專利名稱：覆蓋層薄膜貼合裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及的是用于將覆蓋層薄膜貼合在撓性基板形成用的基底薄膜上的覆蓋層薄膜貼合裝置。
背景技術：
眾所周知，一般在形成撓性基板的工序中存在有將由具有熱固性粘合層的聚酉先亞胺樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)樹脂等組成的覆蓋層薄膜，貼合在由形成有銅箔之類導體圖案的聚酉先亞胺樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)樹脂、聚酯樹脂等組成的基底薄膜的圖案形成面上的工序。
現有技術下，這種覆蓋層薄膜的貼合作業是相對于設立在操作臺上的多個定位用銷，用手工將基底薄膜及覆蓋層薄膜插通定位后進行的。
但是，覆蓋層薄膜上一般都開有與基底薄膜的導體圖案對應的多個孔，為了進行覆蓋層薄膜的貼合作業而從覆蓋層薄膜上剝離脫模薄膜或脫模紙(以下，在本說明書中稱[脫模薄膜])的話，則覆蓋層薄膜就會癱軟，所以極難操作。
因此，這種覆蓋層薄膜的貼合作業生產效率極低，希望采用覆蓋層薄膜貼合裝置，使該貼合作業實現自動化。
圖10是用于說明現有技術覆蓋層薄膜貼合裝置的示意圖。現有技術的覆蓋層薄膜貼合裝置800，如圖10所示，具有基底薄膜輸送輥801A、覆蓋層薄膜輸送輥802A、脫模薄膜輸送輥803A、804A、二對輥805、805、807、807、層壓薄膜卷繞輥801B、脫模薄膜卷繞輥803B、804B及熱壓機806、806(例如，參照專利文獻1)。
而且，在現有技術的覆蓋層薄膜貼合裝置800中，從基底薄膜輸送輥801A送出的基底薄膜W11和從覆蓋層薄膜輸送輥802A送出的覆蓋層薄膜W12疊合成一體，再在夾持于由脫模薄膜輸送輥803A、804A送出的脫模薄膜W13、W14的狀態下，由熱壓機806、806貼合成一體，形成層壓薄膜W15，然后卷繞在層壓薄膜卷繞輥801B上。
因此，若是采用現有技術的覆蓋層薄膜貼合裝置800，則可以使基底薄膜W11和覆蓋層薄膜W12的貼合作業實現自動化，于是可以提高基底薄膜W11和覆蓋層薄膜W12的貼合作業的生產效率。
專利文獻1特開平2-226793號公報(圖1)。
發明內容
發明所要解決的課題但是，在上述覆蓋層薄膜貼合裝置800中，基底薄膜W11和覆蓋層薄膜W12的貼合都是在長的薄膜之間疊合成一體的狀態下進行的。因此，隨著上述薄膜輸送的延伸，基底薄膜長度方向的對位誤差就會累積，難以確保基底薄膜長度方向的對位精度。另外，由于上述薄膜的輸送而發生的曲折蜿蜒現象，會發生基底薄膜寬度方向的對位誤差，也難以確保基底薄膜寬度方向的對位精度。所以，不易提高相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜的貼合位置精度，于是存在難以提高撓性基板質量的問題。
因此，本發明的目的是為了解決上述問題，提供一種能很容易地提高相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜的貼合位置精度，從而很容易地提高撓性基板質量的覆蓋層薄膜貼合裝置。
解決課題的手段(1)一種覆蓋層薄膜貼合裝置，設有將卷筒狀的基底薄膜變成平片狀、并間歇送出的基底薄膜供給裝置，相對于由該基底薄膜供給裝置送出的平片狀基底薄膜臨時壓接細長形的覆蓋層薄膜、形成覆蓋層薄膜臨時壓接于基底薄膜上的平片狀層壓薄膜的臨時壓接裝置，將由該臨時壓接裝置形成的平片狀層壓薄膜卷繞成卷筒狀的層壓薄膜回收裝置；其特征在于上述臨時壓接裝置，具有能夠沿著聯結覆蓋層薄膜臨時壓接于基底薄膜上的區域(以下稱為“臨時壓接區域”)、和向上述臨時壓接區域供給覆蓋層薄膜的位置(以下稱為“覆蓋層薄膜供給位置”)的覆蓋層薄膜供給通路供給覆蓋層薄膜、且能夠調整相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜的位置及姿勢的臨時壓接工作臺。
因此，若是采用本發明的覆蓋層薄膜貼合裝置，則由于細長形的覆蓋層薄膜相對于間歇送出的平片狀基底薄膜被臨時壓接，所以即使是使用長的基底薄膜時，基底薄膜長度方向的對位誤差不會累積，基底薄膜長度方向的對位精度也不會降低。
另外，若是采用本發明的覆蓋層薄膜貼合裝置，則由于覆蓋層薄膜是由能夠調整相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜位置及姿勢的臨時壓接工作臺供給到臨時壓接區域的，所以容易提高相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜的貼合位置精度。于是，也能容易地提高撓性基板的質量，從而達到本發明的目的。
另外，在相對于基底薄膜貼合覆蓋層薄膜時，至少需要將覆蓋層薄膜供給到基底薄膜供給通路上的貼合區域的覆蓋層薄膜供給工序以及相對于基底薄膜貼合覆蓋層薄膜的貼合工序。但是，如果以一個步驟完成相對于基底薄膜完全貼合覆蓋層薄膜的情況下，上述貼合工序太長，難以提高整體的生產效率。
因此，本發明的覆蓋層薄膜貼合裝置是用相對于基底薄膜臨時壓接覆蓋層薄膜形成層壓薄膜，來代替相對于基底薄膜完全貼合覆蓋層薄膜形成層壓薄膜的。這樣，可以大幅度縮短上述貼合工序，謀求整體生產效率的提高。這時，相對于基底薄膜完全貼合覆蓋層薄膜時，可以另行準備用于對臨時壓接有覆蓋層薄膜的層壓薄膜進行壓接(正規壓接)的專用正式壓接裝置(如真空壓力機)，采用該正式壓接裝置相對于基底薄膜完全貼合覆蓋層薄膜。
在此，本說明書中所謂的“細長形”，從平面看未必一定是細長形狀，也指包含了正方形的略呈矩形的形狀。
(2)上述(1)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，上述覆蓋層薄膜供給通路，以與聯結上述基底薄膜供給裝置和上述層壓薄膜回收裝置的基底薄膜供給通路垂直相交為佳。
采用這樣的構造，可以縮小覆蓋層薄膜供給通路和基底薄膜供給通路交叉部分的面積，于是可以縮短基底薄膜供給通路的長度，使裝置變得小型化。
(3)上述(1)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，作為基底薄膜是采用卷筒狀的基底薄膜，但本發明并不僅限于此。作為基底薄膜即使是采用細長形的基底薄膜時，也具有和上述(1)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置時同樣的效果。
即，本發明的覆蓋層薄膜貼合裝置設有向臨時壓接區域供給細長形基底薄膜的基底薄膜供給裝置，相對于由該基底薄膜供給裝置供給的細長形基底薄膜臨時壓接細長形覆蓋層薄膜、形成細長形層壓薄膜的臨時壓接裝置，用于回收由該臨時壓接裝置形成的細長形層壓薄膜的層壓薄膜回收裝置；其特征在于上述臨時壓接裝置，具有能夠沿著聯結臨時壓接區域和覆蓋層薄膜供給位置的覆蓋層薄膜供給通路供給覆蓋層薄膜、且能夠調整相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜的位置及姿勢的臨時壓接工作臺。
因此，采用本發明的覆蓋層薄膜貼合裝置的話，由于使用細長形的基底薄膜，基底薄膜長度方向的對位誤差不會產生累積，所以也不會降低基底薄膜長度方向的對位精度。
