帶有粘合劑層的光學膜及液晶顯示裝置的制造方法

帶有粘合劑層的光學膜及液晶顯示裝置的制造方法
【專利摘要】本發明提供一種帶有粘合劑層的光學膜，其包含光學膜、以及層疊于其至少一個面上的粘合劑層，粘合劑層由含有(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、硅烷化合物(B)、以及離子性化合物(C)的粘合劑組合物構成，硅烷化合物(B)是以式(I)表示的硅烷化合物，離子性化合物(C)的陰離子是選自規定的組中的陰離子，并提供包含該帶有粘合劑層的光學膜的液晶顯示裝置。
【專利說明】
帶有粘合劑層的光學膜及液晶顯示裝置
技術領域
[0001] 本發明設及帶有粘合劑層的光學膜、W及包含該光學膜的液晶顯示裝置。
【背景技術】
[0002] W在偏振片的一面或兩面層疊貼合透明樹脂膜而成的偏振板為代表的光學膜作 為構成液晶顯示裝置等圖像顯示裝置的光學構件得到廣泛的使用。偏振板之類的光學膜經 常被夾隔著粘合劑層與其他的構件(例如液晶顯示裝置中的液晶單元等)貼合使用(例如參 照日本特開2010-229321號公報）。因此，作為光學膜，已知有在其一個面預先設有粘合劑 層的帶有粘合劑層的光學膜。另外，為了賦予防靜電干擾性，還已知有在粘合劑層中含有離 子性化合物的光學膜。

【發明內容】

[0003] 近年來，液晶顯示裝置被擴展到W智能手機和平板型終端、車載用導航系統為代 表的具有觸摸面板功能的移動設備用途。在此種觸摸輸入式液晶顯示裝置中帶有粘合劑層 的光學膜有時也被將其粘合劑層例如夾隔著樹脂層、或直接接觸地配置于例如由金屬布線 構成的金屬層上。然而，在將由金屬材料構成的金屬層與含有離子性化合物的粘合劑層組 合的構成中，在高溫高濕環境下會有金屬層發生腐蝕的情況。在腐蝕當中，由于點腐蝕在金 屬層的厚度薄的情況下、或金屬層為金屬布線時其線寬窄的情況下，會貫穿金屬層，因此尤 其成為問題。
[0004] 本發明的目的在于，提供可W抑制金屬布線層之類的金屬層的腐蝕的帶有粘合劑 層的光學膜、W及包含該光學膜的液晶顯示裝置。
[0005] 本發明提供W下所示的帶有粘合劑層的光學膜、W及包含該光學膜的液晶顯示裝 置、W及粘合劑組合物。
[0006] [1]-種帶有粘合劑層的光學膜，其包含光學膜、W及層疊于其至少一個面上的粘 合劑層，
[0007] 所述粘合劑層由含有（甲基)丙締酸系樹脂(A)、硅烷化合物(B)、W及離子性化合 物(C)的粘合劑組合物構成，
[000引所述硅烷化合物(B)為W下述式（I)表示的硅烷化合物：
[0009] [化1]
[0010]
[0011]式中，A表示碳原子數1~20的燒二基或碳原子數3~20的2價的脂環式控基，構成 該燒二基及該脂環式控基的一C也一也可W由一0-或一C(=0)-置換，Ri表示碳原子數1~ 5的烷基，護、護、護、護及護各自獨立地表示碳原子數1~5的烷基或碳原子數1~5的烷氧基。
[0012]所述離子性化合物(C)的陰離子是選自下述組中的陰離子：
[001引[化 2]
[0014]
[0015] [2]根據[1]中記載的帶有粘合劑層的光學膜，其中，W所述式（I)表示的硅烷化合 物(B)是W下述式（II)表示的硅烷化合物：
[0016] [化3]
[0017]
[001引式中，1?1、護、於、護及護分別表示與上述相同的含義，護表示碳原子數1~5的烷基，111 表示1~20的整數。
[0019] [3]根據[2]中記載的帶有粘合劑層的光學膜，其中，所述式（II)中的m為4~20的 整數。
[0020] [4]根據[2]中記載的帶有粘合劑層的光學膜，其中，所述式（II)中的m為6~8的整 數。
[0021] [引根據[2]中記載的帶有粘合劑層的光學膜，其中，所述式(II)中的m為6。
[0022] [6]根據[1]~[引中任一項記載的帶有粘合劑層的光學膜，其中，所述硅烷化合物 (B)為1，6 -雙(Ξ甲氧基甲娃烷基)己燒。
[0023] [7]根據[1]~[6]中任一項記載的帶有粘合劑層的光學膜，其中，所述離子性化合 物(C)的陽離子為具有包含不飽和鍵的含有氮原子的雜環結構的陽離子。
[0024] [引根據[1]~[7]中任一項記載的帶有粘合劑層的光學膜，其中，所述離子性化合 物(C)的陽離子為W下述式(III)表示的化晚鐵陽離子：
[0025] [化4]
[0026]
[0027] 式中，R8~RU各自獨立地表示氨原子、可W具有取代基的烷基、可W具有取代基的 締基、可W具有取代基的烘基、可W具有取代基的芳基、可W具有取代基的雜環基、徑基、酸 基、簇基、幾基、或面素原子，也可W在相鄰的取代基之間形成環。
[0028] [9]根據[1]~[引中任一項記載的帶有粘合劑層的光學膜，其中，所述粘合劑組合 物中的所述硅烷化合物(B)的含量相對于所述（甲基)丙締酸系樹脂(A)IOO重量份為0.01~ 10重量份。
[0029] [10]根據[1]~[9]中任一項記載的帶有粘合劑層的光學膜，其中，所述（甲基)丙 締酸系樹脂(A)含有來自于具有徑基的單體的構成單元。
[0030] 山]根據山~[10]中任一項記載的帶有粘合劑層的光學膜，其中，所述（甲基)丙 締酸系樹脂(A)含有來自于均聚物的玻璃化轉變溫度低于(TC的丙締酸烷基醋(al)的構成 單元、W及來自于均聚物的玻璃化轉變溫度為(TC W上的丙締酸烷基醋(a2)的構成單元。
[0031] [12]根據山~山忡任一項記載的帶有粘合劑層的光學膜，其中，所述（甲基)丙 締酸系樹脂(A)的重均分子量為50萬~250萬。
[0032] [13]根據[1]~[12]中任一項記載的帶有粘合劑層的光學膜，其中，所述粘合劑組 合物還含有異氯酸醋系交聯劑(D)。
[0033] [14]根據[1]~[13]中任一項記載的帶有粘合劑層的光學膜，其中，所述粘合劑組 合物實質上不含有Ξ挫系化合物。
[0034] [15]-種液晶顯示裝置，其包含[1]~[14]中任一項記載的帶有粘合劑層的光學 膜。
[0035] [16]-種粘合劑組合物，其含有（甲基)丙締酸系樹脂(A)、硅烷化合物(B)、W及離 子性化合物(C)，
[0036] 所述硅烷化合物(B)為W下述式（I)表示的硅烷化合物：
[0037] [化5]
[00；3 引
[0039] 式中，A表示碳原子數1~20的燒二基或碳原子數3~20的2價的脂環式控基，構成 該燒二基及該脂環式控基的一C出一也可W由一0-或一C(=0)-置換，Ri表示碳原子數1~ 5的烷基，護、護、於、護及護各自獨立地表示碳原子數1~5的烷基或碳原子數1~5的烷氧基。
[0040] 所述離子性化合物(C)的陰離子為選自下述組中的陰離子：
[0041 ][化6]
[0042]
[0043] 所述粘合劑組合物被用于形成層疊在金屬層上的粘合劑層。
[0044] 根據本發明，可W提供能夠抑制金屬層的腐蝕的帶有粘合劑層的光學膜、W及包 含該光學膜的液晶顯示裝置。
【附圖說明】
[0045] 圖1是表示本發明的帶有粘合劑層的光學膜的一例的示意剖面圖。
[0046] 圖2是表示偏振板的層構成的一例的示意剖面圖。
[0047] 圖3是表示偏振板的層構成的另一例的示意剖面圖。
[0048] 圖4是表示光學層疊體的層構成的一例的示意剖面圖。
[0049] 圖5是表示光學層疊體的層構成的另一例的示意剖面圖。
[0050] 圖6是表示光學層疊體的層構成的另一例的示意剖面圖。
[0051] 圖7是表示光學層疊體的層構成的另一例的示意剖面圖。
[0052] 圖8是表示光學層疊體的層構成的另一例的示意剖面圖。
【具體實施方式】
[0053] <帶有粘合劑層的光學膜>
[0054] 圖1是表示本發明的帶有粘合劑層的光學膜的一例的示意剖面圖。如圖1所示本發 明的帶有粘合劑層的光學膜1包含光學膜10、和層疊于其至少一個面上的粘合劑層20。粘合 劑層20通常被直接層疊于光學膜10的表面。
[0055] 光學膜10既可W是單層結構的光學膜，也可W是多層結構的光學膜。粘合劑層20 由含有（甲基)丙締酸系樹脂(A)、硅烷化合物(B)、W及離子性化合物(C)、優選還含有異氯 酸醋系交聯劑(D)的粘合劑組合物構成。該粘合劑組合物也可W還含有其他的成分。本說明 書中"(甲基)丙締酸"是指選自丙締酸及甲基丙締酸中的至少一方。對于"(甲基倆締酸醋" 或"(甲基)丙締酷基"等也相同。
[0056] 〔1)光學膜
[0057] 帶有粘合劑層的光學膜1所具備的光學膜10可W是能夠裝入液晶顯示裝置等圖像 顯示裝置的各種光學膜(具有光學特性的膜）。光學膜10既可W是單層結構的光學膜，也可 W是多層結構的光學膜。單層結構的光學膜的具體例除了偏振片W外，還包括相位差膜、亮 度提高膜、防眩膜、防反射膜、擴散膜、聚光膜等光學功能性膜。多層結構的光學膜的具體例 包括偏振板、相位差板。本說明書中所謂偏振板是指在偏振片的至少一個面層疊有樹脂膜 或樹脂層的構件。所謂相位差板，是指在相位差膜的至少一個面層疊有樹脂膜或樹脂層的 構件。光學膜10優選為偏振板、偏振片、相位差板或相位差膜，更優選為偏振板或偏振片。 [0化引〔1 - 1)偏振板
[0059] 圖2及圖3是表示偏振板的層構成的例子的示意剖面圖。圖2中所示的偏振板10a是 在偏振片2的一個面層疊貼合有第一樹脂膜3的單面保護偏振板，圖3中所示的偏振板10b是 還在偏振片2的另一個面層疊貼合有第二樹脂膜4的雙面保護偏振板。第一、第二樹脂膜3、4 可W夾隔著未圖示的膠粘劑層或粘合劑層與偏振片2貼合。偏振板lOaUOb也可W包括第 一、第二樹脂膜3、4W外的其他的膜或層。
[0060] 偏振片2是具備吸收具有與其吸收軸平行的振動面的直線偏振光、透射具有與吸 收軸正交的（與透射軸平行的)振動面的直線偏振光的性質的膜，例如可W使用使二色性色 素吸附于聚乙締醇系樹脂膜并取向而得的膜。作為二色性色素，可W使用艦、二色性有機染 料。
[0061] 聚乙締醇系樹脂可W通過將聚乙酸乙締醋系樹脂皂化而得到。作為聚乙酸乙締醋 系樹脂，除了作為乙酸乙締醋的均聚物的聚乙酸乙締醋W外，還可W舉出能夠與乙酸乙締 醋共聚的單體與乙酸乙締醋的共聚物等。作為能夠與乙酸乙締醋共聚的單體，可W舉出不 飽和簇酸、締控、乙締基酸、不飽和橫酸、具有錠基的（甲基)丙締酷胺等。
[0062] 聚乙締醇系樹脂的皂化度通常為85~100摩爾％，優選為98摩爾％ ^上。聚乙締醇 系樹脂也可W被改性，例如也可W使用由醒類改性了的聚乙締醇縮甲醒或聚乙締醇縮乙醒 等。聚乙締醇系樹脂的平均聚合度通常為1000~10000,優選為1500~5000。聚乙締醇系樹 脂的平均聚合度可W依照JIS Κ 6726求出。
[0063] 通常W將聚乙締醇系樹脂制膜而得的膜作為偏振片2的原材料膜使用。聚乙締醇 系樹脂可W利用公知的方法制膜。原材料膜的厚度通常為1~150μπι，如果還考慮拉伸的容 易度等，則優選為lOymW上。
[0064] 偏振片2例如可W如下制造，即，對原材料膜實施單軸拉伸的工序、用二色性色素 將膜染色而使之吸附該二色性色素的工序、用棚酸水溶液處理膜的工序、W及對膜進行水 洗的工序，最后加 W干燥而制造。偏振片2的厚度通常為1~30皿，從帶有粘合劑層的光學膜 1的薄膜化的觀點考慮，優選為下，更優選為15ymW下，進一步優選為lOymW下。
[0065] 使二色性色素吸附于聚乙締醇系樹脂膜并取向而成的偏振片2可W利用如下的方 法1獲得，即，作為原材料膜使用聚乙締醇系樹脂膜的單獨膜，并對該膜實施單軸拉伸處理 及二色性色素的染色處理，除此W外，還可W利用方法2獲得，即，向基材膜涂布含有聚乙締 醇系樹脂的涂布液(水溶液等），使之干燥而得到具有聚乙締醇系樹脂層的基材膜后，將其 與基材膜一起進行單軸拉伸，對拉伸后的聚乙締醇系樹脂層實施二色性色素的染色處理， 然后剝離除去基材膜。作為基材膜，可W使用包含與能夠構成后述的第一、第二樹脂膜3、4 的熱塑性樹脂相同的熱塑性樹脂的膜，優選為包含聚對苯二甲酸乙二醇醋等聚醋系樹脂、 聚碳酸醋系樹脂、Ξ乙酷纖維素等纖維素系樹脂、降冰片締系樹脂等環狀聚締控系樹脂、聚 苯乙締系樹脂等的膜。根據上述方法2,容易制作薄膜的偏振片2,也容易制作例如厚度7μπι W下的偏振片2。
[0066] 第一、第二樹脂膜3、4可W各自獨立地為包含具有透光性的、優選在光學上透明的 熱塑性樹脂、例如鏈狀聚締控系樹脂(聚乙締系樹脂、聚丙締系樹脂等）、環狀聚締控系樹脂 (降冰片締系樹脂等)之類的聚締控系樹脂;纖維素系樹脂(纖維素醋系樹脂等）；聚醋系樹 月旨(聚對苯二甲酸乙二醇醋、聚糞二甲酸乙二醇醋、聚對苯二甲酸下二醇醋等）；聚碳酸醋系 樹脂；（甲基)丙締酸系樹脂;聚苯乙締系樹脂;聚酸酸酬系樹脂;聚諷系樹脂、或它們的混合 物、共聚物等的膜。其中，第一、第二樹脂膜3、4優選分別由選自環狀聚締控系樹脂、聚碳酸 醋系樹脂、纖維素系樹脂、聚醋系樹脂、W及（甲基)丙締酸系樹脂中的樹脂構成，更優選由 選自纖維素系樹脂及環狀聚締控系樹脂中的樹脂構成。
[0067] 作為鏈狀聚締控系樹脂，除了聚乙締樹脂、聚丙締樹脂等鏈狀締控的均聚物W外， 還可W舉出包含巧巾W上的鏈狀締控的共聚物。
[0068] 環狀聚締控系樹脂是作為聚合單元包含W降冰片締、四環十二締(別名:二甲橋八 氨糞)或它們的衍生物為代表例的環狀締控的樹脂的總稱。如果要舉出環狀聚締控系樹脂 的具體例，則為環狀締控的開環(共)聚合物及其氨化物、環狀締控的加成聚合物、環狀締控 與乙締、丙締之類的鏈狀締控或具有乙締基的芳香族化合物的共聚物、W及將它們用不飽 和簇酸或其衍生物改性了的改性(共)聚合物等。其中，優選使用作為環狀締控使用了降冰 片締或稠環降冰片締系單體等降冰片締系單體的降冰片締系樹脂。
