保管架(40-1)和第2共用基板保管架(40-2)之間的區(qū)域，使基板的搬出部以及搬入部的任意一方朝向第1共用基板保管架(40-1)，另一方朝向第2共用基板保管架(40-2)。第1共用基板保管架(40-1)以及第2共用基板保管架(40-2)被多個處理裝置(1～16-2)所共用。
文檔編號B65G1/00GK101689582SQ200880020468
公開日2010年3月31日 申請日期2008年9月30日 優(yōu)先權日2007年12月18日
發(fā)明者井上正志, 秋山政記 申請人:三菱重工業(yè)株式會社