另外，采用本發明的覆蓋層薄膜貼合裝置的話，和上述(1)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置的情況一樣，由于覆蓋層薄膜是由可以調整相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜的位置及姿勢的臨時壓接工作臺供給到臨時壓接區域的，所以容易提高相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜的貼合位置精度，于是也能容易地提高撓性基板的質量，從而達到本發明的目的。
(4)在上述(1)～(3)任何一項記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，上述臨時壓接工作臺，以能夠在相互垂直相交的2個水平方向上移動，且能夠在以水平面內的假想點為旋轉中心的圓周方向上進行轉動為佳。
采用這樣的構造，相對于基底薄膜可以使覆蓋層薄膜的位置(及姿勢)精度良好地配置，所以容易提高相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜的貼合位置精度。
這時，作為相互垂直相交的2個水平方向，以選擇沿著基底薄膜供給通路的方向及沿著覆蓋層薄膜供給通路的方向為佳。另外，作為水平面內的假想點，以選擇臨時壓接工作臺的載置有覆蓋層薄膜的面的中心點為佳。
(5)在上述(4)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，以在上述臨時壓接工作臺上，至少設有2個相互隔離配置的攝像用孔，與上述各攝像用孔對應地設有攝像元件為佳。
采用這樣的構造，可以使相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜的位置及姿勢由至少2個攝像元件精度良好地進行測定。因此，相對于基底薄膜可以使覆蓋層薄膜位置(及姿勢)精度良好地配置，容易提高相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜的貼合位置精度。
這時，以至少2個攝像用孔配置在臨時壓接工作臺的兩端部為佳。
(6)在上述(1)～(5)任意一項記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，上述臨時壓接工作臺，以通過在上述臨時壓接區域的上方移動來進行臨時壓接動作為佳。
采用這樣的構造，在相對于基底薄膜使覆蓋層薄膜位置(及姿勢)精度良好地配置的狀態下，通過使臨時壓接工作臺向上方移動，就能夠在維持相對于基底薄膜使覆蓋層薄膜位置(及姿勢)精度良好地配置狀態下進行臨時壓接。因此，容易提高相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜的貼合位置精度。
(7)在上述(6)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，上述臨時壓接裝置，以還具有在上述臨時壓接區域中臨時壓接工作臺進行臨時壓接動作時，承受上述臨時壓接工作臺的緩沖機構為佳。
采用這樣的構造，可以使覆蓋層薄膜整體對于基底薄膜以均勻的力進行臨時壓接。
(8)在上述(7)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，以上述緩沖機構上設有用于吸附基底薄膜的多個基底薄膜吸附孔為佳。
采用這樣的構造，可以使基底薄膜吸附于多個基底薄膜吸附孔上，能夠在臨時壓接區域固定基底薄膜。
(9)在上述(8)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，上述臨時壓接裝置，以還具有在進行臨時壓接動作之前相對于上述緩沖機構將基底薄膜壓緊的壓緊機構為佳。
采用這樣的構造，由于壓緊機構將基底薄膜相對于緩沖機構壓住，所以能使基底薄膜更牢靠地吸附于多個基底薄膜吸附孔上。
另外，由于在臨時壓接動作進行之前進行有壓緊機構產生的壓緊動作，所以對于臨時壓接工作臺的臨時壓接動作沒有妨礙，能平穩地進行壓緊動作。所謂進行臨時壓接動作之前，是指臨時壓接動作結束后的臨時壓接工作臺從臨時壓接區域向覆蓋層薄膜供給位置移動，裝載新的覆蓋層薄膜后再次回到臨時壓接區域為止的間隔，由于利用該時間進行壓緊機構的壓緊動作，因此進行壓緊動作不需花費特別的時間，所以不會使整體的生產效率降低。
這時，以具有如下的構成為佳，若是上述臨時壓接工作臺從上述臨時壓接區域向上述覆蓋層薄膜供給位置移動，則上述壓緊機構從上述臨時壓接區域外向上述臨時壓接區域內移動，若上述壓緊機構從上述臨時壓接區域內向上述臨時壓接區域外移動，則上述臨時壓接工作臺從上述覆蓋層薄膜供給位置向上述臨時壓接區域移動。
這樣，就能平穩地進行臨時壓接工作臺的臨時壓接動作及壓緊機構的壓緊動作這雙方的動作。
(10)在上述(1)～(9)任意一項記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，以上述臨時壓接工作臺具有用于加熱覆蓋層薄膜的加熱器為佳。
采用這樣的構造，在臨時壓接之前相對于基底薄膜供給覆蓋層薄膜的過程中，由于能夠預先提高覆蓋層薄膜的溫度，所以能在更短的時間里平穩地進行相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜的臨時壓接。
(11)在上述(1)～(10)任意一項記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，以還設有覆蓋層薄膜截斷·載置裝置為佳，該覆蓋層薄膜截斷·載置裝置具有將卷筒狀的覆蓋層薄膜變成平片狀、并間歇送出用的覆蓋層薄膜輸送裝置，將由該覆蓋層薄膜輸送裝置送出的平片狀覆蓋層薄膜截斷、并形成細長形覆蓋層薄膜的覆蓋層薄膜截斷裝置，和將由該覆蓋層薄膜截斷裝置形成的細長形覆蓋層薄膜載置于上述臨時壓接工作臺上的覆蓋層薄膜載置裝置。
采用這樣的構造，因為可以從卷筒狀的覆蓋層薄膜形成細長形的覆蓋層薄膜，且能將該細長形的覆蓋層薄膜供給到臨時壓接工作臺，所以能夠使用卷筒狀的覆蓋層薄膜。這樣，就可以進一步提高整體生產效率。
(12)在上述(11)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，以上述覆蓋層薄膜截斷裝置設有帶用于將平片狀覆蓋層薄膜截斷成細長形的壓切刀的壓切刀金屬模、及承受該壓切刀金屬模的金屬模座；上述覆蓋層薄膜截斷·載置裝置還設有將承受上述壓切刀的受刀帶送出到上述壓切刀金屬模和金屬模座之間的受刀帶輸送裝置、以及卷繞受刀帶的受刀帶卷繞裝置為佳。
采用這樣的構造，在將平片狀覆蓋層薄膜截斷成細長形時，由受刀帶輸送裝置送出的受刀帶可以時常承接壓切刀，所以能良好地截斷覆蓋層薄膜。另外，可以防止壓切刀刀尖的損傷。
(13)在上述(1)～(12)任意一項記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，以上述臨時壓接工作臺上，設有用于吸附細長形覆蓋層薄膜的多個覆蓋層薄膜吸附孔為佳。
采用這樣的構造，可以將在覆蓋層薄膜供給位置供給的覆蓋層薄膜由臨時壓接工作臺平穩地搬送到臨時壓接區域。
(14)在上述(13)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，以上述覆蓋層薄膜截斷·載置裝置還設有將吸附于上述多個覆蓋層薄膜吸附孔上的覆蓋層薄膜的脫模薄膜的端部予以夾持的脫模薄膜夾持裝置，在該脫模薄膜夾持裝置夾持住上述脫模薄膜的端部的狀態下，通過上述臨時壓接工作臺從上述覆蓋層薄膜供給位置向上述臨時壓接區域的移動，從上述覆蓋層薄膜上剝離脫模薄膜為佳。