[0069] 纖維素系樹脂優選為纖維素醋系樹脂，即纖維素的部分或完全醋化物等，例如可 W舉出纖維素的乙酸醋、丙酸醋、下酸醋、它們的混合醋等。其中，優選使用Ξ乙酷纖維素、 二乙酷纖維素、纖維素乙酸醋丙酸醋、纖維素乙酸醋下酸醋等。
[0070] 聚醋系樹脂是具有醋鍵的、上述纖維素醋系樹脂W外的樹脂，一般是包含多元簇 酸或其衍生物與多元醇的縮聚物的樹脂。聚醋系樹脂的具體例包括聚對苯二甲酸乙二醇 醋、聚對苯二甲酸下二醇醋、聚糞二甲酸乙二醇醋、聚糞二甲酸下二醇醋、聚對苯二甲酸丙 二醇醋、聚糞二甲酸丙二醇醋、聚對苯二甲酸環己燒二甲醇醋、聚糞二甲酸環己燒二甲醇 醋。
[0071] 聚碳酸醋系樹脂是由碳酸和二醇或雙酪形成的聚醋。其中，從耐熱性、耐候性及耐 酸性的觀點考慮，優選使用在分子鏈中具有二苯基燒控的芳香族聚碳酸醋。作為聚碳酸醋， 可W例示出由2,2 -雙(4-徑基苯基）丙烷（別名雙酪A)、2,2-雙(4-徑基苯基）下燒、1， 1-雙(4-徑基苯基)環己燒、1，1一雙(4-徑基苯基)異下燒、1，1一雙(4-徑基苯基）乙燒 之類的雙酪衍生的聚碳酸醋。
[0072] 能夠構成第一、第二樹脂膜3、4的（甲基)丙締酸系樹脂可W是W來自于甲基丙締 酸醋的構成單元作為主體的（例如含有50重量％ W上的該構成單元的）聚合物，優選為在其 上共聚有其他共聚成分的共聚物。（甲基）丙締酸系樹脂也可W包含巧巾W上的來自于甲基 丙締酸醋的構成單元。作為甲基丙締酸醋，可W舉出甲基丙締酸甲醋、甲基丙締酸乙醋、甲 基丙締酸下醋等甲基丙締酸的Cl~C4烷基醋。
[0073] 作為能夠與甲基丙締酸醋共聚的共聚成分，可W舉出丙締酸醋。丙締酸醋優選為 丙締酸甲醋、丙締酸乙醋、丙締酸下醋、丙締酸2-乙基己醋等丙締酸的Cl~C8烷基醋。其他 共聚成分的具體例可W舉出（甲基)丙締酸等不飽和酸類;苯乙締、面代苯乙締、α-甲基苯 乙締、乙締基甲苯等芳香族乙締基化合物；（甲基）丙締臘等乙締基氯化合物；馬來酸酢、巧 康酸酢等不飽和酸酢；苯基馬來酷亞胺、環己基馬來酷亞胺等不飽和酷亞胺等在分子內具 有1個聚合性碳一碳雙鍵的、丙締酸醋W外的化合物。也可W將在分子內具有2個W上的聚 合性碳一碳雙鍵的化合物作為共聚成分使用。共聚成分既可W僅使用1種，也可W并用巧中 社。
[0074] 從可W提高膜的耐久性的方面考慮，（甲基)丙締酸類樹脂也可W在高分子主鏈中 具有環結構。環結構優選為環狀酸酢結構、環狀酷亞胺結構、內醋環結構等雜環結構。作為 環狀酸酢結構的具體例，可W舉出戊二酸酢結構、下二酸酢結構，作為環狀酷亞胺結構的具 體例，可W舉出戊二酷亞胺結構、下二酷亞胺結構，作為內醋環結構的具體例，可W舉出下 內醋環結構、戊內醋環結構。
[0075] 從制成膜的制膜性、膜的抗沖擊性等觀點考慮，（甲基)丙締酸系樹脂也可W含有 丙締酸系橡膠粒子。所謂丙締酸系橡膠粒子，是W彈性聚合物作為必需成分的粒子，所述彈 性聚合物W丙締酸醋作為主體，可W舉出實質上僅包含該彈性聚合物的單層結構的粒子、 W彈性聚合物作為1個層的多層結構的粒子。作為彈性聚合物的例子，可W舉出W丙締酸燒 基醋作為主成分、并共聚了能夠與之共聚的其他乙締基單體及交聯性單體的交聯彈性共聚 物。作為成為彈性聚合物的主成分的丙締酸烷基醋，例如可W舉出丙締酸甲醋、丙締酸乙 醋、丙締酸下醋、丙締酸2-乙基己醋等丙締酸的Cl~C8烷基醋。烷基的碳原子數優選為4W 上。
[0076] 作為能夠與丙締酸烷基醋共聚的其他乙締基單體，可W舉出在分子內具有1個聚 合性碳一碳雙鍵的化合物，更具體而言，可W舉出甲基丙締酸甲醋之類的甲基丙締酸醋、苯 乙締之類的芳香族乙締基化合物、（甲基)丙締臘之類的乙締基氯化合物等。作為交聯性單 體，可W舉出在分子內具有至少2個聚合性碳一碳雙鍵的交聯性的化合物，更具體而言，可 W舉出乙二醇二（甲基）丙締酸醋、下二醇二（甲基）丙締酸醋等多元醇的（甲基）丙締酸醋、 (甲基)丙締酸締丙醋等（甲基)丙締酸的締基醋、二乙締基苯等。
[0077] 丙締酸系橡膠粒子的含量相對于（甲基)丙締酸系樹脂100重量份，優選為5重量份 W上，更優選為10重量份W上。如果丙締酸系橡膠粒子的含量太多，則膜的表面硬度降低， 另外，在對膜實施表面處理的情況下對表面處理劑中的有機溶劑的耐溶劑性可能降低。因 而，丙締酸系橡膠粒子的含量相對于（甲基）丙締酸系樹脂100重量份，通常為80重量份W 下，優選為60重量份W下。
[0078] 第一、第二樹脂膜3、4可W含有本發明的技術領域中的通常的添加劑。添加劑的具 體例例如包括紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、有機系染料、顏料、無機系色素、抗氧化劑、防 靜電干擾劑、表面活性劑、潤滑劑、分散劑、熱穩定劑等。
[0079] 作為紫外線吸收劑，可W舉出水楊酸醋化合物、二苯甲酬化合物、苯并Ξ挫化合 物、Ξ嗦化合物、（甲基)丙締酸氯基醋化合物、儀絡合物等。
[0080] 第一、第二樹脂膜3、4可W分別是未被拉伸的膜、或被單軸或雙軸拉伸了的膜的任 意一種。雙軸拉伸既可W是沿2個拉伸方向同時進行拉伸的同時雙軸拉伸，也可W在沿規定 方向拉伸后沿另外的方向進行拉伸的逐次雙軸拉伸。第一樹脂膜3和/或第二樹脂膜4可W 是擔負保護偏振片2的作用的保護膜，也可W是像后述的相位差膜那樣的兼具光學功能的 保護膜。相位差膜是顯示出光學各向異性的光學膜。例如，可W通過對包含上述熱塑性樹脂 的膜進行拉伸(單軸拉伸或雙軸拉伸等）、或在該熱塑性樹脂膜上形成液晶層等而制成被賦 予了任意的相位差值的相位差膜。
[0081] 第一樹脂膜3及第二樹脂膜4既可W是由相同的熱塑性樹脂構成的膜，也可W是由 彼此不同的熱塑性樹脂構成的膜。第一樹脂膜3及第二樹脂膜4在厚度、添加劑的有無或其 種類、相位差特性等方面既可W相同，也可W不同。
[0082] 第一樹脂膜3和/或第二樹脂膜4也可W在其外表面(與偏振片2相反一側的表面） 具備硬涂層、防眩層、防反射層、光擴散層、防靜電干擾層、防污層、導電層等表面處理層(涂 覆層）。
[0083] 第一樹脂膜3及第二樹脂膜4的厚度分別通常為1~150μπι，優選為5~1(Κ)μπι，更優 選為5~60μπι。該厚度也可W是50ymW下，甚至是30ymW下。減小第一、第二樹脂膜3、4的厚 度，有利于帶有粘合劑層的光學膜1及包含該光學膜1的光學層疊體的薄膜化，進而有利于 包含帶有粘合劑層的光學膜1或光學層疊體的液晶顯示裝置的薄膜化。
[0084] 特別是對于面向智能手機、平板型終端運樣的中小型的偏振板而言，從薄膜化的 要求考慮，作為第一樹脂膜3和/或第二樹脂膜4經常使用厚度30ymW下的薄的樹脂膜，而此 種偏振板抑制偏振片2的收縮力的力弱，耐久性容易不充分。根據本發明，即使在將此種偏 振板作為光學膜10使用的情況下，也可W提供具有良好的耐久性的帶有粘合劑層的光學膜 1、W及包含該光學膜1的光學層疊體。所謂帶有粘合劑層的光學膜1及光學層疊體的耐久性 是指如下的性質，即，例如在高溫環境下、高溫高濕環境下、反復高溫與低溫的環境下等，可 W抑制粘合劑層20和與之相鄰的光學構件的界面中的翅起或脫落、粘合劑層20的發泡等不 佳狀況。
[0085] 另外，從偏振板的薄膜化的觀點考慮，像圖2所示的偏振板10a那樣僅在偏振片2的 一面配置樹脂膜的構成是有利的構成。該情況下通常在偏振片2的另一個面直接貼合粘合 劑層20而成為帶有粘合劑層的光學膜1(參照圖4)。在此種構成的偏振板的情況下，因粘合 劑層20中所含的離子性化合物而在高溫高濕環境下使偏振板的光學性能降低的問題變得 尤其明顯。根據本發明，即使在將此種偏振板作為光學膜10使用的情況下，也可W提供具有 良好的光學耐久性(可W抑制光學特性的劣化的性質）的帶有粘合劑層的光學膜1、W及包 含該光學膜1的光學層疊體。
[0086] 第一、第二樹脂膜3、4可W夾隔著膠粘劑層或粘合劑層與偏振片2貼合。作為形成 膠粘劑層的膠粘劑，可W使用水系膠粘劑或活性能量射線固化性膠粘劑。
[0087] 作為水系膠粘劑，可W舉出包含聚乙締醇系樹脂水溶液的膠粘劑、水系二液型氨 基甲酸醋系乳液膠粘劑等。其中，適合使用包含聚乙締醇系樹脂水溶液的水系膠粘劑。作為 聚乙締醇系樹脂，除了可W使用對作為乙酸乙締醋的均聚物的聚乙酸乙締醋進行皂化處理 而得的乙締醇均聚物W外，還可W使用對乙酸乙締醋和能夠與之共聚的其他單體的共聚物 進行皂化處理而得的聚乙締醇系共聚物、或將它們的徑基部分地改性了的改性聚乙締醇系 聚合物等。水系膠粘劑可W含有醒化合物、環氧基化合物、Ξ聚氯胺系化合物、徑甲基化合 物、異氯酸醋化合物、胺化合物、多價金屬鹽等交聯劑。
[0088] 在使用水系膠粘劑的情況下，在將偏振片2與第一、第二樹脂膜3、4貼合后，為了除 去水系膠粘劑中所含的水優選實施使之干燥的工序。也可W在干燥工序后，設置例如在20 ~45°C左右的溫度進行熟化的熟化工序。
[0089] 上述所謂活性能量射線固化性膠粘劑，是指因照射紫外線或電子束等活性能量射 線而固化的膠粘劑，例如可W舉出含有聚合性化合物及光聚合引發劑的固化性組合物、含 有光反應性樹脂的固化性組合物、含有粘結劑樹脂及光反應性交聯劑的固化性組合物等。 優選為紫外線固化性膠粘劑。作為聚合性化合物，可W舉出光固化性環氧系單體、光固化性 (甲基)丙締酸系單體、光固化性氨基甲酸醋系單體等光聚合性單體、或來自于光聚合性單 體的低聚物。作為光聚合引發劑，可W舉出含有因活性能量射線的照射而產生中性自由基、 陰離子自由基、陽離子自由基等活性中屯、的物質的光聚合引發劑。作為含有聚合性化合物 及光聚合引發劑的活性能量射線固化性膠粘劑，可W優選使用含有光固化性環氧系單體及 光陽離子聚合引發劑的固化性組合物、含有光固化性（甲基)丙締酸系單體及光自由基聚合 引發劑的固化性組合物、或運些固化性組合物的混合物。
[0090] 在使用活性能量射線固化性膠粘劑的情況下，在將偏振片2與第一、第二樹脂膜3、 4貼合后，根據需要進行干燥工序，然后進行通過照射活性能量射線而使活性能量射線固化 性膠粘劑固化的固化工序。活性能量射線的光源沒有特別限定，然而優選在波長400nmW下 具有發光分布的紫外線，具體而言，可W使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓 水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬面化物燈等。
[0091] 在將偏振片2與第一、第二樹脂膜3、4貼合時，可W對它們的至少任意一方的貼合 面實施皂化處理、電暈處理、等離子體處理等表面活性化處理。在偏振片2的兩面貼合樹脂 膜的情況下用于將運些樹脂膜貼合的膠粘劑既可W是同種的膠粘劑，也可W是不同種的膠 粘劑。
[0092] 偏振板10a、10b可W還包含其他的膜或層。其具體例除了后述的相位差膜W外，還 可W是亮度提高膜、防眩膜、防反射膜、擴散膜、聚光膜、粘合劑層20W外的粘合劑層、涂覆 層、保護膜等。保護膜是出于保護偏振板等光學膜10的表面免受損傷或污染的目的使用的 膜，慣例是在將帶有粘合劑層的光學膜1貼合在例如金屬層30上后，被剝離除去。
[0093] 保護膜通常由基材膜、和層疊于其上的粘合劑層構成。基材膜可W由熱塑性樹脂、 例如聚乙締系樹脂、聚丙締系樹脂等聚締控系樹脂;聚對苯二甲酸乙二醇醋或聚糞二甲酸 乙二醇醋等聚醋系樹脂;聚碳酸醋系樹脂；（甲基)丙締酸系樹脂等構成。
[0094] 〔1-2)相位差板
[0095] 相位差板中所含的相位差膜如上所述，是顯示出光學各向異性的光學膜，作為可 W用于第一、第二樹脂膜3、4中的相位差膜，可W是對包含上面例示的熱塑性樹脂、W及例 如聚乙締醇系樹脂、聚芳醋系樹脂、聚酷亞胺系樹脂、聚酸諷系樹脂、聚偏二氣乙締/聚甲基 丙締酸甲醋系樹脂、液晶聚醋系樹脂、乙締一乙酸乙締醋共聚物皂化物、聚氯乙締系樹脂等 的樹脂膜拉伸為1.01~6倍左右而得的拉伸膜。其中，優選為對聚碳酸醋系樹脂膜或環狀締 控系樹脂膜、（甲基)丙締酸系樹脂膜或纖維素系樹脂膜進行單軸拉伸或雙軸拉伸而得的拉 伸膜。另外，在本說明書中，零延遲膜也包含于相位差膜中（但是也可W作為保護膜使用。）。 除此W外，也可W將被稱作單軸性相位差膜、寬視角相位差膜、低光彈性模量相位差膜等的 膜作為相位差膜使用。
[0096] 所謂零延遲膜，是指面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth都為一15~15nm的 膜。該相位差膜可W適用于WS模式的液晶顯示裝置。面內相位差值Re及厚度方向相位差值 R化優選都為一10~10加1，更優選都為一5~5加1。此處所說的面內相位差值Re及厚度方向相 位差值R化是波長590nm時的值。
[0097] 面內相位差值Re及厚度方向相位差值R化分別由下式定義：
[009引 Re=(nx_ny)Xd
[0099] Κ&=〔 (nx+ny)/2_nz) Xd
[0100] 式中，nx是膜面內的慢軸方向（X軸方向）的折射率，ny是膜面內的快軸方向（在面內 與X軸正交的y軸方向）的折射率，nz是膜厚度方向（垂直于膜面的Z軸方向）的折射率，d為膜 的厚度。
[0101] 作為零延遲膜，可W使用例如包含纖維素系樹脂、鏈狀聚締控系樹脂及環狀聚締 控系樹脂等聚締控系樹脂、聚對苯二甲酸乙二醇醋系樹脂或（甲基）丙締酸系樹脂的樹脂 膜。特別是由于相位差值的控制容易、獲取也容易，因此優選使用纖維素系樹脂、聚締控系 樹脂或（甲基)丙締酸系樹脂。