采用這樣的構造，由于可以在將覆蓋層薄膜搬送到臨時壓接區域的工序中將脫模薄膜從覆蓋層薄膜剝離，所以不必另行設置用于從覆蓋層薄膜剝離脫模薄膜的特別工序。這樣，就可以縮短相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜的貼合作業。
另外，在將覆蓋層薄膜載置于臨時壓接工作臺之前，能夠在帶有脫模薄膜的狀態下對覆蓋層薄膜進行操作，所以操作極為方便。
(15)在上述(14)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，上述覆蓋層薄膜截斷·載置裝置以還具有用于在截斷覆蓋層薄膜之前，從覆蓋層薄膜剝離一部分的脫模薄膜、形成部分剝離部的脫模薄膜剝離刀為佳。
采用這樣的構造，由于載置于臨時壓接工作臺上的覆蓋層薄膜通過脫模薄膜剝離刀預先形成部分剝離部，所以脫模薄膜夾持裝置能夠很容易地夾持脫模薄膜的端部。
(16)在上述(15)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，上述覆蓋層薄膜載置裝置以具有用于將由上述覆蓋層薄膜截斷裝置截斷的覆蓋層薄膜搬送到上述臨時壓接工作臺上的吸附式墊枕，該吸附式墊枕在將覆蓋層薄膜載置于上述臨時壓接工作臺上開始，到由上述脫模薄膜夾持裝置夾持住脫模薄膜的端部為止的時間內，吸附著上述部分剝離部為佳。
采用這樣的構造，對于載置在臨時壓接工作臺上的覆蓋層薄膜，由于處在由吸附式墊枕吸附并卷起著脫模薄膜的部分剝離部的狀態，所以脫模薄膜夾持裝置能更容易地夾持脫模薄膜的端部。
(17)以在上述(1)～(16)任意一項記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，進而設有配設于基底薄膜供給通路內的上述臨時壓接裝置的層壓薄膜回收裝置側，用于將由上述臨時壓接裝置臨時壓接于基底薄膜上的覆蓋層薄膜相對于基底薄膜更牢固地進行臨時壓接的輔助臨時壓接裝置為佳。
上述(17)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，在進行相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜的臨時壓接形成層壓薄膜的工序后，還要進行下列兩工序將層壓薄膜供給到進行輔助臨時壓接的區域，同時，向臨時壓接區域供給新的基底薄膜的工序；和進行臨時壓接工作臺的移動動作，向基底薄膜供給通路上的臨時壓接區域供給新的覆蓋層薄膜的工序。這時，由于后者的工序比前者的工序所需要的時間長得多，所以通過利用上述工序之間的時間差進行輔助臨時壓接處理，可以不必特意花費進行輔助臨時壓接工序的時間就能夠進行輔助臨時壓接。因此，可以縮短最初的臨時壓接時間，進一步提高整體的生產效率。
(18)以在上述(17)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，在基底薄膜供給通路內的上述輔助臨時壓接裝置和上述層壓薄膜回收裝置之間，至少配設有2個相互隔離的攝像元件為佳。
采用這樣的構造，由攝像元件對層壓薄膜進行攝影，在層壓薄膜回收裝置回收層壓薄膜之前就可以確認其臨時壓接狀態。如果由上述攝像元件攝得的結果是相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜的貼合位置偏移、或者是臨時壓接不完整時，通過使裝置停止運轉，就可以防止形成這類臨時壓接不完整的層壓薄膜于未然。
(19)以在上述(17)或(18)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中，還具有使上述基底薄膜供給裝置和上述層壓薄膜回收裝置、上述臨時壓接裝置以及上述輔助臨時壓接裝置同步動作的控制器為佳。
采用這樣的構造，可以配合間歇時間地進行臨時壓接工序及輔助臨時壓接工序，能夠在高度確保相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜貼合位置精度的狀態下，進行整體高生產效率的臨時壓接。
圖1是表示實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置的俯視圖。
圖2是簡化表示實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置的俯視圖。
圖3是表示實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置的主視圖。
圖4是用于說明臨時壓接裝置的主要部分放大圖。
圖5是表示說明臨時壓接裝置及覆蓋層薄膜截斷·載置裝置的側面圖。
圖6是表示覆蓋層薄膜截斷·載置裝置的后視圖。
圖7是表示覆蓋層薄膜截斷·載置裝置的側面圖。
圖8是表示說明相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜臨時壓接方法的流程圖。
圖9是簡化表示實施方式2的覆蓋層薄膜貼合裝置的俯視圖。
圖10是表示現有的覆蓋層薄膜貼合裝置的主視圖。
最佳實施方式以下，根據圖示的實施方式對本發明的覆蓋層薄膜貼合裝置加以說明。
(實施方式1)首先，采用圖1～圖7對實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置加以說明。
圖1是表示實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置的俯視圖，圖2是簡化表示實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置的俯視圖，圖3是表示實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置的主視圖，圖4是用于說明臨時壓接裝置的主要部分放大圖，圖5是用于說明臨時壓接裝置及覆蓋層薄膜截斷·載置裝置的側面圖，圖6是表示覆蓋層薄膜截斷·載置裝置的后視圖，圖7是表示覆蓋層薄膜截斷·載置裝置的側面圖。
另外，在以下的說明中，相互垂直相交的3個方向分別為x軸方向(平行于圖1紙面的左右方向)、y軸方向(平行于圖1紙面且與x軸垂直相交的方向)及z軸方向(垂直于圖1紙面的方向)。
實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1，如圖1～圖3所示，設有用于搭載·固定各種裝置(如后文所述)的裝置主體100，將卷筒狀基底薄膜Wb變為平片狀間歇送出的基底薄膜供給裝置200，相對于由基底薄膜供給裝置200送出的平片狀基底薄膜Wb臨時壓接細長形覆蓋層薄膜Wc、形成覆蓋層薄膜Wc臨時壓接于基底薄膜Wb上的平片狀層壓薄膜Ws的臨時壓接裝置400，將由臨時壓接裝置400形成的平片狀層壓薄膜Ws卷繞成卷筒狀的層壓薄膜回收裝置300，介于基底薄膜供給裝置200和層壓薄膜回收裝置300之間的一對拉伸裝置250、350，將由臨時壓接裝置400臨時壓接于基底薄膜Wb上的覆蓋層薄膜Wc相對于基底薄膜Wb進行進一步牢固臨時壓接的輔助臨時壓接裝置500，和設置于裝置主體100的后方、將細長形覆蓋層薄膜Wc供給到臨時壓接裝置400的覆蓋層薄膜截斷·供給裝置600。
并且，層壓薄膜Ws具有在基底薄膜Wb一方的圖案形成面側臨時壓接有細長形覆蓋層薄膜Wc的構造。
裝置主體100由平視為略呈矩形的底盤構成。在裝置主體100的右側部，如圖3所示，配設有控制器箱110，該箱中內藏有使基底薄膜供給裝置200及層壓薄膜回收裝置300、臨時壓接裝置400以及輔助臨時壓接裝置500同步動作的控制器。