[0102] 另外，利用液晶性化合物的涂布、取向來體現出光學各向異性的膜、利用無機層狀 化合物的涂布來體現出光學各向異性的膜也可W作為相位差膜使用。作為此種相位差膜， 有被稱作溫度補償型相位差膜的相位差膜，另外，還有由JX日礦日石能源(株）W "N胡莫"的 商品名銷售的將棒狀液晶傾斜取向而得的膜、由富±膠片(株）W"WV膜"的商品名銷售的將 圓盤狀液晶傾斜取向而得的膜、由住友化學(株）W "VAC膜"的商品名銷售的完全雙軸取向 型的膜、同樣由住友化學(株)W "new VAC膜"的商品名銷售的雙軸取向型的膜等。
[0103] 層疊于相位差膜的至少一個面的樹脂膜例如可W是上述的保護膜。
[0104] 〔2)粘合劑層
[0105] 層疊于光學膜10的至少一個面的粘合劑層20由含有（甲基)丙締酸系樹脂(A)、娃 燒化合物(B)、W及離子性化合物(C)的粘合劑組合物構成，優選還含有異氯酸醋系交聯劑 (D)。在該粘合劑組合物中硅烷化合物(B)為W下述式(I)表示的硅烷化合物：
[0106] [化7]
[0107]
[0108] 式中，A表示碳原子數1~20的燒二基或碳原子數3~20的2價的脂環式控基，構成 該燒二基及該脂環式控基的一C出一也可W由一0-或一C(=0)-置換，Ri表示碳原子數1~ 5的烷基，護、護、於、護及護各自獨立地表示碳原子數1~5的烷基或碳原子數1~5的烷氧基。
[0109] 另外，在上述粘合劑組合物中離子性化合物(C)是由陽離子和陰離子構成的化合 物，該陰離子為選自下述組中的陰離子：
[0110] [化 8]
[0111]
[0112] 根據由上述的粘合劑組合物構成的粘合劑層20,即使在將粘合劑層20配置于包含 金屬層的構成的基板中的情況下，也可W抑制該金屬層的腐蝕，另外，可W提高帶有粘合劑 層的光學膜1、W及包含該光學膜1的光學層疊體的耐久性。此外，根據由上述的粘合劑組合 物構成的粘合劑層20,帶有粘合劑層的光學膜1、W及包含該光學膜1的光學層疊體即使是 將粘合劑層20直接貼合于偏振片2上而成的構成，也可W顯示出良好的光學耐久性。W下， 也將可W抑制金屬層的腐蝕的性質稱作"耐金屬腐蝕性"。
[0113] 粘合劑層20的厚度通常為2~40皿，從帶有粘合劑層的光學膜1、W及包含該光學 膜1的光學層疊體的耐久性和帶有粘合劑層的光學膜1的再加工性(1)口一夕性）等觀點考 慮，優選為5~30μπι，更優選為10~25μπι。另外，如果粘合劑層20的厚度為lOymW上，則粘合 劑層20對于光學膜10的尺寸變化的追隨性變得良好，如果為下，則再加工性變得良 好。
[0114] 粘合劑層20優選為在23~80°C的溫度范圍中顯示出0.1~5M化的儲存彈性模量的 層。由此，就可W更加有效地提高帶有粘合劑層的光學膜1、W及包含該光學膜1的光學層疊 體的耐久性。所謂巧23~8(TC的溫度范圍中顯示出0.1~5MPa的儲存彈性模量"，是指在該 范圍的任意的溫度下，儲存彈性模量都為上述范圍內的值。由于儲存彈性模量通常隨著溫 度升高而逐漸減小，因此如果23°C及80°C的儲存彈性模量都落入上述范圍，則可W在該范 圍的溫度下顯示出上述范圍內的儲存彈性模量。粘合劑層20的儲存彈性模量可W使用市售 的粘彈性測定裝置、例如REOMETRIC公司制的粘彈性測定裝置"DYNAMIC ANALYZER RDA ΙΓ 測定。
[0115] 〔2-1)(甲基)丙締酸系樹脂(A)
[0116] (甲基)丙締酸系樹脂(A)是W來自于（甲基)丙締酸系單體的構成單元作為主成分 的(優選含有50重量％ W上的）聚合物或共聚物。（甲基)丙締酸系單體例如含有具有（甲基） 丙締酷基的單體，優選含有（甲基)丙締酸烷基醋。（甲基)丙締酸烷基醋所具有的烷基的碳 原子數優選為1~14,更優選為1~12,進一步優選為1~8,可W是直鏈狀、支鏈狀或環狀。作 為（甲基)丙締酸烷基醋，也可W使用后述的向烷基中導入了取代基的含有取代基的丙締酸 烷基醋之類的含有取代基的（甲基)丙締酸烷基醋。（甲基)丙締酸烷基醋既可w僅使用巧中， 也可W并用2種W上。
[0117] (甲基）丙締酸烷基醋的具體例包括（甲基）丙締酸甲醋、（甲基）丙締酸乙醋、（甲 基)丙締酸正及異丙醋、（甲基)丙締酸正、異及叔下醋、丙締酸正及異戊醋、（甲基)丙締酸正 及異己醋、（甲基)丙締酸環己醋、（甲基)丙締酸正及異庚醋、（甲基)丙締酸正及異辛醋、（甲 基)丙締酸2-乙基己醋、（甲基)丙締酸正及異壬醋、（甲基)丙締酸正及異癸醋、（甲基)丙締 酸異冰片醋、（甲基)丙締酸正及異十二烷基醋、（甲基)丙締酸硬脂基醋等。
[0118] (甲基)丙締酸系樹脂(A)優選含有來自于均聚物的玻璃化轉變溫度Tg低于0°C的 丙締酸烷基醋(al)的構成單元、W及來自于均聚物的Tg為(TCW上的丙締酸烷基醋(a2)的 構成單元。該設置在提高帶有粘合劑層的光學膜1、W及包含該光學膜1的光學層疊體的耐 金屬腐蝕性及耐久性的方面有利。丙締酸烷基醋的均聚物的Tg例如可W采用POLYMER HANDB00K(Wil 巧一Interscience)等的文獻值。
[0119] 丙締酸烷基醋(al)的具體例包括丙締酸乙醋、丙締酸正及異丙醋、丙締酸正及異 下醋、丙締酸正戊醋、丙締酸正及異己醋、丙締酸正庚醋、丙締酸正及異辛醋、丙締酸2-乙 基己醋、丙締酸正及異壬醋、丙締酸正及異癸醋、丙締酸正十二烷基醋等烷基的碳原子數為 2~12左右的丙締酸烷基醋。作為丙締酸烷基醋(al)的其他具體例，還可W舉出向烷基的碳 原子數為2~12左右的丙締酸烷基醋的烷基中導入了取代基的含有取代基的丙締酸烷基 醋。含有取代基的丙締酸烷基醋的取代基是取代烷基的氨原子的基團，其具體例包括苯基、 烷氧基、苯氧基。作為含有取代基的丙締酸烷基醋，具體而言，可W舉出丙締酸2-甲氧基乙 醋、丙締酸乙氧基甲醋、丙締酸苯氧基乙醋、苯氧基二乙二醇丙締酸醋等。雖然丙締酸烷基 醋(al)的烷基也可W具有脂環式結構，然而優選為直鏈狀或支鏈狀的烷基。
[0120] 丙締酸烷基醋（al)既可W僅使用1種，也可W并用巧巾W上。其中，丙締酸烷基醋 (al)優選含有選自丙締酸乙醋、丙締酸正下醋、丙締酸2-乙基己醋中的1種或巧巾W上。從 帶有粘合劑層的光學膜1所具有的粘合劑層20對光學膜10的追隨性、再加工性的觀點考慮， 丙締酸烷基醋(al)優選含有丙締酸正下醋。
[0121] 丙締酸烷基醋(a2)是丙締酸烷基醋(al)W外的丙締酸烷基醋。丙締酸烷基醋(a2) 的具體例包括丙締酸甲醋、丙締酸環己醋、丙締酸異冰片醋、丙締酸硬脂基醋、丙締酸叔下 醋等。
[0122] 丙締酸烷基醋(a2)既可W僅使用巧巾，也可W并用巧巾W上。其中，從耐金屬腐蝕性 及耐久性的觀點考慮，丙締酸烷基醋(a2)優選含有丙締酸甲醋、丙締酸環己醋、丙締酸異冰 片醋等，更優選含有丙締酸甲醋。
[0123] 對于（甲基)丙締酸系樹脂(A)中的來自于丙締酸烷基醋(a2)的構成單元的含量， 從帶有粘合劑層的光學膜1、W及包含該光學膜1的光學層疊體的耐金屬腐蝕性及耐久性的 觀點考慮，在構成（甲基)丙締酸系樹脂(A)的全部構成單元100重量份中，優選為10重量份 W上，更優選為15重量份W上，進一步優選為20重量份W上，特別優選為25重量份W上。另 外從粘合劑層20對光學膜10的追隨性及再加工性的觀點考慮，來自于丙締酸烷基醋(a2)的 構成單元的含量優選為70重量份W下，更優選為60重量份W下，進一步優選為50重量份W 下。
[0124] (甲基)丙締酸系樹脂(A)可W含有來自于丙締酸烷基醋(al)及(a2)W外的其他單 體的構成單元。（甲基)丙締酸系樹脂(A)既可W僅含有1種來自于該其他單體的構成單元， 也可W含有巧巾W上。將其他單體的具體例表示如下。
[0125] 1)具有極性官能團的單體。
[0126] 作為具有極性官能團的單體，可W舉出具有徑基、簇基、取代或未取代氨基、環氧 基等雜環基等取代基的（甲基)丙締酸醋。具體而言，可W舉出（甲基）丙締酸2-徑基乙醋、 (甲基）丙締酸3-徑基丙醋、（甲基）丙締酸4-徑基下醋、（甲基）丙締酸2-(2-?基乙氧 基）乙醋、（甲基）丙締酸2-氯一2-徑基丙醋、（甲基）丙締酸3-氯一2-徑基丙醋、二乙二 醇單（甲基)丙締酸醋等具有徑基的單體;丙締酷基嗎嘟、乙締基己內酷胺、N-乙締基一2- 化咯燒酬、乙締基化晚、（甲基)丙締酸四氨慷醋、己內醋改性丙締酸四氨慷醋、3,4一環氧基 環己基甲基（甲基)丙締酸醋、（甲基)丙締酸縮水甘油醋、2,5 -二氨巧喃等具有雜環基的單 體；（甲基）丙締酸氨基乙醋、（甲基)丙締酸N，N-二甲基氨基乙醋、（甲基）丙締酸二甲基氨 基丙醋等具有取代或未取代氨基的單體；（甲基)丙締酸、（甲基)丙締酸簇基乙醋等具有簇 基的單體。其中，優選具有徑基的單體，從（甲基)丙締酸系樹脂(A)與交聯劑的反應性的方 面考慮，更優選具有徑基的（甲基)丙締酸醋。
[0127] 也可W與具有徑基的（甲基)丙締酸醋配合著包含上述其他的具有極性官能團的 單體，從防止可W層疊于粘合劑層20的外表面的隔膜的剝離力過度增大的觀點考慮，優選 實質上不含有具有氨基的單體。另外，從提高針對IT0的耐腐蝕性的觀點考慮，優選實質上 不含有具有簇基的單體。此處所說的實質上不含有，是指在構成（甲基)丙締酸系樹脂(A)的 全部構成單元100重量份中為0.1重量份W下。
[01%] 2)丙締酷胺系單體
[0129] 例如為N-徑甲基丙締酷胺、N-(2-^基乙基)丙締酷胺、N-(3-^基丙基)丙締 酷胺、N-(4-^基下基)丙締酷胺、N-巧一徑基戊基)丙締酷胺、N-(6-^基己基)丙締酷 胺、N，N-二甲基丙締酷胺、N，N-二乙基丙締酷胺、N-異丙基丙締酷胺、N-(3-二甲基氨 基丙基)丙締酷胺、N-(1，1一二甲基一3 -氧代下基)丙締酷胺、N-〔2-（2 -氧代一1一咪 挫烷基）乙基）丙締酷胺、2-丙締酷基氨基一2-甲基一1-丙烷橫酸、N-(甲氧基甲基）丙 締酷胺、N-(乙氧基甲基)丙締酷胺、N-(丙氧基甲基)丙締酷胺、N-(l-甲基乙氧基甲基） 丙締酷胺、Ν-α-甲基丙氧基甲基)丙締酷胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙締酷胺〔別名： N-(異下氧基甲基)丙締酷胺KN-(下氧基甲基)丙締酷胺、N-(l，l-二甲基乙氧基甲基） 丙締酷胺、N-(2-甲氧基乙基)丙締酷胺、N-(2-乙氧基乙基）丙締酷胺、N-(2-丙氧基 乙基)丙締酷胺、N-〔2-(l-甲基乙氧基）乙基)丙締酷胺、N-〔2-(l-甲基丙氧基）乙基） 丙締酷胺、N-〔2-(2-甲基丙氧基）乙基)丙締酷胺〔別名：N-(2-異下氧基乙基）丙締酷 胺）、N- (2 -下氧基乙基）丙締酷胺、N-〔2 -（ 1，1一二甲基乙氧基）乙基）丙締酷胺等。其 中，優選使用N-(甲氧基甲基)丙締酷胺、N-(乙氧基甲基)丙締酷胺、N-(丙氧基甲基)丙 締酷胺、N-(下氧基甲基)丙締酷胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙締酷胺。
[0130] 3)甲基丙締酸醋（即metaciylate)
[0131] 例如為甲基丙締酸甲醋、甲基丙締酸乙醋、甲基丙締酸丙醋、甲基丙締酸正下醋、 甲基丙締酸正辛醋、甲基丙締酸月桂醋等甲基丙締酸的直鏈狀烷基醋；甲基丙締酸異下醋、 甲基丙締酸2-乙基己醋、甲基丙締酸異辛醋等甲基丙締酸的支鏈狀烷基醋；甲基丙締酸異 冰片醋、甲基丙締酸環己醋、甲基丙締酸雙環戊基醋、甲基丙締酸環十二烷基醋、甲基丙締 酸甲基環己醋、甲基丙締酸Ξ甲基環己醋、甲基丙締酸叔下基環己醋、甲基丙締酸環己基苯 醋等甲基丙締酸的脂環式烷基醋；甲基丙締酸2-甲氧基乙醋、甲基丙締酸乙氧基甲醋等甲 基丙締酸的烷氧基烷基醋；甲基丙締酸節醋等甲基丙締酸芳烷基醋；甲基丙締酸2-徑基乙 醋、甲基丙締酸3-徑基丙醋、甲基丙締酸4-徑基下醋、甲基丙締酸2-(2-?基乙氧基）乙 醋、甲基丙締酸2-氯一2-徑基丙醋、甲基丙締酸3-氯一2-徑基丙醋、二乙二醇單甲基丙 締酸醋等具有徑基的甲基丙締酸的烷基醋；甲基丙締酸氨基乙醋、甲基丙締酸N，N-二甲基 氨基乙醋、甲基丙締酸二甲基氨基丙醋等具有取代或未取代氨基的甲基丙締酸的烷基醋； 甲基丙締酸2-苯氧基乙醋、甲基丙締酸2-(2-苯氧基乙氧基）乙醋、（甲基)丙締酸的環氧 乙燒改性壬基苯酪醋、甲基丙締酸2-(鄰苯基苯氧基）乙醋等具有苯氧基乙基的甲基丙締 酸的醋等。
[0132] 4)甲基丙締酷胺系單體
[0133] 例如為與上述1)中記載的丙締酷胺系單體對應的甲基丙締酷胺系單體。
[0134] 5)苯乙締系單體
[0135] 例如為苯乙締；甲基苯乙締、二甲基苯乙締、Ξ甲基苯乙締、乙基苯乙締、二乙基苯 乙締、Ξ乙基苯乙締、丙基苯乙締、下基苯乙締、己基苯乙締、庚基苯乙締、辛基苯乙締等燒 基苯乙締;氣苯乙締、氯苯乙締、漠苯乙締、二漠苯乙締、艦苯乙締等面代苯乙締；硝基苯乙 締；乙酷基苯乙締；甲氧基苯乙締;二乙締基苯等。
[0136] 6)乙締基系單體
[0137] 例如為乙酸乙締醋、丙酸乙締醋、下酸乙締醋、2-乙基己酸乙締醋、月桂酸乙締醋 等脂肪酸乙締基醋;氯乙締、漠乙締等面代乙締;偏二氯乙締等偏二面乙締；乙締基化晚、乙 締基化咯燒酬、乙締基巧挫等含氮芳香族乙締基單體;下二締、異戊二締、氯下二締等共輛 二締單體;丙締臘、甲基丙締臘等不飽和臘等。
[013引7)在分子內具有多個(甲基)丙締酷基的單體
[0139] 例如為1，4_下二醇二（甲基)丙締酸醋、1，6_己二醇二（甲基)丙締酸醋、1，9_壬 二醇二（甲基)丙締酸醋、乙二醇二（甲基)丙締酸醋、二乙二醇二（甲基)丙締酸醋、四乙二醇 二（甲基)丙締酸醋、Ξ丙二醇二（甲基)丙締酸醋等在分子內具有2個（甲基)丙締酷基的單 體己徑甲基丙烷立（甲基)丙締酸醋等在分子內具有3個（甲基)丙締酷基的單體等。
[0140] 如上所述，（甲基)丙締酸系樹脂(A)從帶有粘合劑層的光學膜1、W及包含該光學 膜1的光學層疊體的耐久性及耐金屬腐蝕性的觀點考慮，優選除了來自于（甲基)丙締酸燒 基醋的構成單元W外，還含有來自于具有極性官能團的單體的構成單元。具有極性官能團 的單體優選為具有極性官能團的（甲基)丙締酸醋系單體，更優選為具有徑基的單體。來自 于具有極性官能團的單體的構成單元的含量在構成（甲基)丙締酸系樹脂(A)的全部構成單 元100重量份中，優選為0.1~10重量份，更優選為0.25~5重量份，進一步優選為0.5~5重 量份。
[0141] 另外，從帶有粘合劑層的光學膜1的再加工性的觀點考慮，（甲基）丙締酸系樹脂 (A)的來自于甲基丙締酸醋(metac巧late)、甲基丙締酷胺系單體等甲基丙締酸系單體的構 成單元的含量越小越好，具體而言，該構成單元的含量在構成（甲基)丙締酸系樹脂(A)的全 部構成單元100重量份中，優選為10重量份W下，更優選為5重量份W下，進一步優選實質上 不含有該構成單元(在0.1重量份W下）。
[0142] (甲基)丙締酸系樹脂(A)優選在凝膠滲透色譜(GPC)的流出曲線上的重均分子量 MwlOOO~250萬的范圍中具有單一的峰，更優選在MwlOOO~250萬的范圍中具有單一的峰、 并且含有來自于丙締酸烷基醋(al)及(a2)的構成單元。W該（甲基)丙締酸系樹脂(A)作為 基礎聚合物的粘合劑層20在提高帶有粘合劑層的光學膜1、W及包含該光學膜1的光學層疊 體的耐久性的方面有利。在上述Mw的范圍中的峰個數為2W上的情況下，有無法獲得充分的 耐久性的趨勢。
[0143] 在求算Mwl 000~250萬的范圍中的GPC流出曲線的峰個數時，依照實施例一項中記 載的GPC測定條件取得流出曲線。在所得的流出曲線的上述范圍中所謂"具有單一的峰"是 指，在MwlOOO~250萬的范圍中僅具有1個極大值。本說明書中，在GPC流出曲線中，將S/^比 為30W上的曲線定義為峰。
[0144] (甲基)丙締酸系樹脂(A)的基于GPC的標準聚苯乙締換算的Mw優選處于50萬~250 萬的范圍，更優選處于60萬~200萬的范圍。如果Mw為50萬W上，則有利于帶有粘合劑層的 光學膜1、W及包含該光學膜1的光學層疊體的耐金屬腐蝕性及耐久性的提高，帶有粘合劑 層的光學膜1的再加工性也有提高的趨勢。另外，如果Mw為250萬W下，則粘合劑層20對于光 學膜10的尺寸變化的追隨性變得良好。W重均分子量Mw與數均分子量Μη的比Mw/Mn表示的 分子量分布通常為2~10。（甲基）丙締酸系樹脂(A)的Mw及Μη是依照實施例一項中記載的 GPC測定條件求出。
[0145] 在使（甲基）丙締酸系樹脂(Α)溶解于乙酸乙醋中而制成濃度20重量％的溶液時， 25°C的粘度優選為20化· sW下，更優選為0.1~7Pa · S。該范圍的粘度有利于帶有粘合劑 層的光學膜1、W及包含該光學膜1的光學層疊體的耐久性的提高、帶有粘合劑層的光學膜1 的再加工性。上述粘度可W利用化ookfield粘度計測定。
[0146] (甲基）丙締酸系樹脂(A)的利用差示掃描熱量計(DSC)測定的玻璃化轉變溫度Tg 優選為一60~一10°C，更優選為一55~一15°C。該范圍的Tg有利于帶有粘合劑層的光學膜 1、W及包含該光學膜1的光學層疊體的耐金屬腐蝕性及耐久性的提高。
[0147] 粘合劑組合物也可W含有巧巾W上的屬于（甲基）丙締酸系樹脂(A)的（甲基)丙締 酸系樹脂。另外，粘合劑組合物也可W含有與（甲基)丙締酸系樹脂(A)不同的其他的（甲基） 丙締酸系樹脂。其中，從帶有粘合劑層的光學膜1、W及包含該光學膜1的光學層疊體的耐金 屬腐蝕性及耐久性的觀點考慮，（甲基)丙締酸系樹脂(A)的含量在全部的（甲基)丙締酸系 樹脂的合計中，優選為70重量％ W上，更優選為80重量％ W上，進一步優選為90重量％ W 上，粘合劑組合物特別優選作為基礎聚合物僅含有（甲基)丙締酸系樹脂(A)。
[0148] (甲基)丙締酸系樹脂(A)或可W根據需要并用的其他的（甲基)丙締酸系樹脂例如 可W利用溶液聚合法、整體聚合法、懸浮聚合法、乳液聚合法等公知的方法制造。在（甲基） 丙締酸系樹脂的制造中通常使用聚合引發劑。相對于（甲基)丙締酸系樹脂的制造中所用的 全部單體的合計100重量份，使用0.001~5重量份左右的聚合引發劑。另外，（甲基)丙締酸 系樹脂也可W利用例如用紫外線等活性能量射線使聚合進行的方法來制造。
[0149] 作為聚合引發劑，使用熱聚合引發劑、光聚合引發劑等。作為光聚合引發劑，例如 可W舉出4-(2-?基乙氧基)苯基(2-徑基一2-丙基)酬等。作為熱聚合引發劑，例如可 W舉出2,2'一偶氮二異下臘、2,2'一偶氮二(2-甲基下臘）、1，1'一偶氮二(環己燒一1-甲 臘）、2,2'一偶氮二(2,4一二甲基戊臘）、2,2'一偶氮二(2,4一二甲基一4-甲氧基戊臘）、二 甲基一2,2'一偶氮雙(2-甲基丙酸醋）、2,2'一偶氮二(2-?基甲基丙臘)之類的偶氮系化 合物;過氧化月桂酷、叔下基過氧化氨、過氧化苯甲酯、過氧化苯甲酸叔下醋、氨過氧化枯 締、過氧化二碳酸二異丙醋、過氧化二碳酸二丙醋、過氧化新癸酸叔下醋、過氧化新戊酸叔 下醋、過氧化(3,5,5-Ξ甲基己酷)之類的有機過氧化物;過硫酸鐘、過硫酸錠、過氧化氨之 類的無機過氧化物等。另外，也可W將并用了過氧化物和還原劑的氧化還原系引發劑等作 為聚合引發劑使用。
[0150] 作為（甲基）丙締酸系樹脂的制造方法，在上面所示的方法中優選溶液聚合法。溶 液聚合法的一例是將所用的單體及有機溶劑混合，在氮氣氣氛下，添加熱聚合引發劑，在40 ~90°C左右、優選在50~80°C左右攬拌3~15小時左右。為了控制反應，也可W在聚合中連 續地或間歇地添加單體或熱聚合引發劑、或W溶解于有機溶劑中的狀態添加單體或熱聚合 引發劑。作為有機溶劑，例如可W使用甲苯、二甲苯之類的芳香族控類；乙酸乙醋、乙酸下醋 等醋類;丙醇、異丙醇等脂肪族醇類;丙酬、甲乙酬、甲基異下基酬等酬類等。
[0151] 〔2-2)硅烷化合物(B)
[0152] 粘合劑組合物含有硅烷化合物(B)。硅烷化合物(B)為W下述式（I)表示的硅烷化 合物：
[0153] [化 9]
[0154]
[01W]式中，A表示碳原子數1~20的燒二基或碳原子數3~20的2價的脂環式控基，構成 該燒二基及該脂環式控基的一C出一也可W由一0-或一C(=0)-置換，Ri表示碳原子數1~ 5的烷基，護、護、於、護及護各自獨立地表示碳原子數1~5的烷基或碳原子數1~5的烷氧基。
[0156] 根據含有W上述式(I)表示的硅烷化合物(B)的粘合劑層20,與使用其他的硅烷化 合物的情況相比，可W提高帶有粘合劑層的光學膜1、W及包含該光學膜1的光學層疊體的 耐金屬腐蝕性及耐久性，另外，由此可W提高粘合劑層20與金屬層30、玻璃基板等的密合 性。也可W使用巧巾W上的硅烷化合物(B)。
[0157] 能夠構成上述式（I)中的A的碳原子數1~20的燒二基的具體例包括亞甲基、1，2 - 乙燒二基、1，3 -丙烷二基、1，4一下燒二基、1，5 -戊燒二基、1，6 -己燒二基、1，7 -庚燒二 基、1，8_辛燒二基、1，9_壬燒二基、1，10 -癸燒二基、1，12 -十二燒二基、1，14 -十四燒二 基、1，16-十六燒二基、1，18-十八燒二基、1，20-二十燒二基。碳原子數3~20的2價的脂 環式控基的具體例包括1，3 -氯代戊燒二基、1，4一環己燒二基。構成該燒二基及該脂環式 控基的一CH2-由_0_或_"=0)_取代后的基團的具體例包括_CH2CH2_0_ C出C出一、一C出C出一0 - C出C出一0 - C出C出一、一C出C出一0 - C出C出一0 - C出C出一0 - CH2CH2 -、一 CH2CH2 - C( = 0) - 0 - CH2CH2 -、一CH2CH2 - 0 - CH2CH2 - C( = 0) - 0 - C出C出_、一C出C出C出C出一0-C出C出_、一C出C出C出C出一0-C出C出C出C出_。
[015引作為能夠構成上述式（I)中的1?1、護、護、於、護及1?6的碳原子數1~5的烷基，可^舉 出甲基、乙基、正及異丙基、正、異及叔下基、正、異及叔戊基等各種戊基，作為能夠構成上述 式（I)中的護、護、於、護及削勺碳原子數1~5的烷氧基，可^舉出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、 異丙氧基、正下氧基、異下氧基、叔下氧基、正、異及叔戊氧基等各種戊氧基。該烷基及燒氧 基的碳原子數各自獨立，優選為1~4,更優選為1~3,進一步優選為1或2。
[0159] 將W上述式(I)表示的硅烷化合物的具體例表示如下。
[0160] 雙(Ξ甲氧基甲娃烷基）甲燒、
[0161] 雙(Ξ乙氧基甲娃烷基）甲燒、
[0162] 雙(Ξ丙氧基甲娃烷基）甲燒、
[0163] 雙(Ξ下氧基甲娃烷基）甲燒、
[0164] 雙(二戊氧基甲娃烷基）甲燒、
[01化]雙(二甲氧基甲基甲娃烷基）甲燒、
[0166] 雙(二甲氧基乙基甲娃烷基）甲燒、
[0167] 雙(二甲氧基丙基甲娃烷基）甲燒、
[016引雙(二乙氧基甲基甲娃烷基）甲燒、
[0169] 雙(二丙氧基甲基甲娃烷基）甲燒、
[0170] 雙（甲氧基二甲基甲娃烷基）甲燒、
[0171] 1 一甲基甲娃烷基）一1-(甲氧基二甲基甲娃烷基）甲燒、
[017^ 1 -甲基甲娃烷基）一1 一（二甲氧基甲基甲娃烷基）甲燒、
[0173] 1-(立甲氧基甲娃烷基）一1-(立乙氧基甲娃烷基）甲燒、
[0174] 雙(二甲氧基乙氧基甲娃烷基）甲燒、
[0175] 1，2_雙(Ξ甲氧基甲娃烷基）乙燒、
[0176] 1，2_雙(Ξ乙氧基甲娃烷基）乙燒、
[0177] 1，2_雙(Ξ丙氧基甲娃烷基）乙燒、
[017引 1，2_雙(Ξ下氧基甲娃烷基）乙燒、
[01巧]1，2_雙(Ξ戊氧基甲娃烷基）乙燒、
[0180] 1，2 -雙(二甲氧基甲基甲娃烷基）乙燒、
[0181] 1，2 -雙(二甲氧基乙基甲娃烷基）乙燒、
[0182] 1，2 -雙(二甲氧基丙基甲娃烷基）乙燒、
[0183] 1，2 -雙(二甲氧基乙基甲娃烷基）乙燒、
[0184] 1，2 -雙(二甲氧基丙基甲娃烷基）乙燒、
[01化]1，2-雙(二乙氧基甲基甲娃烷基）乙燒、
[01化]1，2-雙(二丙氧基甲基甲娃烷基）乙燒、
[0187] 1，2 -雙（甲氧基二甲基甲娃烷基）乙燒、
[018引 l-(s甲基甲娃烷基）一2-(甲氧基二甲基甲娃烷基）乙燒、
[0189] 1 一甲基甲娃烷基）一2 -（二甲氧基甲基甲娃烷基）乙燒、
[0190] 1-(Ξ甲氧基甲娃烷基）一2-(Ξ乙氧基甲娃烷基）乙燒、
[0191] 1，2 -雙(二甲氧基乙氧基甲娃烷基）乙燒、
[0192] 1，3 -雙(Ξ甲氧基甲娃烷基)丙烷、
[0193] 1，3_雙(Ξ乙氧基甲娃烷基)丙烷、
[0194] 1，3_雙(Ξ丙氧基甲娃烷基)丙烷、
[0195] 1，4一雙(Ξ甲氧基甲娃烷基)下燒、
[0196] 1，4_雙(Ξ乙氧基甲娃烷基)下燒、
[0197] 1，4一雙(Ξ丙氧基甲娃烷基)下燒、
[019引 1，4一雙(Ξ下氧基甲娃烷基)下燒、
[0199] 1，4一雙(Ξ戊氧基甲娃烷基)下燒、
[0200] 1，4一雙(二甲氧基甲基甲娃烷基)下燒、
[0201] 1，4一雙(二甲氧基乙基甲娃烷基)下燒、
[0202] 1，4一雙(二甲氧基丙基甲娃烷基)下燒、
[0203] 1，4_雙(二乙氧基甲基甲娃烷基)下燒、
[0204] 1，4一雙(二丙氧基甲基甲娃烷基)下燒、
[0205] 1，4一雙（甲氧基二甲基甲娃烷基)下燒、
[0206] 1 一（Ξ甲基甲娃烷基）一4-(甲氧基二甲基甲娃烷基)下燒、
[0207] 1 一（Ξ甲基甲娃烷基）一4 一（二甲氧基甲基甲娃烷基)下燒、 [020引 1 - (Ξ甲氧基甲娃烷基）一4-(Ξ乙氧基甲娃烷基)下燒、
[0209] 1，4_雙(二甲氧基乙氧基甲娃烷基)下燒、
[0210] 1，5-雙(立甲氧基甲娃烷基)戊燒、
[0211] 1，5-雙(Ξ乙氧基甲娃烷基)戊燒、
[0212] 1，5-雙(立丙氧基甲娃烷基)戊燒、
[0213] 1，6-雙(Ξ甲氧基甲娃烷基）己燒、
[0214] 1，6-雙(Ξ乙氧基甲娃烷基）己燒、
[0215] 1，6_雙(Ξ丙氧基甲娃烷基)己燒、
[0216] 1，6-雙（ΞΤ氧基甲娃烷基）己燒、
[0217] 1，6_雙(Ξ戊氧基甲娃烷基)己燒、
[0別引 1，6-雙（二甲氧基甲基甲娃烷基）己燒、
[0219] 1，6-雙（二甲氧基乙基甲娃烷基）己燒、
[0220] 1，6 -雙(二甲氧基丙基甲娃烷基)己燒、
[0221] 1，6 -雙(二甲氧基乙基甲娃烷基）己燒、
[0222] 1，6_雙(二甲氧基丙基甲娃烷基)己燒、
[0223] 1，6 -雙(二乙氧基甲基甲娃烷基）己燒、
[0224] 1，6 -雙(二丙氧基甲基甲娃烷基)己燒、
[0225] 1，6_雙（甲氧基二甲基甲娃烷基)己燒、