如圖2所示，裝置主體100上形成有聯結基底薄膜供給裝置200和層壓薄膜回收裝置300的基底薄膜供給通路L1、聯結覆蓋層薄膜供給位置P1和臨時壓接區域P2的覆蓋層薄膜供給通路L2、和聯結后述的覆蓋層薄膜輸送裝置610和覆蓋層薄膜供給位置P1的覆蓋層薄膜搬送通路L3。
基底薄膜供給裝置200，如圖3所示，設有輸送輥210及導向輥220。
輸送輥210是旋轉自由地支承于輥支持臺150的上方端部，而且，通過由轉矩電動機212驅動的旋轉使卷筒狀的基底薄膜Wb呈平片狀送出的構造。
導向輥220是旋轉自由地支承于裝置主體100上，將平片狀的基底薄膜Wb引導向層壓薄膜回收裝置300側的構造。
層壓薄膜回收裝置300，如圖3所示，具有卷繞輥310及導向輥320。
卷繞輥310是旋轉自由地支承于輥支持臺152的上方端部，而且，通過由轉矩電動機312驅動的旋轉使平片狀的層壓薄膜Ws卷繞成卷筒狀的構造。
導向輥320是旋轉自由地支承于裝置主體100上，將平片狀的層壓薄膜Ws引導向卷繞輥310側的構造。
基底薄膜供給裝置200側的拉伸裝置250，如圖3所示，具有升降輥252，并設置于基底薄膜供給裝置200的下方。升降輥252的輥軸254旋轉·升降自由地軸支承于升降導軌256上。而且，其構造是由汽缸(未圖示)驅動的上升使基底薄膜Wb松弛，由自重的下降使基底薄膜Wb張緊。
層壓薄膜回收裝置300側的拉伸裝置350，如圖3所示，具有升降輥352，并設置于層壓薄膜回收裝置300的下方。升降輥352的輥軸354旋轉·升降自由地軸支承于升降導軌356上。而且，其構造是由汽缸(未圖示)驅動的上升使層壓薄膜Ws松弛，由自重的下降使層壓薄膜Ws張緊。
臨時壓接裝置400，如圖1～圖5所示，具有能夠沿著覆蓋層薄膜供給通路L2供給覆蓋層薄膜Wc、而且能夠調整相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的位置及姿勢的臨時壓接工作臺410，在臨時壓接區域P2的臨時壓接工作臺410進行臨時壓接動作時承接臨時壓接工作臺410的緩沖機構480，在進行臨時壓接動作前相對于緩沖機構480壓緊基底薄膜Wb的壓緊機構490。
臨時壓接工作臺410，如圖4所示，設有第1移動裝置420、第2移動裝置430、第3移動裝置440、第4移動裝置450及載置覆蓋層薄膜Wc的覆蓋層薄膜載置部460。
第1移動裝置420，如圖4及圖5所示，具有伺服電動機422、軸支承于伺服電動機422的螺旋軸424、第1工作臺426及沿著y軸方向延伸的導軌428，并設置于裝置主體100上。第1移動裝置420的構造是通過由伺服電動機422驅動的螺旋軸424的旋轉，使第1工作臺426在導軌428上沿著y軸方向移動。
第2移動裝置430，具有伺服電動機432、軸支承于伺服電動機432的螺旋軸434、第2工作臺436及沿著x軸方向延伸的導軌438，并設置于第1工作臺426上。第2移動裝置430的構造是通過由伺服電動機432驅動的螺旋軸434的旋轉，使第2工作臺436在導軌438上沿著x軸方向移動。
第3移動裝置440，具有伺服電動機442、軸支承于伺服電動機442的螺旋軸444、第3工作臺446及給予第3工作臺446旋轉力的移動元件447，并設置于第2工作臺436上。第3工作臺446樞支承于第2工作臺436上的樞軸448，通過工作臺座449搖動自由地配設。第3移動裝置440的構造是通過由伺服電動機442驅動的螺旋軸444的旋轉，使其在以樞軸448為旋轉中心的圓周方向(z軸周圍)上轉動。
第4移動裝置450，具有伺服電動機452、軸支承于伺服電動機452的螺旋軸454、第4工作臺及沿著x軸方向延伸的導軌458，并設置于第3工作臺446上。第4移動裝置450的構造是通過由伺服電動機452驅動的螺旋軸454的旋轉，使第4工作臺456在導軌458上沿著x軸方向移動。
覆蓋層薄膜載置部460，如圖4所示，通過從左側部向右側部具有向上坡度的傾斜部462及輥子464，設置在第4工作臺456上。另外，第4工作臺456及覆蓋層薄膜載置部460上固定有彈簧466。因此，當第4工作臺456朝圖4的左方向移動時，覆蓋層薄膜載置部460上升；當第4工作臺456朝圖4的右方向移動時，則覆蓋層薄膜載置部460下降。
實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中，臨時壓接工作臺410可以在相互垂直相交的2個水平方向上(x軸方向及y軸方向)移動，而且可以在以水平面內的假想點為旋轉中心的圓周方向(z軸周圍)轉動。
由此，能夠相對于基底薄膜Wb使覆蓋層薄膜Wc進行位置(及姿勢)精度良好地配置，所以能很容易地提高相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的貼合位置精度。
實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中，作為相互垂直相交的2個水平方向(x軸方向及y軸方向)，是沿著基底薄膜供給通路L1的方向及沿著覆蓋層薄膜供給通路L2的方向(參照圖2)。另外，作為水平面內的假想點是臨時壓接工作臺410的覆蓋層薄膜載置部460的中心點。
實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中，如圖2及圖4所示，在臨時壓接工作臺410上設有相互隔離配置的2個攝像用孔470a，與各攝像用孔470a分別對應，設有攝像元件470。
因此，通過2個攝像元件470可以高精度地測定相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的位置及姿勢，所以能夠相對于基底薄膜Wb使覆蓋層薄膜Wc進行位置(及姿勢)精度良好的配置，可以較容易地提高相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的貼合位置精度。
另外，2個攝像用孔470a配置在臨時壓接工作臺410的兩端部(參照圖2)。
實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中，臨時壓接工作臺410的構造是通過在臨時壓接區域P2上方的移動進行臨時壓接動作的。
因此，在相對于基底薄膜Wb使覆蓋層薄膜Wc進行位置(及姿勢)精度良好配置的狀態下，只要臨時壓接工作臺410按原狀在上方移動，就可以在保持相對于基底薄膜Wb使覆蓋層薄膜Wc進行位置(及姿勢)精度良好配置的狀態下進行臨時壓接。因此能很容易地提高相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的貼合位置精度。
實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中，如圖4及圖5所示，臨時壓接裝置400還具有在臨時壓接區域P2中臨時壓接工作臺410進行臨時壓接動作時承接臨時壓接工作臺410的緩沖機構480。
因此，可以使覆蓋層薄膜Wc整體相對于基底薄膜Wb以均勻的力進行臨時壓接。
實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中，在緩沖機構480上設有用于吸附基底薄膜Wb的多個基底薄膜吸附孔(未圖示)。
這樣，可以使基底薄膜Wb吸附在多個基底薄膜吸附孔上，能夠在臨時壓接區域P2上固定基底薄膜Wb。
實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中，如圖1及圖5所示，臨時壓接裝置400還具有在進行臨時壓接動作之前相對于緩沖機構480壓緊基底薄膜Wb的壓緊機構490。
這樣，由于壓緊機構490相對于緩沖機構480壓緊基底薄膜Wb，因此可以使基底薄膜Wb更牢靠地吸附于多個基底薄膜吸附孔上。
另外，由于在臨時壓接動作進行之前，由壓緊機構490進行的壓緊動作，所以對于臨時壓接工作臺410的臨時壓接動作沒有妨礙，能順利平穩地進行壓緊動作。所謂進行臨時壓接動作之前，是指臨時壓接動作結束后的臨時壓接工作臺410從臨時壓接區域P2向覆蓋層薄膜供給位置P1移動，裝載了新的覆蓋層薄膜Wc后再次回到臨時壓接區域P2為止的時間間隔，由于利用該時間進行壓緊機構490的壓緊動作，因此進行壓緊動作不需特意留用時間，所以不會使整體的生產效率降低。
實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中，其構造是當臨時壓接工作臺410從臨時壓接區域P2向覆蓋層薄膜供給位置P1移動的話，則壓緊機構490從臨時壓接區域外向臨時壓接區域內移動，當壓緊機構490從臨時壓接區域內向臨時壓接區域外移動的話，則臨時壓接工作臺410從覆蓋層薄膜供給位置P1向臨時壓接區域P2移動。
這樣，就能平穩地進行臨時壓接工作臺410的臨時壓接動作以及壓緊機構490的壓緊動作的雙方的動作。
實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中，臨時壓接工作臺410具有用于對覆蓋層薄膜Wc進行加熱的加熱器(未圖示)。
因此，臨時壓接之前，在相對于基底薄膜Wb供給覆蓋層薄膜Wc的過程中，可以預先提高覆蓋層薄膜Wc的溫度，所以能夠在更短的時間內平穩地進行相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的臨時壓接。
實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中，在臨時壓接工作臺410上設有用于吸附細長形覆蓋層薄膜Wc的多個覆蓋層薄膜吸附孔(未圖示)。
因此，能夠將在覆蓋層薄膜供給位置P1供給的覆蓋層薄膜Wc，由臨時壓接工作臺410平穩地搬送到臨時壓接區域P2。
如圖1～圖3所示，在基底薄膜供給通路L1的臨時壓接裝置400的上游側(基底薄膜供給裝置200側)及下游側(層壓薄膜回收裝置300側)上配置有固定箝位器120、130，在后述的輔助臨時壓接裝置500和層壓薄膜回收裝置300之間配置有移動箝位器140。
如圖1～圖3所示，輔助臨時壓接裝置500是配置于基底薄膜供給通路L1內的臨時壓接裝置400的層壓薄膜回收裝置300側，將由臨時壓接裝置400臨時壓接于基底薄膜Wb上的覆蓋層薄膜Wc，相對于基底薄膜Wb更牢固地進行臨時壓接的構造。
輔助臨時壓接裝置500的輔助臨時壓按時間，由控制器110設定所希望的時間。
如圖1及圖2所示，覆蓋層薄膜截斷·載置裝置600具有用于將卷筒狀的覆蓋層薄膜Wc0變成平片狀后間歇送出的覆蓋層薄膜輸送裝置610，將由覆蓋層薄膜輸送裝置610送出的平片狀覆蓋層薄膜Wc0截斷、形成細長形的覆蓋層薄膜Wc的覆蓋層薄膜截斷裝置630，將由覆蓋層薄膜截斷裝置630形成的細長形覆蓋層薄膜Wc載置于臨時壓接工作臺410上的覆蓋層薄膜載置裝置650。
由此，因為可以從卷筒狀的覆蓋層薄膜Wc0形成細長形的覆蓋層薄膜Wc，并將該細長形的覆蓋層薄膜Wc供給到臨時壓接工作臺410，所以能夠采用卷筒狀的覆蓋層薄膜Wc0，進一步提高了整體的生產效率。
如圖6及圖7所示，覆蓋層薄膜輸送裝置610具有輸送輥612、驅動輥616及導向輥620。
輸送輥612是旋轉自由地支承于輥子支座160的上方端部，而且，由轉矩電動機614驅動的旋轉將卷筒狀的覆蓋層薄膜Wc0呈平片狀送出的構造。
驅動輥616是旋轉自由地支承于輥子支座162上，而且，由轉矩電動機618驅動的旋轉將平片狀的覆蓋層薄膜Wc0輸送到導向輥620側的構造。
導向輥620是旋轉自由地支承于裝置主體100上，并將平片狀的覆蓋層薄膜Wc0引導向覆蓋層薄膜截斷裝置630側的構造。
在覆蓋層薄膜輸送裝置610的下方，配置有用于松馳·張緊覆蓋層薄膜Wc0的升降輥622。
在導向輥620的覆蓋層薄膜截斷裝置630側處，配置有從覆蓋層薄膜輸送裝置610牽引平片狀覆蓋層薄膜Wc0的引出輥624和移動箝位器626。
如圖6所示，覆蓋層薄膜截斷裝置630設有擁有用于將平片狀覆蓋層薄膜Wc0截斷成細長形的壓切刀的壓切刀金屬模632、及承受該壓切刀金屬模632的金屬模座634。另外，覆蓋層薄膜截斷·載置裝置600還具有將承受上述壓切刀的受刀帶Wh送出到壓切刀金屬模632和金屬模座634之間的受刀帶輸送裝置640、以及卷繞受刀帶Wh的受刀帶卷繞裝置642。
因此，在將平片狀覆蓋層薄膜Wc0截斷成細長形時，可以由受刀帶輸送裝置640送出的受刀帶Wh時常接受壓切刀，所以能良好地截斷覆蓋層薄膜。另外，可以防止壓切刀刀刃的損傷。
如圖2所示，覆蓋層薄膜載置裝置650具有將由覆蓋層薄膜截斷裝置630截斷的細長形覆蓋層薄膜Wc交付到覆蓋層薄膜交付位置P3的移動箝位器652、以及將載置于覆蓋層薄膜交付位置P3的覆蓋層薄膜Wc搬送到覆蓋層薄膜供給位置P1的臨時壓接工作臺410的吸附式墊枕654。該吸附式墊枕654在x軸方向上可以移動，在覆蓋層薄膜供給位置P1及覆蓋層薄膜交付位置P3處可以升降。
實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中，如圖1、圖2及圖5所示，覆蓋層薄膜截斷·載置裝置600還具有用于夾持由覆蓋層薄膜載置裝置650載置于臨時壓接工作臺410上的覆蓋層薄膜Wc中的脫模薄膜的端部的脫模薄膜夾持裝置660。而且，在脫模薄膜夾持裝置660夾持住脫模薄膜端部的狀態下，通過臨時壓接工作臺410從覆蓋層薄膜供給位置P1向臨時壓接區域P2的移動，能夠從覆蓋層薄膜Wc剝離脫模薄膜。
因此，在將覆蓋層薄膜Wc搬送到臨時壓接區域P2的工序中，就能從覆蓋層薄膜剝離脫模薄膜，所以不必另外設置從覆蓋層薄膜Wc剝離脫模薄膜的特別工序。這樣能夠縮減相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的貼合作業。
另外，在覆蓋層薄膜Wc載置至臨時壓接工作臺410上之前，可以在覆蓋層薄膜Wc帶有脫模薄膜的狀態下進行操作，因此操作極為方便。
實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中，如圖7所示，覆蓋層薄膜截斷·載置裝置600還具有在截斷覆蓋層薄膜Wc0之前、從覆蓋層薄膜Wc0上部分剝離脫模薄膜后形成部分剝離部的脫模薄膜剝離刀670。
因此，載置于臨時壓接工作臺410上的覆蓋層薄膜Wc，通過脫模薄膜剝離刀670預先形成部分剝離部，所以就能使脫模薄膜夾持裝置660容易地夾持脫模薄膜的端部。
實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中，上述吸附式墊枕654是從將覆蓋層薄膜Wc載置于臨時壓接工作臺410上開始、到由脫模薄膜夾持裝置660夾持住脫模薄膜端部為止的時間內，吸附著部分剝離部的構造。
因為載置于臨時壓接工作臺410的覆蓋層薄膜Wc，處于由吸附式墊枕654吸附并卷起脫模薄膜的部分剝離部的狀態，所以脫模薄膜夾持裝置660可以更容易地夾持脫模薄膜的端部。
如圖5所示，在覆蓋層薄膜供給通路L2的覆蓋層薄膜供給位置P1和臨時壓接區域P2的中間位置上，配置有2個照明用的發光元件170。