[0226] 1 一甲基甲娃烷基）一6-(甲氧基二甲基甲娃烷基)己燒、
[0227] 1 一甲基甲娃烷基）一6 -（二甲氧基甲基甲娃烷基)己燒、 [022引 1_(Ξ甲氧基甲娃烷基）_6_(Ξ乙氧基甲娃烷基)己燒、
[0229] 1，6 -雙(二甲氧基乙氧基甲娃烷基）己燒、
[0230] 1，8 -雙(Ξ甲氧基甲娃烷基)辛燒、
[0231] 1，8_雙(Ξ乙氧基甲娃烷基)辛燒、
[0232] 1，8 -雙(Ξ丙氧基甲娃烷基)辛燒、
[0233] 1，8 -雙(Ξ下氧基甲娃烷基)辛燒、
[0234] 1，8 -雙(Ξ戊氧基甲娃烷基)辛燒、
[0235] 1，8-雙(二甲氧基甲基甲娃烷基)辛燒、
[0236] 1，8 -雙(二甲氧基乙基甲娃烷基)辛燒、
[0237] 1，8 -雙(二甲氧基丙基甲娃烷基)辛燒、
[023引 1，8 -雙(二甲氧基乙基甲娃烷基)辛燒、
[0239] 1，8 -雙(二甲氧基丙基甲娃烷基)辛燒、
[0240] 1，8 -雙(二乙氧基甲基甲娃烷基）辛燒、
[0241] 1，8 -雙(二丙氧基甲基甲娃烷基)辛燒、
[0242] 1，8 -雙（甲氧基二甲基甲娃烷基)辛燒、
[0243] 1 一甲基甲娃烷基）一8-(甲氧基二甲基甲娃烷基)辛燒、
[0244] 1-(立甲基甲娃烷基）一8-(二甲氧基甲基甲娃烷基)辛燒、
[0245] 1-(Ξ甲氧基甲娃烷基）一8-(Ξ乙氧基甲娃烷基)辛燒、
[0246] 1，8 -雙(二甲氧基乙氧基甲娃烷基)辛燒、
[0247] 1，10-雙(Ξ甲氧基甲娃烷基)癸燒、
[024引 1，12 -雙(Ξ甲氧基甲娃烷基)十二燒、
[0249] 1，14一雙(Ξ甲氧基甲娃烷基)十四燒、
[0巧0] 1，16-雙(Ξ甲氧基甲娃烷基)十六燒、
[0251] 1，18-雙(Ξ甲氧基甲娃烷基)十八燒、
[0巧2] 1，20_雙(Ξ甲氧基甲娃烷基)二十燒等。
[0253] 其中，從帶有粘合劑層的光學膜1、W及包含該光學膜1的光學層疊體的耐金屬腐 蝕性、粘合劑層20與金屬層30或玻璃基板等的密合性的觀點考慮，硅烷化合物(B)優選為W 下述式（II)表示的硅烷化合物：
[0254] [化 10]
[0 巧5]
[0巧6]式中，1?1、護、於、護及護分別表示與上述相同的含義，護表示碳原子數1~5的烷基，111 表示1~20的整數。能夠構成R7的碳原子數1~5的烷基的具體例與上述相同。從與上述相同 的觀點考慮，硅烷化合物(B)更優選為Wm為4~20的整數的上述式(II)表示的硅烷化合物， 進一步優選為Wm為6~8的整數的上述式（II)表示的硅烷化合物，特別優選為1，6 -雙(Ξ 甲氧基甲娃烷基）己燒、1，6 -雙(Ξ乙氧基甲娃烷基）己燒、1，8 -雙(Ξ甲氧基甲娃烷基）辛 燒、1,8-雙(立乙氧基甲娃烷基）辛燒等、隊η為6~8的整數、且01?1、1?2、護、於、護、護及0護各 自獨立地為碳原子數1~3(例如碳原子數1或2)的上述式（II)表示的硅烷化合物。合適的m 的例子為6或8。
[0257] 粘合劑組合物可W與W上述式（I)表示的硅烷化合物(B)-起還含有1種或巧中W 上的硅烷化合物(B)W外的其他硅烷化合物。作為其他硅烷化合物，例如可W舉出乙締基Ξ 甲氧基硅烷、乙締基Ξ乙氧基硅烷、乙締基Ξ(2-甲氧基乙氧基)硅烷、3-環氧丙氧基丙基 Ξ甲氧基硅烷、3 -環氧丙氧基丙基Ξ乙氧基硅烷、3 -環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、 3-環氧丙氧基丙基乙氧基二甲基硅烷、2-(3、4一環氧基環己基）乙基Ξ甲氧基硅烷、3- 氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基Ξ甲氧基硅烷、3-甲基丙締酷氧基丙基Ξ甲氧基娃 燒、3 -琉基丙基二甲氧基硅烷等。
[0258] 其他硅烷化合物可W包括娃酬低聚物型的化合物。如果將娃酬低聚物的具體例W 單體之間的組合的形式來表述，則如下所示。
[0259] 3-琉基丙基Ξ甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0260] 3 -琉基丙基Ξ甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0%1] 3-琉基丙基Ξ乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0262] 3-琉基丙基Ξ乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物等含有琉基丙基的低聚物；
[0%3]琉基甲基Ξ甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0264] 琉基甲基Ξ甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0265] 琉基甲基Ξ乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0266] 琉基甲基Ξ乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物等含有琉基甲基的低聚物；
[0267] 3-環氧丙氧基丙基Ξ甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷共聚物、
[0268] 3-環氧丙氧基丙基Ξ甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷共聚物、
[0269] 3-環氧丙氧基丙基Ξ乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷共聚物、
[0270] 3-環氧丙氧基丙基Ξ乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷共聚物、
[0271] 3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷共聚物、
[0272] 3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷共聚物、
[0273] 3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷共聚物、
[0274] 3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷共聚物等含有3-環氧丙 氧基丙基的共聚物；
[0275] 3-甲基丙締酷氧基丙基Ξ甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0276] 3-甲基丙締酷氧基丙基Ξ甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0277] 3-甲基丙締酷氧基丙基Ξ乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0278] 3-甲基丙締酷氧基丙基Ξ乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0279] 3-甲基丙締酷氧基丙基甲基二甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0280] 3-甲基丙締酷氧基丙基甲基二甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0%1 ] 3-甲基丙締酷氧基丙基甲基二乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0282] 3-甲基丙締酷氧基丙基甲基二乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物等含有甲基丙 締酷氧基丙基的低聚物；
[0283] 3-丙締酷氧基丙基Ξ甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0284] 3-丙締酷氧基丙基Ξ甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0285] 3-丙締酷氧基丙基Ξ乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[02化]3-丙締酷氧基丙基Ξ乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0287] 3-丙締酷氧基丙基甲基二甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0288] 3-丙締酷氧基丙基甲基二甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0289] 3-丙締酷氧基丙基甲基二乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0290] 3-丙締酷氧基丙基甲基二乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物等含有丙締酷氧基 丙基的低聚物；
[0291] 乙締基Ξ甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0292] 乙締基Ξ甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0293] 乙締基Ξ乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0294] 乙締基Ξ乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[02Μ]乙締基甲基二甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0296] 乙締基甲基二甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0297] 乙締基甲基二乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0298] 乙締基甲基二乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物等含有乙締基的低聚物；
[0299] 3-氨基丙基Ξ甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷共聚物、
[0300] 3-氨基丙基Ξ甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷共聚物、
[0301] 3-氨基丙基Ξ乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷共聚物、
[0302] 3-氨基丙基Ξ乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷共聚物、
[0303] 3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷共聚物、
[0304] 3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷共聚物、
[03化]3-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷共聚物、
[0306] 3-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷共聚物等含有氨基的共聚物等。
[0307] 其中，從帶有粘合劑層的光學膜1、W及包含該光學膜1的光學層疊體的耐金屬腐 蝕性、粘合劑層20與金屬層30或玻璃基板等的密合性的觀點考慮，W上述式(I)表示的硅烷 化合物(B)的含量在全部的硅烷化合物的合計中，優選為70重量％^上，更優選為80重量％ W上，進一步優選為90重量％ ^上，特別優選粘合劑組合物作為硅烷化合物僅含有硅烷化 合物(B)。
[0308] 粘合劑組合物中的硅烷化合物(B)的含量相對于（甲基)丙締酸系樹脂(A)IOO重量 份，通常為0.01~10重量份，優選為0.03~5重量份，更優選為0.05~2重量份，進一步優選 為0.1~1重量份。如果硅烷化合物(B)的含量為0.01重量份W上，則容易獲得帶有粘合劑層 的光學膜1、W及包含該光學膜1的光學層疊體的耐金屬腐蝕性提高效果、W及粘合劑層20 與金屬層30或玻璃基板等的密合性提高效果。另外如果含量為10重量份W下，則可W抑制 硅烷化合物(B)從粘合劑層20中的滲出。
[0309] 〔2-3)離子性化合物(C)
[0310] 粘合劑組合物含有離子性化合物(C)。離子性化合物(C)是由陽離子和陰離子構成 的化合物，其陰離子為選自下述組中的陰離子： 筆][化11]
[0312]