如上所述，實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1具有將卷筒狀基底薄膜Wb變為平片狀間歇送出的基底薄膜供給裝置200，相對于由基底薄膜供給裝置200送出的平片狀基底薄膜Wb臨時壓接細長形覆蓋層薄膜Wc、形成覆蓋層薄膜Wc臨時壓接于基底薄膜Wb上的平片狀層壓薄膜Ws的臨時壓接裝置400，將由臨時壓接裝置400形成的平片狀的層壓薄膜Ws卷繞成卷筒狀的層壓薄膜回收裝置300。另外，臨時壓接裝置400具有能沿著覆蓋層薄膜供給通路L2供給覆蓋層薄膜Wc、且能調整相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的位置及姿勢的臨時壓接工作臺410。
因此，若采用實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1的話，因為相對于間歇送出的平片狀基底薄膜Wb，細長形的覆蓋層薄膜Wc被臨時壓接，所以即使采用長的基底薄膜，也不會累積基底薄膜長度方向的對位誤差，不會降低基底薄膜長度方向的對位精度。
另外，若采用實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1的話，因為覆蓋層薄膜Wc由可以調整相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的位置及姿勢的臨時壓接工作臺410被供給到臨時壓接區域P2，所以能方便地提高相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的貼合位置精度。于是，也容易地提高撓性基板的質量。
實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中，如圖1及圖3所示，在基底薄膜供給通路L1內的輔助臨時壓接裝置500和層壓薄膜回收裝置300之間，互相隔離地配置有2個攝像元件180。
因此，通過攝像元件180對層壓薄膜Ws進行攝影，就可以在層壓薄膜回收裝置300回收層壓薄膜Ws之前確認其臨時壓接狀態。假如攝像元件180的攝影結果是相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc貼合位置有偏移或者是臨時壓接不完整的情況，則可以使裝置的運轉停止，這樣就能防止這類臨時壓接不完整的層壓薄膜的形成于未然。
實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中，如上所述，還設有用于使基底薄膜供給裝置200、層壓薄膜回收裝置300、臨時壓接裝置400以及輔助臨時壓接裝置500同步動作的控制器110。
因此，因為可以有節奏地進行臨時壓接工序及輔助臨時壓接工序，所以能夠在高度確保相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc貼合位置精度的狀態下，進行整體高生產效率的臨時壓接。
下面，參照圖2及圖8，對采用實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1時，相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的臨時壓接方法加以說明。圖8是用于說明相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜臨時壓接方法的流程圖。
采用實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1時，相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的臨時壓接方法具有如下工序向臨時壓接裝置400供給基底薄膜Wb的[基底薄膜供給工序]、將細長形覆蓋層薄膜Wc供給到臨時壓接工作臺410的[覆蓋層薄膜供給工序]、相對于基底薄膜Wb臨時壓接覆蓋層薄膜Wc的[臨時壓接·輔助臨時壓接工序]、回收臨時壓接有覆蓋層薄膜Wc的層壓薄膜Ws的[層壓薄膜回收工序]。下面，依次對上述各工序加以說明。
另外，在實施覆蓋層薄膜貼合時，如圖2所示，移動箝位器140配置于輔助臨時壓接裝置500的附近，覆蓋層薄膜載置裝置650的移動箝位器652配置于覆蓋層薄膜截斷裝置630的近傍，覆蓋層薄膜載置裝置650的吸附式墊枕654配置于覆蓋層薄膜交付位置P3處。另外，臨時壓接工作臺410配置于覆蓋層薄膜供給位置P1處。
1.基底薄膜供給工序首先，通過驅動基底薄膜供給裝置200、移動箝位器140及層壓薄膜回收裝置300，使基底薄膜Wb沿基底薄膜供給通路L1進行間歇輸送(圖8的步驟Q1)。
當基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜貼合位置到達臨時壓接區域P2時，暫時停止基底薄膜Wb的輸送動作，由固定箝位器120、130夾持基底薄膜Wb。這時，通過壓緊機構490相對于緩沖機構480壓緊基底薄膜Wb，臨時壓接區域P2內的基底薄膜Wb由設在緩沖機構480上的多個基底薄膜吸附孔真空吸附·固定(圖8的步驟Q2)。
2.覆蓋層薄膜供給工序首先，驅動覆蓋層薄膜輸送裝置610，將卷筒狀的覆蓋層薄膜Wc0變成平片狀，沿著覆蓋層薄膜輸送通路L3間歇送出(圖8的步驟R1)。這時，覆蓋層薄膜Wc0由脫模薄膜剝離刀670部分剝離覆蓋層薄膜Wc0的脫模薄膜，形成部分剝離部。
從覆蓋層薄膜輸送裝置610送出的平片狀覆蓋層薄膜Wc0由移動箝位器626供給到覆蓋層薄膜截斷裝置630上的壓切刀金屬模632和金屬模座634之間。而且，在由移動箝位器652夾持平片狀覆蓋層薄膜Wc0的覆蓋層薄膜交付位置P3側端緣的狀態下，由覆蓋層薄膜截斷裝置630截斷(圖8的步驟R2)。這時，在平片狀覆蓋層薄膜Wc0和金屬模座634之間一直送出有受刀帶Wh的狀態下，截斷覆蓋層薄膜Wc0。
由覆蓋層薄膜截斷裝置630截斷成細長形的覆蓋層薄膜Wc通過移動箝位器652配置于覆蓋層薄膜交付位置P3處。配置在覆蓋層薄膜交付位置P3處的覆蓋層薄膜Wc由吸附式墊枕654吸附著，從覆蓋層薄膜交付位置P3向覆蓋層薄膜供給位置P1的臨時壓接工作臺410上搬送·載置(圖8的步驟R3)。
對于載置于臨時壓接工作臺410上的覆蓋層薄膜Wc而言，覆蓋層薄膜Wc的下面由設在臨時壓接工作臺410上的多個覆蓋層薄膜吸附孔吸附著。另外，在覆蓋層薄膜Wc的上面——即脫模薄膜面，解除吸附著部分剝離部以外部分的吸附式墊枕654的吸附。在此狀態下若臨時壓接工作臺410下降，則對于載置于臨時壓接工作臺410上的覆蓋層薄膜Wc而言，處于脫模薄膜的部分剝離部由吸附式墊枕654吸附并卷起的狀態。而且，由脫模薄膜夾持裝置660夾持著該卷起的部分剝離部，同時通過臨時壓接工作臺410向臨時壓接區域P2移動，脫模薄膜就能很容易地從覆蓋層薄膜Wc剝離(圖8的步驟R4)。
而且，該被剝離了的脫模薄膜回收在配置于覆蓋層薄膜供給位置P1近傍的脫模薄膜回收箱內(未圖示)。
3.臨時壓接·輔助臨時壓接工序首先，使在覆蓋層薄膜供給位置P1供給了覆蓋層薄膜Wc的臨時壓接工作臺410，移動到覆蓋層薄膜供給通路L2的配置了發光元件170的位置。在該位置處由配置于臨時壓接工作臺410的2個攝像元件470對覆蓋層薄膜Wc進行攝影，并根據該攝影結果，測定臨時壓接工作臺410上的覆蓋層薄膜Wc的位置(圖8的步驟S1)。
然后，使臨時壓接工作臺410移動到臨時壓接區域P2處。這時，壓緊機構490配置于臨時壓接區域外。在臨時壓接區域P2處，由2個攝像元件470對基底薄膜Wb進行攝影，并根據該攝影結果，測定以臨時壓接工作臺410的位置為基準的基底薄膜Wb的位置(圖8的步驟S2)。而且，從上述覆蓋層薄膜Wc及基底薄膜Wb的測定值計算出相對偏移量，再根據該計算結果，驅動臨時壓接工作臺410，進行水平方向(x軸方向及y軸方向)的移動調整以及/或者圓周方向(z軸周圍)的轉動調整，進行相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的對位(圖8的步驟S3)。
相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的對位結束后，驅動臨時壓接工作臺410的第4移動裝置450，使臨時壓接工作臺410移向上方，使覆蓋層薄膜Wc臨時壓接于基底薄膜Wb上(圖8的步驟S4)。這樣，就形成了覆蓋層薄膜Wc臨時壓接于基底薄膜Wb的層壓薄膜Ws。臨時壓接動作結束后，固定箝位器120、130的夾持被解除。
當該臨時壓接動作結束后，臨時壓接工作臺410為了接受來自覆蓋層薄膜截斷·載置裝置600的新覆蓋層薄膜Wc，向覆蓋層薄膜供給位置P1移動。
由臨時壓接裝置400形成的平片狀層壓薄膜Ws，通過對基底薄膜供給裝置200、移動箝位器140及層壓薄膜回收裝置300的驅動，被送往輔助臨時壓接裝置500。然后，通過由輔助臨時壓接裝置500進行的輔助臨時壓接，形成覆蓋層薄膜Wc相對于基底薄膜Wb更牢固地臨時壓接了的層壓薄膜Ws(圖8的步驟S5)。
4.層壓薄膜回收工序進行了輔助臨時壓接的層壓薄膜Ws，由移動箝位器140送向層壓薄膜回收裝置300。這時，由配置于移動箝位器140寬度方向兩端部的攝像元件180對層壓薄膜Ws的臨時壓接狀態進行確認作業(圖8的步驟SQ1)。而且，通過驅動基底薄膜供給裝置200、移動箝位器140及層壓薄膜回收裝置300，將平片狀的層壓薄膜Ws卷繞在卷繞輥310上(圖8的步驟SQ2)。這樣，平片狀的層壓薄膜Ws被卷繞成卷筒狀，以卷筒狀層壓薄膜Ws的形式予以回收。
通過以上的工序，就可以形成覆蓋層薄膜Wc臨時壓接于基底薄膜Wb上的層壓薄膜Ws。
另外，在相對于基底薄膜Wb貼合覆蓋層薄膜Wc時，至少需要下列兩工序將覆蓋層薄膜Wc供給到基底薄膜供給通路上的貼合區域的覆蓋層薄膜供給工序、和相對于基底薄膜Wb貼合覆蓋層薄膜Wc的貼合工序。但是，如果以一個步驟(工序)完成相對于基底薄膜Wb完全貼合覆蓋層薄膜Wc的情況下，該貼合工序會很長，難以提高整體的生產效率。
因此，在實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中，是以相對于基底薄膜Wb臨時壓接覆蓋層薄膜Wc形成層壓薄膜Ws，來代替相對于基底薄膜Wb完全貼合覆蓋層薄膜Wc形成層壓薄膜的。因此，可以大副度縮短上述貼合工序時間，謀求整體生產效率的提高。
在實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中，為了相對于基底薄膜Wb完全貼合覆蓋層薄膜Wc，可以另行準備對臨時壓接了覆蓋層薄膜Wc的層壓薄膜Ws進行壓接(正式壓接)的真空壓力機，采用該真空壓力機來完成相對于基底薄膜Wb完全貼合覆蓋層薄膜Wc。
上述相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜的臨時壓接方法中，在進行了相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的臨時壓接，形成層壓薄膜Ws的工序后，還要進行下列兩工序將層壓薄膜Ws供給到進行輔助臨時壓接的區域、同時將新的基底薄膜Wb供給到臨時壓接區域P2的工序；和進行臨時壓接工作臺410的移動動作，將新的覆蓋層薄膜Wc供給到基底薄膜供給通路L1上的臨時壓接區域P2的工序。這時，由于后者的工序比前者的工序所需要的時間要長許多，因此通過利用上述工序之間的時間差進行輔助臨時壓接處理，而不必特意花費進行輔助臨時壓接工序的時間就能夠進行輔助臨時壓接。若采用實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1的話，由于具備上述構造的輔助臨時壓接裝置500，所以能縮短最初的臨時壓接時間，進一步提高整體的生產效率。
(實施方式2)實施方式2的覆蓋層薄膜貼合裝置，采用圖9加以說明。圖9是簡化表示實施方式2的覆蓋層薄膜貼合裝置的平面圖。另外，在圖9中對于和圖2中相同的部件注上相同的符號，并省略其詳細說明。
實施方式2的覆蓋層薄膜貼合裝置2基本上具有和實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1相同的構造。但是，其不同點在于基底薄膜不是卷筒狀，而是采用細長形的基底薄膜Wb。
即，實施方式2的覆蓋層薄膜貼合裝置2設有向臨時壓接區域P2供給細長形基底薄膜Wb的基底薄膜供給裝置1200，相對于由基底薄膜供給裝置1200供給的細長形基底薄膜Wb臨時壓接細長形覆蓋層薄膜Wc、形成細長形層壓薄膜Ws的臨時壓接裝置400，回收由臨時壓接裝置400形成的細長形層壓薄膜Ws的層壓薄膜回收裝置1300。其中，臨時壓接裝置400具有能夠沿著聯結臨時壓接區域P2和覆蓋層薄膜供給位置P1的覆蓋層薄膜供給通路L2供給覆蓋層薄膜Wc、而且能夠調整相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的位置及姿勢的臨時壓接工作臺410。
因此，若采用實施方式2的覆蓋層薄膜貼合裝置2的話，由于采用細長形的基底薄膜Wb，所以在基底薄膜長度方向的對位誤差不可能產生累積，因此基底薄膜長度方向的對位精度也不會降低。
另外，若采用實施方式2的覆蓋層薄膜貼合裝置2的話，和實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1的情況相同，由于覆蓋層薄膜Wc是由可以調整相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc位置及姿勢的臨時壓接工作臺410供給到臨時壓接區域P2的，所以能方便地提高相對于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的貼合位置精度。于是，也會很容易地提高撓性基板質量。
因此，實施方式2的覆蓋層薄膜貼合裝置2，在采用細長形基底薄膜Wb、而不是卷筒狀基底薄膜作為基底薄膜這一點上，和實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1的情況不同，但是，其它方面具有和實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1相同的構造，所以具有實施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1所有的效果。
另外，作為沿著基底薄膜供給通路L1搬送細長形基底薄膜Wb及細長形層壓薄膜Ws的搬送手段，可以采用吸附式墊枕或移動工作臺等公知的搬送手段。
權利要求
1.一種覆蓋層薄膜貼合裝置，設有將卷筒狀的基底薄膜變成平片狀、并間歇送出的基底薄膜供給裝置，相對于由該基底薄膜供給裝置送出的平片狀基底薄膜臨時壓接細長形的覆蓋層薄膜、形成覆蓋層薄膜臨時壓接于基底薄膜上的平片狀層壓薄膜的臨時壓接裝置，將由該臨時壓接裝置形成的平片狀層壓薄膜卷繞成卷筒狀的層壓薄膜回收裝置；其中，上述臨時壓接裝置，具有能夠沿著聯結覆蓋層薄膜臨時壓接于基底薄膜上的區域(以下稱為“臨時壓接區域”)、和向上述臨時壓接區域供給覆蓋層薄膜的位置(以下稱為“覆蓋層薄膜供給位置”)的覆蓋層薄膜供給通路供給覆蓋層薄膜、且能夠調整相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜的位置及姿勢的臨時壓接工作臺。