[0313] 陽離子可W是有機陽離子、無機陽離子的任意一種。通過使用離子性化合物(C)， 不僅可W對粘合劑層20賦予良好的防靜電干擾性能，還可W賦予優異的耐金屬腐蝕性和光 學耐久性。粘合劑組合物可W含有1種或巧巾W上的離子性化合物(C)。在粘合劑組合物含有 2種W上的離子性化合物(C)的情況下，運些陰離子只要是選自上述組中，則既可W相同，也 可w不同。
[0314] 有機陽離子的具體例包括化晚鐵陽離子、咪挫鐵陽離子、贓晚鐵陽離子、化咯燒鐵 陽離子、四氨化晚鐵陽離子、二氨化晚鐵陽離子、四氨喀晚鐵陽離子、二氨喀晚鐵陽離子、化 挫鐵陽離子、化挫嘟鐵陽離子、錠陽離子、梳陽離子、鱗陽離子等。有機陽離子也可W具有取 代基。無機陽離子的具體例包括裡陽離子an、鋼陽離子〔Na+K鐘陽離子化?、飽陽離子 〔Cs+)等堿金屬離子;被陽離子〔Be2+K儀陽離子〔Mg2+K巧陽離子〔Ca2+)等堿±類金屬離子 等。
[0315] 其中從與（甲基）丙締酸系樹脂(A)的相容性的觀點考慮，陽離子優選為有機陽離 子，從防靜電干擾性能的觀點考慮，更優選為化晚鐵陽離子、咪挫鐵陽離子、贓晚鐵陽離子、 化咯燒鐵陽離子、四氨化晚鐵陽離子、二氨化晚鐵陽離子、四氨喀晚鐵陽離子、二氨喀晚鐵 陽離子、化挫鐵陽離子、化挫嘟鐵陽離子、錠陽離子等含有氮原子的有機陽離子(也可W具 有取代基。），進一步優選為具有包含不飽和鍵的含有氮原子的雜環結構的陽離子。
[0316] 屬于具有包含不飽和鍵的含有氮原子的雜環結構的陽離子的1種、可W具有取代 基的化晚鐵陽離子的合適的具體例是W下述式（III)表示的化晚鐵陽離子：
[0317] [化 12]
[031 引
[0319] 上述式（III)中，R8~R"各自獨立地表示氨原子、可W具有取代基的烷基、可W具 有取代基的締基、可W具有取代基的烘基、可W具有取代基的芳基、可W具有取代基的雜環 基、徑基、酸基、簇基、幾基、或面素原子，也可W在相鄰的取代基之間形成環。
[0320] 作為可W具有取代基的烷基，優選碳原子數1~30的烷基，其具體例例如包括甲 基、乙基、丙基、下基、己基、辛基、癸基、十二烷基、十八烷基、異丙基、異下基、仲下基、叔下 基、1-乙基戊基、環戊基、環己基、Ξ氣甲基、2-乙基己基、苯甲酯甲基、1-糞酷甲基、2- 糞酷甲基、4-甲基硫基苯甲酯甲基、4-苯基硫基苯甲酯甲基、4-二甲基氨基苯甲酯甲基、 4-氯基苯甲酯甲基、4-甲基苯甲酯甲基、2-甲基苯甲酯甲基、3-氣苯甲酯甲基、3-Ξ氣 甲基苯甲酯甲基、3-硝基苯甲酯甲基。
[0321] 作為可W具有取代基的締基，優選碳原子數2~10的締基，其具體例例如包括乙締 基、締丙基、苯乙締基。作為可W具有取代基的烘基，優選碳原子數2~10的烘基，其具體例 例如包括乙烘基、丙烘基、烘丙基。
[0322] 作為可W具有取代基的芳基，優選碳原子數6~30的芳基，其具體例例如包括苯 基、聯苯基、1-糞基、2-糞基、9-蔥基、9-菲基、1-巧基、5-并四苯基、1-巧基、2-奧 基、9-巧基、Ξ聯苯基、四聯苯基、鄰、間、W及對甲苯基、二甲苯基、鄰、間、W及對異丙苯 基、藥基、并環戊二締基、聯糞基、Ξ聯糞基、四聯糞基、并環庚Ξ締基化ep化lenyl)、伸聯苯 基、二環戊二締并苯基（indacenyl)、巧蔥基、起基、乙締合蔥基（ア^rアシHJレ二瓜基）、藍 基(phenalenyl)、巧基、蔥基、聯蔥基、Ξ聯蔥基、四聯蔥基、蔥哇嘟基、菲基、苯并菲基、巧 基、疆;基、并四苯基、屯曜締基(Plei曰denyl)、畦基、巧基、五苯基、稠五苯基、聯四苯基、六苯 基、稠六苯基、茹基（瓜t''ir二瓜基）、暈苯基（3 口幸二瓜基）、聯伸s糞基 (trina曲th^en^)、屯苯基、稠屯苯基、巧蔥基（t°弓シbレ二瓜基）、間二蔥嵌四并苯基(義 基）（ovalenyl)。
[0323] 作為可W具有取代基的雜環基，優選包含氮原子、氧原子、硫原子、憐原子的芳香 族或脂肪族的雜環，其具體例例如包括嚷吩基、苯并[b]嚷吩基、糞并[2,3-b]嚷吩基、嚷蔥 基、巧喃基、化喃基、異苯并巧喃基、色締基、咕噸基、吩嗯嗦基、2H-化咯基、化咯基、咪挫 基、化挫基、化晚基、化嗦基、喀晚基、化嗦基、嗎I嗦基、異嗎I噪基、3H-嗎I噪基、嗎I噪基、1H- 嗎I挫基、嚷嶺基、4H-哇嗦基、異哇嘟基、哇嘟基、獻嗦基、糞晚基、哇嗯嘟基、哇挫嘟基、增嘟 基、噪晚基、4址一巧挫基、巧挫基、β-巧嘟基、菲晚基、日丫晚基、巧晚基、菲咯嘟基、吩嗦基、 吩化嗦基(phenarsaziny 1)、異嚷挫基、吩嚷嗦基、異嗯挫基、巧叮基、吩嗯嗦基、異色滿基、 色滿基、化咯晚基、化咯嘟基、咪挫烷基、咪挫嘟基、化挫烷基、化挫嘟基、贓晚基、贓嗦基、嗎I 噪P林基、異嗎I噪P林基、哇巧環基、嗎P林基、thioxant虹y 1。
[0324] 能夠取代上述可W具有取代基的烷基、可W具有取代基的締基、可W具有取代基 的烘基、可W具有取代基的芳基、W及可W具有取代基的雜環基的氨原子的取代基的具體 例例如包括氣原子、氯原子、漠原子、艦原子等面素原子；甲氧基、乙氧基、叔下氧基等燒氧 基;苯氧基、對甲苯氧基等芳氧基、甲氧基幾基、下氧基幾基、苯氧基幾基、乙締基氧基幾基、 芳氧基幾基等烷氧基幾基；乙酷氧基、丙酷氧基、苯甲酯氧基等酷氧基；乙酷基、苯甲酯基、 異下酷基、丙締酷基、甲基丙締酷基、甲草酷基等酷基；甲硫基、叔下硫基等燒硫基;苯硫基、 對甲苯硫基等芳硫基；甲基氨基、環己基氨基等烷基氨基；二甲基氨基、二乙基氨基、嗎嘟 基、贓晚基等二烷基氨基;苯基氨基、對甲苯基氨基等芳基氨基；甲基、乙基、叔下基、十二燒 基等烷基;苯基、對甲苯基、二甲苯基、異丙苯基、糞基、蔥基、菲基等芳基;徑基、簇基、橫酷 胺基、甲酯基、琉基、橫基、甲橫酷基、對甲苯橫酷基、氨基、硝基、亞硝基、氯基、Ξ氣甲基、Ξ 氯甲基、二甲基甲娃烷基、憐酸亞基(phosphiniCO)、麟酸基、烷基橫酷基、芳基橫酷基、二燒 基錠基、二甲基梳基、Ξ苯基苯甲酯甲基鱗基。
[0325] W上述式（III)表示的化晚鐵陽離子優選為N-取代化晚鐵陽離子。該情況下，r8 優選為可W具有取代基的烷基，更優選為碳原子數1~20的直鏈狀、支鏈狀或環狀的烷基。 碳原子數優選為1~16。護~RU各自獨立，優選為氨原子、碳原子數1~20的直鏈狀、支鏈或 環狀的烷基、徑基、或面素原子，更優選為氨原子或碳原子數1~20的直鏈狀的烷基。
[0326] 如果要從防靜電干擾性能、耐金屬腐蝕性及光學耐久性的觀點考慮舉出離子性化 合物(C)的合適例，則如下所示。
[0327] 1)如下的離子性化合物，其陽離子為W下述式(III)表示的化晚鐵陽離子：
[032引[化 13]
[0329]
[0330] (式中，優選護為碳原子數1~16的直鏈狀、支鏈狀或環狀的烷基，R9~RU各自獨立 地為氨原子或碳原子數1~20的直鏈狀的烷基），陰離子為選自上述組中的任意一種陰離 子。
[0331] 2)如下的離子性化合物，其陽離子為裡陽離子〔Li + K鋼陽離子〔Na+K鐘陽離子化 ?等無機陽離子，陰離子為選自上述組中的任意一種陰離子。
[0332] 粘合劑組合物中的離子性化合物(C)的含量相對于（甲基)丙締酸系樹脂(A)IOO重 量份，優選為0.1~10重量份，更優選為0.2~8重量份，進一步優選為0.3~5重量份，特別優 選為0.5~3重量份。如果離子性化合物(C)的含量為0.1重量份W上，則有利于防靜電干擾 性能的提高，如果為10重量份W下，則有利于帶有粘合劑層的光學膜1、W及包含該光學膜1 的光學層疊體的耐金屬腐蝕性及耐久性。
[0333] 粘合劑組合物可W與上述具有規定的陰離子的離子性化合物(C) 一起，還并用其 W外的防靜電干擾劑，從帶有粘合劑層的光學膜1、W及包含該光學膜1的光學層疊體的耐 金屬腐蝕性等觀點考慮，粘合劑組合物優選作為防靜電干擾劑僅含有上述具有規定的陰離 子的離子性化合物(C)。
[0334] 〔2-4)異氯酸醋系交聯劑(D)
[0335] 粘合劑組合物優選含有異氯酸醋系交聯劑(D)。通過將異氯酸醋系交聯劑(D)作為 交聯劑使用，就可W提高帶有粘合劑層的光學膜1、W及包含該光學膜1的光學層疊體的耐 金屬腐蝕性及耐久性。異氯酸醋系交聯劑(D)既可W僅單獨使用1種，也可W并用巧巾W上。
[0336] 異氯酸醋系交聯劑(D)是在分子內具有至少2個異氯酸醋基（一NC0)的化合物，具 體而言，可W舉出甲苯二異氯酸醋、六亞甲基二異氯酸醋、異佛爾酬二異氯酸醋、二甲苯二 異氯酸醋、氨化二甲苯二異氯酸醋、二苯基甲燒二異氯酸醋、氨化二苯基甲燒二異氯酸醋、 糞二異氯酸醋、Ξ苯基甲燒Ξ異氯酸醋等。另外異氯酸醋系交聯劑(D)也可W是運些異氯酸 醋化合物的多元醇化合物加合物（例如丙Ξ醇或Ξ徑甲基丙烷的加合物）、異氯脈酸醋化 物、縮二脈型化合物、W及與聚酸多元醇或聚醋多元醇、丙締酸類多元醇、聚下二締多元醇、 聚異戊二締多元醇等發生加成反應而得的氨基甲酸醋預聚物型的異氯酸醋化合物等衍生 物。在上述當中，特別優選甲苯二異氯酸醋、六亞甲基二異氯酸醋、二甲苯二異氯酸醋或運 些異氯酸醋化合物的多元醇化合物加合物，從帶有粘合劑層的光學膜1、W及包含該光學膜 1的光學層疊體的耐久性的觀點考慮，更優選二甲苯二異氯酸醋或其多元醇化合物加合物。
[0337] 異氯酸醋系交聯劑(D)的含量相對于（甲基)丙締酸系樹脂(A)IOO重量份，優選為 0.08~2.5重量份，更優選為0.1~2重量份(例如1重量份W下）。如果異氯酸醋系交聯劑(D) 的含量處于該范圍中，則在兼顧帶有粘合劑層的光學膜1、W及包含該光學膜1的光學層疊 體的耐金屬腐蝕性及耐久性的方面有利。
[0338] 粘合劑組合物可W與異氯酸醋系交聯劑(D)-起，并用其W外的交聯劑，例如環氧 化合物、氮丙晚化合物、金屬馨合物化合物、過氧化物等，然而從帶有粘合劑層的光學膜1、 W及包含該光學膜1的光學層疊體的耐金屬腐蝕性及耐久性的觀點考慮，粘合劑組合物優 選作為交聯劑僅含有異氯酸醋系交聯劑(D)，特別優選實質上不含有過氧化物。此處所說的 實質上不含有，是指相對于（甲基)丙締酸系樹脂(A)IOO重量份的含量為0.01重量份W下。
[0339] 〔2-引其他成分
[0340] 粘合劑組合物可W含有1種或巧巾W上的溶劑、交聯催化劑、紫外線吸收劑、耐候穩 定劑、增粘劑、增塑劑、軟化劑、染料、顏料、無機填料、光散射性微粒等添加劑。除此W外，向 粘合劑組合物中配合紫外線固化性化合物，在形成粘合劑層后照射紫外線而使之固化，形 成更硬的粘合劑層也是有用的做法。作為交聯催化劑，例如可w舉出六亞甲基二胺、乙二 胺、聚亞乙基亞胺、六亞甲基四胺、二亞乙基Ξ胺、Ξ亞乙基四胺、異佛爾酬二胺、Ξ亞甲基 二胺、聚氨基樹脂及Ξ聚氯胺樹脂等胺系化合物。
[0341] 粘合劑組合物可W含有能夠提高帶有粘合劑層的光學膜1、W及包含該光學膜1的 光學層疊體的耐金屬腐蝕性的防誘劑。作為防誘劑，可W舉出苯并Ξ挫系化合物、其他的Ξ 挫系化合物等Ξ挫系化合物;苯并嚷挫系化合物、其他的嚷挫系化合物等嚷挫系化合物;節 基咪挫系化合物、其他的咪挫系化合物等咪挫系化合物;咪挫嘟系化合物；哇嘟系化合物； 化晚系化合物;喀晚系化合物；嗎I噪系化合物;胺系化合物;脈系化合物;苯甲酸鋼;芐基琉 基系化合物;二仲下基硫酸;及二苯基亞諷。
[0342] 然而，根據本發明，即使不含有防誘劑也可W獲得充分的耐金屬腐蝕性，因此防誘 劑的含量越小越好。特別是，粘合劑組合物優選實質上不含有作為防誘劑的Ξ挫系化合物， 更優選實質上不含有選自上述的化合物組中的防誘劑。此處所說的實質上不含有，是指相 對于（甲基)丙締酸系樹脂(A)IOO重量份的含量為0.01重量份W下。
[0343] 〔3)帶有粘合劑層的光學膜的構成及制造方法
[0344] 帶有粘合劑層的光學膜1包含光學膜10和層疊于其至少一個面的粘合劑層20(圖 1)。也可W在光學膜10的兩面層疊粘合劑層20。通常，粘合劑層20被直接層疊于光學膜10的 表面。在將粘合劑層20設于光學膜10的表面時，優選對光學膜10的貼合面和/或粘合劑層20 的貼合面實施底漆層的形成、或表面活性化處理、例如等離子體處理、電暈處理等，更優選 實施電暈處理。
[0345] 在光學膜10為如圖2所示的單面保護偏振板的情況下，粘合劑層20通常優選被直 接層疊于偏振片面，即偏振片2的與第一樹脂膜3相反一側的面。在光學膜10為如圖3所示的 雙面保護偏振板的情況下，粘合劑層20既可W層疊于第一、第二樹脂膜3、4的任意一方的外 表面，也可W層疊于兩方的外表面。
[0346] 雖然也可W在光學膜10與粘合劑層20之間另外設置防靜電干擾層，然而由于本發 明的粘合劑層20可W利用單獨的粘合劑層賦予優異的防靜電干擾性，因此從光學層疊體的 薄膜化、層疊體制作工序的簡化的方面考慮，優選在光學膜10與粘合劑層20之間不具有防 靜電干擾層。
[0347] 帶有粘合劑層的光學膜1也可W包含層疊于粘合劑層20的外表面的隔膜（剝離 膜）。該隔膜通常在粘合劑層20的使用時(例如向金屬層30上層疊時)被剝離除去。隔膜例如 可W是對由聚對苯二甲酸乙二醇醋、聚對苯二甲酸下二醇醋、聚碳酸醋、聚芳醋等各種樹脂 構成的膜的形成有粘合劑層20的面實施了娃酬處理等脫模處理的膜。
[0348] 帶有粘合劑層的光學膜1可W如下獲得，即，將構成上述粘合劑組合物的各成分溶 解或分散于溶劑中而制成含有溶劑的粘合劑組合物，然后，將其涂布于光學膜10的表面并 干燥而形成粘合劑層20。另外，帶有粘合劑層的光學膜1也可W如下獲得，即，在隔膜的脫模 處理面與上面相同地形成粘合劑層20,將該粘合劑層20層疊(轉印）于光學膜10的表面。
[0349] <光學層疊體>
[0350] 圖4及圖5是表示本發明的光學層疊體的層構成的例子的示意剖面圖。在1個實施 方式中本發明的光學層疊體如圖4及圖5所示，包含帶有粘合劑層的光學膜1、和層疊于其粘 合劑層20側的金屬層30。圖4中所示的光學層疊體5是將圖2中所示的偏振板10a作為光學膜 10使用的例子，圖5中所示的光學層疊體6是將圖3中所示的偏振板10b作為光學膜10使用的 例子。在圖4及圖5中所示的光學層疊體5、6中，帶有粘合劑層的光學膜1被W使其粘合劑層 20與金屬層30直接接觸的方式層疊于金屬層30上。根據本發明，在像運樣使粘合劑層20與 金屬層30直接接觸的構成的光學層疊體中，也可W有效地抑制金屬層30的腐蝕。
[0351] 圖6是表示本發明的光學層疊體的層構成的另一例的示意剖面圖。在該另一實施 方式中本發明的光學層疊體像圖6中所示的光學層疊體7那樣，帶有粘合劑層的光學膜1的 粘合劑層20被夾隔著樹脂層50與金屬層30層疊。粘合劑層20與樹脂層50直接接觸。在該光 學層疊體7中，也可W有效地抑制金屬層30的腐蝕。配置于粘合劑層20與金屬層30之間的樹 脂層50例如也可W是固化性樹脂的固化物層。作為能夠形成樹脂層50的固化性樹脂可W使 用公知的固化性樹脂，例如可W舉出日本特開2009-217037號公報中記載的固化性樹脂。
[0352] 圖7是表示本發明的光學層疊體的層構成的另一例的示意剖面圖。在該另一實施 方式中本發明的光學層疊體像圖7中所示的光學層疊體8那樣，也可W不具有金屬層30。該 情況下，帶有粘合劑層的光學膜1的粘合劑層20例如被與基板40層疊。基板40如后所述，例 如為玻璃基板。
[0353] 金屬層30例如可W是含有選自侶、銅、銀、金、鐵、錫、鋒、儀、鋼、銘、鶴、鉛及含有選 自它們中的巧巾W上的金屬的合金中的1種W上的層，從導電性的觀點考慮，優選為含有選 自侶、銅、銀及金中的金屬元素的層，從導電性及成本的觀點考慮，更優選為含有侶元素的 層，進一步優選為作為主成分含有侶元素的層。所謂作為主成分含有，是指構成金屬層30的 金屬成分為全部金屬成分的30重量％ ^上、進一步為50重量％ W上。
[0354] 金屬層30例如也可W是IT0等金屬氧化物層，然而由于本發明的帶有粘合劑層的 光學膜1尤其對于金屬單質或合金的耐腐蝕性良好，因此金屬層30優選包含由上述的金屬 元素構成的金屬單質和/或含有上述的金屬元素的巧巾W上的合金。然而，光學層疊體也可 W與此種金屬層30-起，還具有由IT0等金屬氧化物構成的透明電極層。
[0355] 金屬層30的形態(例如厚度等）、制備方法沒有特別限定，除了可W是金屬錐W外， 還可W是利用真空蒸鍛法、瓣射法、離子鍛法、噴墨印刷法、凹版印刷法形成的金屬層，優選 為利用瓣射法、噴墨印刷法、凹版印刷法形成的金屬層，更優選為利用瓣射形成的金屬層。 在利用瓣射形成的金屬層和金屬錐中，前者的一方有耐腐蝕性差的趨勢，然而根據本發明 的光學層疊體，對于利用瓣射形成的金屬層也具有良好的耐金屬腐蝕性。金屬層30的厚度 通常為下，優選為UimW下，更優選為0.祉mW下。另外金屬層30的厚度通常為Ο.ΟΙμπι W上。此外，在金屬層30為金屬布線層的情況下，其金屬布線層所具有的金屬布線的線寬通 常為lOymW下，優選為扣mW下，進一步優選為下。另外，金屬布線的線寬通常為Ο.ΟΙμ mW上、優選為O.lymW上、進一步優選為0.5ymW上。對于由該薄膜的金屬層30或細線的金 屬布線構成的金屬層30,本發明的光學層疊體也顯示出良好的耐金屬腐蝕性。特別是在金 屬布線例如厚度為下、且線寬為lOymW下時，或者厚度為化mW下、且線寬為lOymW 下、利用瓣射法形成時，也可W抑制其腐蝕，特別是可W抑制點腐蝕。
[0356] 金屬層30例如可W是觸摸輸入式液晶顯示裝置所具有的觸摸輸入元件的金屬布 線層（即電極層）。該情況下，金屬層30通常被W規定的形狀圖案化。將金屬層30為金屬布線 層的情況的一例表示于圖8中。圖8中所示的光學層疊體中也可W省略樹脂層50。在被圖案 化的金屬層30上層疊粘合劑層20的情況下，粘合劑20也可W具有不與金屬層30接觸的部 分。金屬層30也可W是含有上述金屬或合金的連續膜。
[0357] 另外，金屬層30既可W是單層結構，也可W是2層或3層W上的多層結構。作為多層 結構的金屬層，例如可W舉出W鋼/侶/鋼表示的3層結構的含金屬的層(金屬網等）。
[0358] 也可W如圖4及圖5等所示，將例如為金屬布線層的金屬層30形成于基板40上，該 情況下，本發明的光學層疊體可W包含該基板40。在基板40上的金屬層30的形成例如可W 利用瓣射進行。基板40可W是構成觸摸輸入元件中所含的液晶單元的透明基板。基板40優 選為玻璃基板。作為玻璃基板的材料，例如可W舉出鋼巧玻璃、低堿玻璃、無堿玻璃等。金屬 層30既可W形成于基板40的全面，也可W形成于其一部分。在基板40上形成被圖案化的金 屬層30等情況下，在基板40的表面的一部分形成金屬層30時，粘合劑層20的一部分會與例 如由玻璃構成的基板40直接接觸，然而由于本發明的光學層疊體的粘合劑層20與玻璃的密 合性也優異，因此光學層疊體、W及具備該光學層疊體的液晶顯示裝置在此種情況下的耐 久性也優異。
[0359] 通過在金屬層30(或上述樹脂層)上將帶有粘合劑層的光學膜1夾隔著其粘合劑層 20貼合，就可W得到光學層疊體5、6。在將帶有粘合劑層的光學膜1與金屬層30貼合而制作 出光學層疊體后，在有什么不佳狀況的情況下，就需要將帶有粘合劑層的光學膜1從金屬層 30中剝離，重新將其他的帶有粘合劑層的光學膜1貼合在金屬層30上，即需要所謂的再加工 操作。本發明的帶有粘合劑層的光學膜1很難在從金屬層30中剝離后的金屬層30的表面產 生模糊、殘膠等，再加工性優異。根據本發明的帶有粘合劑層的光學膜1，即使在貼合粘合劑 層20的表面不是金屬層30而是玻璃基板或IT0層時，也可W顯示出良好的再加工性。
[0360] <液晶顯示裝置>
[0361] 本發明的液晶顯示裝置包含上述本發明的帶有粘合劑層的光學膜1，在更典型的 情況下包含上述光學層疊體。本發明的液晶顯示裝置可W抑制金屬層30的腐蝕，另外，顯示 出良好的耐久性。
[0362] 本發明的液晶顯示裝置優選為具有觸摸面板功能的觸摸輸入式液晶顯示裝置。觸 摸輸入式液晶顯示裝置具備包含液晶單元的觸摸輸入元件、和背光燈。觸摸面板的構成可 W是Out-cell型、On-cell型、In-cell型等W往公知的任何方式，另外觸摸面板的動作方式 可W是電阻膜方式、電容方式(表面型電容方式、投射型電容方式)等W往公知的任何方式。 本發明的帶有粘合劑層的光學膜1既可W配置于觸摸輸入元件(液晶單元）的可視側，也可 W配置于背光燈側，還可W配置于兩方偵心液晶單元的驅動方式可W是TN方式、VA方式、IPS 方式、多疇方式、0CB方式等W往公知的任何方式。本發明的液晶顯示裝置中，光學層疊體5、 6所具有的基板40可W是上述液晶單元中所包含的基板(典型的情況是玻璃基板）。
[03創[實施例]
[0364] W下，給出實施例及比較例而對本發明進行更具體的說明，然而本發明并不受運 些例子限定。W下，表示使用量、含量的份及％只要沒有特別指出，就是重量基準。
[0365] <制造例1:粘合劑層用（甲基)丙締酸系樹脂(A-1)的制造>
[0366] 向具備冷凝管、氮氣導入管、溫度計及攬拌機的反應容器中，加入將表1中所示的 組成(表1的數值為重量份。）的單體與乙酸乙醋81.8份混合而得的溶液。將反應容器內的空 氣用氮氣置換后，使內溫為60°C。其后，添加在乙酸乙醋10份中溶解有偶氮二異下臘0.12份 的溶液。在相同溫度保持1小時后，在將內溫保持為54~56°C的同時，W添加速度17.3份/化 將乙酸乙醋連續地加入反應容器內，使得聚合物的濃度大致上為35%。在從乙酸乙醋的添 加開始直到經過12小時將內溫保持為54~56°C后，加入乙酸乙醋而將聚合物的濃度調整為 20%，得到（甲基）丙締酸系樹脂(A-1)的乙酸乙醋溶液。（甲基）丙締酸系樹脂(A-1)的重 均分子量Mw為139萬，重均分子量Mw與數均分子量Μη的比Mw/Mn為5.32。在凝膠滲透色譜 (GPC)的流出曲線中，Mwl39萬的成分顯示出單一的峰，在MwlOOO~250萬的范圍中沒有看到 其他的峰。
[0367] <制造例2:粘合劑層用（甲基)丙締酸系樹脂(A-2)的制造>
[0368] 除了將單體的組成設為如表1所示W外，與制造例1相同地得到（甲基)丙締酸系樹 脂(A-2)的乙酸乙醋溶液(樹脂濃度:20%)。（甲基)丙締酸系樹脂(A-2)的重均分子量Mw 為141萬，Mw/Mn為4.71。在GPC的流出曲線中，Mwl41萬的成分顯示出單一的峰，在MwlOOO~ 250萬的范圍中沒有看到其他的峰。
[0369] 在上面的制造例中，重均分子量Mw及數均分子量Μη如下測定，在GPC裝置中作為色 譜柱串聯配置4根Tosoh(株）制的"TSKgel X1；'、W及1根昭和電工（株）制的"Shodex GPC KF-802"合計5根，作為洗脫液使用四氨巧喃，在試樣濃度5mg/mL、試樣導入量10化L、溫度 40°C、流速ImL/分鐘的條件下，利用標準聚苯乙締換算進行測定。獲得GPC的流出曲線時的 條件也設為與之相同。
[0370] 玻璃化轉變溫度Tg是使用SII Nano Technology株式會社制的差示掃描熱量計 (DSCrEXSTAR DSCeOOO"，在氮氣氣氛下，在測定溫度范圍一80~50°C、升溫速度10°C/分鐘 的條件下進行測定。
[0371] 將各制造例中的單體的組成（表1的數值為重量份。）、W及GPC的流出曲線上的 MwlOOO~250萬的范圍中的峰數(表1中表述為"GPC峰數"）集中表示于表1中。
[0372] [表 1]
[0373]
[0374] 位于表1的"單體組成"一欄中的縮略語是指下面的單體。
[0375] BA:丙締酸下醋(均聚物的玻璃化轉變溫度：一54°C)、
[0376] ΜΑ:丙締酸甲醋(均聚物的玻璃化轉變溫度:10°C)、
[0377] HEA:丙締酸2_徑基乙醋。
[037引 < 實施例1~8、比較例1~9>
[0379] (1)粘合劑組合物的制備
[0380] 向上述制造例中得到的（甲基）丙締酸系樹脂的乙酸乙醋溶液（樹脂濃度：20%) 中，相對于該溶液的固體成分100份，分別混合表2中所示的量(重量份)的表2中所示的硅烷 化合物(B)、離子性化合物(C)、W及異氯酸醋系交聯劑(D)，再W使固體成分濃度為14%的 方式添加乙酸乙醋而得到粘合劑組合物。對于表2中所示的各配合成分的配合量，在所使用 的商品含有溶劑等時，是作為其中所含的有效成分的重量份數。
[0381] [表 2]
[0382]
[0383] 表2中W縮略語表示的各配合成分的詳情如下所示。
[0384] (硅烷化合物）
[03化]B-1: W下式表示的硅烷化合物：
[0；386][化 14]
[0387]
[038引 B-2:W下式表示的硅烷化合物：
[03例[化1引
[0390]
[0391] B-3 :3-環氧丙氧基丙基Ξ甲氧基硅烷、從信越化學工業（株）獲取的商品名 乂ΒΜ403"。
[0392] (離子性化合物）
[0393] c-l:W下式表示的離子性化合物：
[0394] [化 16]
[0395]
[0396] C-2:W下式表示的離子性化合物：
[0397] [化 17]
[039引
[0399] C - 3:雙(Ξ氣甲橫酷基)酷亞胺裡、
[0400] C-4:雙(氣橫酷基)酷亞胺鐘、
[0401] C-5:N-癸基化晚鐵雙(氣橫酷基)酷亞胺鹽、
[0402] C-6:N-甲基化晚鐵四（五氣苯基)棚酸鹽、
[0403] C-7:N-癸基化晚鐵四（五氣苯基)棚酸鹽、
[0404] C-8:N-辛基一4-甲基化晚鐵六氣憐酸鹽。
[0405] (異氯酸醋系交聯劑）
[0406] D-1:二甲苯二異氯酸醋的Ξ徑甲基丙烷加合物的乙酸乙醋溶液（固體成分濃度 75 % )、從Ξ井化學(株)獲取的商品名叮AKENATE D-11 or。
[0407] (2)粘合劑層的制作
[0408] 將上述（1)中制備的各粘合劑組合物使用施膠器W使干燥后的厚度為20μπι的方 式，涂布在由實施了脫模處理的聚對苯二甲酸乙二醇醋膜構成的隔膜〔從LINTEC(株)獲取 的商品名叩LR-38205Γ )的脫模處理面，在100°C干燥1分鐘而制作出粘合劑層（粘合劑 片）。
[0409] (3)帶有粘合劑層的光學膜(P-1)的制作
[0410] 將平均聚合度約2400、皂化度99.9摩爾％、厚度60皿的聚乙締醇膜〔（株化uraray 制的商品名"Kuraray Vinylon VF-陽#6000")浸潰于37°C的純水中后，在30°C浸潰于含有 艦和艦化鐘的水溶液(艦/艦化鐘/水(重量比）=0.04/1.5/100)中。其后，在56.5 °C浸潰于 含有艦化鐘和棚酸的水溶液(艦化鐘/棚酸/水(重量比）= 12/3.6/100)中。將膜用10°C的純 水清洗后，在85°C干燥，得到在聚乙締醇上吸附了艦并取向了的厚約23μπι的偏振片。拉伸主 要在艦染色及棚酸處理的工序中進行，總的拉伸倍率為5.3倍。