2.如權利要求1所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其特征在于上述覆蓋層薄膜供給通路，與聯結上述基底薄膜供給裝置和上述層壓薄膜回收裝置的基底薄膜供給通路垂直相交。
3.一種覆蓋層薄膜貼合裝置，設有向臨時壓接區域供給細長形基底薄膜的基底薄膜供給裝置，相對于由該基底薄膜供給裝置供給的細長形基底薄膜臨時壓接細長形覆蓋層薄膜、形成細長形層壓薄膜的臨時壓接裝置，用于回收由該臨時壓接裝置形成的細長形層壓薄膜的層壓薄膜回收裝置；其特征在于上述臨時壓接裝置，具有能夠沿著聯結臨時壓接區域和覆蓋層薄膜供給位置的覆蓋層薄膜供給通路供給覆蓋層薄膜、且能夠調整相對于基底薄膜的覆蓋層薄膜的位置及姿勢的臨時壓接工作臺。
4.如權利要求1～3中的任何一項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其特征在于上述臨時壓接工作臺，能夠在相互垂直相交的2個水平方向上移動，且能夠在以水平面內的假想點為旋轉中心的圓周方向上進行轉動。
5.如權利要求4所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其特征在于在上述臨時壓接工作臺上，至少設有2個相互隔離配置的攝像用孔，與上述各攝像用孔對應地設有攝像元件。
6.如權利要求1～5中的任意一項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其特征在于上述臨時壓接工作臺，通過在上述臨時壓接區域的上方移動來進行臨時壓接動作。
7.如權利要求6所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其特征在于上述臨時壓接裝置，還具有在上述臨時壓接區域中臨時壓接工作臺進行臨時壓接動作時，承受上述臨時壓接工作臺的緩沖機構。
8.如權利要求7所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其特征在于上述緩沖機構上設有用于吸附基底薄膜的多個基底薄膜吸附孔。
9.如權利要求8所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其特征在于上述臨時壓接裝置，還具有在進行臨時壓接動作之前相對于上述緩沖機構將基底薄膜壓緊的壓緊機構。
10.如權利要求1～9中的任意一項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其特征在于上述臨時壓接工作臺具有用于加熱覆蓋層薄膜的加熱器。
11.如權利要求1～10中的任意一項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其特征在于還設有覆蓋層薄膜截斷·載置裝置，該覆蓋層薄膜截斷·載置裝置具有將卷筒狀的覆蓋層薄膜變成平片狀、并間歇送出用的覆蓋層薄膜輸送裝置，將由該覆蓋層薄膜輸送裝置送出的平片狀覆蓋層薄膜截斷、并形成細長形覆蓋層薄膜的覆蓋層薄膜截斷裝置，和將由該覆蓋層薄膜截斷裝置形成的細長形覆蓋層薄膜載置于上述臨時壓接工作臺上的覆蓋層薄膜載置裝置。
12.如權利要求11所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其特征在于上述覆蓋層薄膜截斷裝置設有帶用于將平片狀覆蓋層薄膜截斷成細長形的壓切刀的壓切刀金屬模、及承受該壓切刀金屬模的金屬模座；上述覆蓋層薄膜截斷·載置裝置還設有將承受上述壓切刀的受刀帶送出到上述壓切刀金屬模和金屬模座之間的受刀帶輸送裝置、以及卷繞受刀帶的受刀帶卷繞裝置。
13.如權利要求1～12中的任意一項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其特征在于在上述臨時壓接工作臺上，設有用于吸附細長形覆蓋層薄膜的多個覆蓋層薄膜吸附孔。
14.如權利要求13所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其特征在于上述覆蓋層薄膜截斷·載置裝置還設有將吸附于上述多個覆蓋層薄膜吸附孔上的覆蓋層薄膜的脫模薄膜的端部予以夾持的脫模薄膜夾持裝置，在該脫模薄膜夾持裝置夾持住上述脫模薄膜的端部的狀態下，通過上述臨時壓接工作臺從上述覆蓋層薄膜供給位置向上述臨時壓接區域的移動，從上述覆蓋層薄膜上剝離脫模薄膜。
15.如權利要求14所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其特征在于上述覆蓋層薄膜截斷·載置裝置還具有用于在截斷覆蓋層薄膜之前，從覆蓋層薄膜剝離一部分的脫模薄膜、形成部分剝離部的脫模薄膜剝離刀。
16.如權利要求15所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其特征在于上述覆蓋層薄膜載置裝置具有用于將由上述覆蓋層薄膜截斷裝置截斷的覆蓋層薄膜搬送到上述臨時壓接工作臺上的吸附式墊枕，該吸附式墊枕在將覆蓋層薄膜載置于上述臨時壓接工作臺上開始，到由上述脫模薄膜夾持裝置夾持住脫模薄膜的端部為止的時間內，吸附著上述部分剝離部。
17.如權利要求1～16中的任意一項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其特征在于它還設有配設于基底薄膜供給通路內的上述臨時壓接裝置的層壓薄膜回收裝置側，用于將由上述臨時壓接裝置臨時壓接于基底薄膜上的覆蓋層薄膜相對于基底薄膜更牢固地進行臨時壓接的輔助臨時壓接裝置。
18.如權利要求17所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其特征在于在基底薄膜供給通路內的上述輔助臨時壓接裝置和上述層壓薄膜回收裝置之間，至少配設有2個相互隔離的攝像元件。
19.如權利要求17或18所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其特征在于它還具有使上述基底薄膜供給裝置和上述層壓薄膜回收裝置、上述臨時壓接裝置以及上述輔助臨時壓接裝置同步動作的控制器。
全文摘要
本發明的覆蓋層薄膜貼合裝置，是用于將細長形覆蓋薄膜臨時壓接于平片狀基底薄膜的覆蓋層薄膜貼合裝置，設有基底薄膜供給裝置(200)，相對于由基底薄膜供給裝置(200)送出的平片狀基底薄膜(Wb)臨時壓接細長形覆蓋層薄膜(Wc)、并形成覆蓋層薄膜(Wc)臨時壓接于基底薄膜Wb上的平片狀層壓薄膜Ws的臨時壓接裝置(400)，和層壓薄膜回收裝置(300)；其特征在于臨時壓接裝置(400)，具有能夠沿著覆蓋層薄膜供給通路(L2)供給覆蓋層薄膜(Wc)、且能夠調整相對于基底薄膜(Wb)的覆蓋層薄膜(Wc)的位置及姿勢的臨時壓接工作臺(410)。能夠容易地提高相對于基底薄膜(Wb)的覆蓋層薄膜(Wc)貼合位置的精度，從而能夠容易地提高撓性基板的質量。
文檔編號B65H29/46GK1910100SQ20058000158
公開日2007年2月7日 申請日期2005年1月25日 優先權日2004年4月13日
發明者河東和彥 申請人:倍科有限公司