[0411] 在所得的偏振片的一面，夾隔著由聚乙締醇系樹脂的水溶液構成的膠粘劑貼合厚 25μηι的由Ξ乙酷纖維素膜構成的透明保護膜I； Konica Mino 1 ta Opt (株）制的商品名 "KC2UA")。然后在上述偏振片的與Ξ乙酷纖維素膜相反一側的面，夾隔著由聚乙締醇系樹 脂的水溶液構成的膠粘劑貼合厚23WI1的由環狀聚締控系樹脂構成的零相位差膜〔日本Zeon (株)制的商品名"ZEONOr )，制作出偏振板。然后，對零相位差膜的與接觸偏振片的面相反 一側的面，實施用于提高密合性的電暈放電處理后，利用層壓機貼合上述(2)中制作的粘合 劑層的與隔膜相反一側的面（粘合劑層面）后，在溫度23°C、相對濕度65%的條件下熟化7 天，得到帶有粘合劑層的光學膜(P-1)。
[0412] (4)帶有粘合劑層的光學膜(P-2)的制作
[0413] 將平均聚合度約2400、皂化度99.9摩爾％、厚度30皿的聚乙締醇膜〔（株化uraray 制的商品名"Kuraray Vinylon VF-陽#3000")浸潰于37°C的純水中后，在30°C浸潰于含有 艦和艦化鐘的水溶液(艦/艦化鐘/水(重量比）=0.04/1.5/100)中。其后，在56.5 °C浸潰于 含有艦化鐘和棚酸的水溶液(艦化鐘/棚酸/水(重量比）= 12/3.6/100)中。將膜用10°C的純 水清洗后，在85°C干燥，得到在聚乙締醇上吸附了艦并取向了的厚度約12μπι的偏振片。拉伸 主要在艦染色及棚酸處理的工序中進行，總的拉伸倍率為5.3倍。
[0414] 在所得的偏振片的一面，夾隔著由聚乙締醇系樹脂的水溶液構成的膠粘劑貼合厚 25μηι的由Ξ乙酷纖維素膜構成的透明保護膜I； Konica Mino 1 ta Opt (株）制的商品名 "KC2UA")，制作出偏振板。然后在偏振片的與貼合有保護膜的面相反一側的面，利用層壓機 貼合上述(2)中制作的粘合劑層的與隔膜相反一側的面(粘合劑層面)后，在溫度23°C、相對 濕度65%的條件下熟化7天，得到帶有粘合劑層的光學膜(P-2)。
[0415] (5)帶有粘合劑層的光學膜的耐金屬腐蝕性評價
[0416] 將上述(3)中制作的帶有粘合劑層的光學膜(P-1)裁割為20mmX50mm的大小的試 驗片，夾隔著粘合劑層貼合在帶有金屬層的玻璃基板的金屬層側。作為帶有金屬層的玻璃 基板，使用了在無堿玻璃表面利用瓣射層疊了厚度約500nm的金屬侶層的玻璃基板 (Geomatec公司制）。將所得的光學層疊體在溫度60°C、相對濕度90%的烘箱中保管500小時 后，從玻璃基板的背面照射光從偏振板表面透過放大鏡(Lupe)觀察貼合了帶有粘合劑層的 光學膜的部分的金屬層的狀態，對于點腐蝕(直徑為O.lmmW上且能夠透過光的孔的產生）， 利用W下的基準進行評價。將結果表示于表3中。
[0417] 5:在金屬層表面完全看不到點腐蝕及白濁、
[0418] 4:在金屬層表面產生的點腐蝕的個數為2個W下、
[0419] 3:在金屬層表面產生的點腐蝕的個數為3個~5個、
[0420] 2:在金屬層表面產生的點腐蝕的個數為6個W上、
[0421] 1:在金屬層表面的全面產生多個點腐蝕，并且還產生了白濁。
[0422] (6)帶有粘合劑層的光學膜的耐久性評價
[0423] 將上述(3)中制作的帶有粘合劑層的光學膜(P-l)W使偏振板的拉伸軸方向為長 邊的方式裁割為200mmX 150mm的大小后剝離隔膜，將露出的粘合劑層面貼合在玻璃基板 上。將所得的粘貼有玻璃基板的試驗片(粘貼有玻璃基板的帶有粘合劑層的光學膜)在高壓 蓋中、W溫度50°C、壓力化g/cm2(490.3kPa)加壓20分鐘。作為玻璃基板，使用了Corning公 司制的無堿玻璃，商品名為巧agle XG"。對所得的光學層疊體，實施了下面的巧巾耐久性試 驗。
[0424] 〔耐久性試驗）
[0425] ?在溫度85°C的干燥條件下保持750小時的耐熱試驗、
[0心6] ?在溫度60°C、相對濕度90%的環境下保持750小時的耐濕熱試驗、
[0427] ?在溫度85°C的干燥條件下保持30分鐘，然后在溫度一40°C的干燥條件下保持30 分鐘，將該操作設為1個循環，將該操作反復進行400次循環的耐熱沖擊化S)試驗。
[0428] 目視觀察各試驗后的光學層疊體，利用目視觀察了有無粘合劑層的翅起、脫落、發 泡等外觀變化，依照下述的評價基準評價了耐久性。將結果表示于表3中。
[0429] 4:完全看不到翅起、脫落、發泡等外觀變化、
[0430] 3:幾乎看不到翅起、脫落、發泡等外觀變化、
[0431] 2:翅起、脫落、發泡等外觀變化略明顯、
[043^ 1:明顯地看到翅起、脫落、發泡等外觀變化。
[0433] (7)帶有粘合劑層的光學膜的再加工性評價
[0434] 將上述(3)中制作的帶有粘合劑層的光學膜(P-1)裁割為25mmX 150mm的大小的 試驗片。從試驗片中剝離隔膜，將其粘合劑面粘貼在玻璃基板上。將所得的粘貼有玻璃基板 的試驗片(粘貼有玻璃基板的帶有粘合劑層的光學膜)在高壓蓋中、W溫度5(TC、壓力化g/ cm2(490.3kPa)加壓20分鐘。然后，在50°C的烘箱中保管48小時，再在溫度23°C、相對濕度 50%的氣氛中，從試驗片中將光學膜與粘合劑層一起W300mm/分鐘的速度沿180°方向剝 離。觀察剝離后的玻璃基板表面的狀態，利用W下的基準進行了評價。將結果表示于表3中。
[0435] 4:在玻璃基板的表面完全看不到模糊等、
[0436] 3:在玻璃基板的表面幾乎看不到模糊等、
[0437] 2:在玻璃基板的表面可W看到模糊等、
[0438] 1:在玻璃基板的表面可W看到粘合劑層的殘留。
[0439] (8)帶有粘合劑層的光學膜的脫色性評價
[0440] 將上述(4)中制作的帶有粘合劑層的光學膜(P-2)裁割為30mmX30mm的大小后剝 離隔膜，將露出的粘合劑層面貼合在玻璃基板上。作為玻璃基板，使用了 Corning公司制的 無堿玻璃，商品名為巧agle XG"。對所得的光學層疊體，使用帶有積分球的分光光度計〔日 本分光(株)制的制品名"V7100")測定出波長380~780皿的范圍中的MD透射率和TD透射率， 算出各波長下的單體透射率、偏振度，再利用JIS Z 8701:1999"顏色的表示方法一XYZ表色 系及XioYioZio表色系"的2度視野(C光源)進行可見度修正，求出耐久試驗前的可見度修正單 體透射率(Ty)及可見度修正偏振度(Py)。而且，將光學層疊體W使偏振板的Ξ乙酷纖維素 膜側為檢測器側、從玻璃基板側射入光的方式安置于帶有積分球的分光光度計中。
[0441 ]單體透射率及偏振度分別由下式定義：
[0442] 單體透射率(λ) =0.5 X (Τρ(λ)巧。(入)）
[0443] 偏振度(λ) = 1〇〇Χ(Τρ(λ)-Τ(3(λ))/(Τρ(λ)+Τ(3(λ))
[0444] Τρ(λ)是利用入射的波長λ(ηπι)的直線偏振光與平行尼科爾棱鏡的關系測定的光 學層疊體的透射率（％)，Tc(A)是利用入射的波長λ(ηπι)的直線偏振光與正交尼科爾棱鏡的 關系測定的光學層疊體的透射率（％)。
[0445] 然后，將該光學層疊體在溫度80°C、相對濕度90%的濕熱環境下放置24小時，再在 溫度23°C、相對濕度60%的環境下放置24小時后，利用與耐久試驗前相同的方法求出耐久 試驗后的Ty及Py。其后，從試驗后的Py及Ty中分別減去試驗前的Py及Ty而算出耐久試驗前 后的變化量，求出偏振度變化量（A巧)及單體透射率變化量（Δ Ty)。將Δ巧表示于表3中。
[0446] [表引
[0447]
[044引 < 制造例3:粘合劑層用（甲基)丙締酸系樹脂(A-1)的制造>
[0449]向具備冷凝管、氮氣導入管、溫度計及攬拌機的反應容器中，加入將表4中所示的 組成(表4的數值為重量份。）的單體與乙酸乙醋81.8份混合而得的溶液。將反應容器內的空 氣用氮氣置換后，使內溫為60°C。其后，添加在乙酸乙醋10份中溶解有偶氮二異下臘0.12份 的溶液。在相同溫度保持1小時后，在將內溫保持為54~56°C的同時，W添加速度17.3份/化 將乙酸乙醋連續地加入反應容器內，使得聚合物的濃度大致上為35%。在從乙酸乙醋的添 加開始直到經過12小時將內溫保持為54~56 °C后，加入乙酸乙醋而將聚合物的濃度調整為 20%，得到（甲基）丙締酸系樹脂(A-1)的乙酸乙醋溶液。（甲基）丙締酸系樹脂(A-1)的重 均分子量Mw為139萬，重均分子量Mw與數均分子量Μη的比Mw/Mn為5.32。在凝膠滲透色譜 (GPC)的流出曲線中，Mwl39萬的成分顯示出單一的峰，在MwlOOO~250萬的范圍中沒有看到 其他的峰。
[0450] 在上面的制造例中，重均分子量Mw及數均分子量Μη如下測定，在GPC裝置中作為色 譜柱串聯配置4根Tosoh(株）制的"TSKgel X1；'、W及1根昭和電工（株）制的"Shodex GPC KF-802"合計5根，作為洗脫液使用四氨巧喃，在試樣濃度5mg/mL、試樣導入量10化L、溫度 40°C、流速ImL/分鐘的條件下，利用標準聚苯乙締換算進行測定。獲得GPC的流出曲線時的 條件也設為與之相同。
[0451 ]玻璃化轉變溫度Tg是使用SII Nano Technology株式會社制的差示掃描熱量計 (DSCrEXSTAR DSCeOOO"，在氮氣氣氛下，在測定溫度范圍一80~50°C、升溫速度10°C/分鐘 的條件下進行測定。
[0452]將各制造例中的單體的組成（表4的數值為重量份。）、W及GPC的流出曲線上的 Mwl 000~250萬的范圍中的峰數(表4中表述為"GPC峰數"）集中表示于表4中。
[045；3] 「表 41
[0454]
[0455] 位于表4的"單體組成"一欄中的縮略語是指下面的單體。
[0456] BA:丙締酸下醋(均聚物的玻璃化轉變溫度：一54°C)、
[0457] ΜΑ:丙締酸甲醋(均聚物的玻璃化轉變溫度:10°C)、
[045引 HEA:丙締酸2_徑基乙醋。
[0459] <實施例9、比較例10~11>
[0460] (1)粘合劑組合物的制備
[0461] 向上述制造例中得到的（甲基）丙締酸系樹脂的乙酸乙醋溶液（樹脂濃度：20%) 中，相對于該溶液的固體成分100份，分別混合表5中所示的量(重量份)的表5中所示的硅烷 化合物(B)、離子性化合物(C)、W及異氯酸醋系交聯劑(D)，再W使固體成分濃度為14%的 方式添加乙酸乙醋而得到粘合劑組合物。對于表5中所示的各配合成分的配合量，在所使用 的商品含有溶劑等時，是作為其中所含的有效成分的重量份數。
[046^ [表引
[0463]
[0464] 表5中W縮略語表示的各配合成分的詳情如下所示。
[04化](硅烷化合物）
[0466] B-1:下式所示的硅烷化合物：
[0467] 【化18】
[0468]
[0469] B-3: 3-環氧丙氧基丙基Ξ甲氧基硅烷、從信越化學工業（株）獲取的商品名 乂BM403"。
[0470] (離子性化合物）
[0471] C-5:N-癸基化晚鐵雙(氣橫酷基)酷亞胺鹽、
[0472] C-8 :N-辛基一4-甲基化晚鐵六氣憐酸鹽。
[0473] (異氯酸醋系交聯劑）
[0474] D-1:二甲苯二異氯酸醋的Ξ徑甲基丙烷加合物的乙酸乙醋溶液（固體成分濃度 75 % )、從Ξ井化學(株)獲取的商品名叮AKENATE D-11 or。
[0475] (2)粘合劑層的制作
[0476] 將上述（1)中制備的各粘合劑組合物使用施膠器W使干燥后的厚度為20μπι的方 式，涂布在由實施了脫模處理的聚對苯二甲酸乙二醇醋膜構成的隔膜〔從LINTEC(株)獲取 的商品名叩LR-38205Γ )的脫模處理面，在100°C干燥1分鐘而制作出粘合劑層（粘合劑 片）。
[0477] (3)帶有粘合劑層的光學膜(P-1)的制作
[0478] 將平均聚合度約2400、皂化度99.9摩爾％、厚度60皿的聚乙締醇膜〔（株化uraray 制的商品名"Kuraray Vinylon VF-陽#6000")浸潰于37°C的純水中后，在30°C浸潰于含有 艦和艦化鐘的水溶液(艦/艦化鐘/水(重量比）=0.04/1.5/100)中。其后，在56.5 °C浸潰于 含有艦化鐘和棚酸的水溶液(艦化鐘/棚酸/水(重量比）= 12/3.6/100)中。將膜用10°C的純 水清洗后，在85°C干燥，得到在聚乙締醇上吸附了艦并取向了的厚約23μπι的偏振片。拉伸主 要在艦染色及棚酸處理的工序中進行，總的拉伸倍率為5.3倍。
[0479] 在所得的偏振片的一面，夾隔著由聚乙締醇系樹脂的水溶液構成的膠粘劑貼合厚 25μηι的由Ξ乙酷纖維素膜構成的透明保護膜I； Konica Mino 1 ta Opt (株）制的商品名 "KC2UA")。然后在上述偏振片的與Ξ乙酷纖維素膜相反一側的面，夾隔著由聚乙締醇系樹 脂的水溶液構成的膠粘劑貼合厚23WI1的由環狀聚締控系樹脂構成的零相位差膜〔日本Zeon (株)制的商品名"ZEONOr )，制作出偏振板。然后，對零相位差膜的與接觸偏振片的面相反 一側的面，實施用于提高密合性的電暈放電處理后，利用層壓機貼合上述(2)中制作的粘合 劑層的與隔膜相反一側的面（粘合劑層面）后，在溫度23°C、相對濕度65%的條件下熟化7 天，得到帶有粘合劑層的光學膜(P-1)。
[0480] (4)帶有粘合劑層的光學膜的耐金屬腐蝕性評價
[0481] 將上述(3)中制作的帶有粘合劑層的光學膜(P-1)裁割為20mmX50mm的大小的試 驗片，夾隔著粘合劑層貼合在帶有金屬層的玻璃基板的金屬層側。作為帶有金屬層的玻璃 基板，使用了在無堿玻璃表面利用瓣射層疊了厚度約500nm的銀合金銀作為主成分、且 含有鈕及銅的合金、APC)層的玻璃基板(Geomatec公司制）。將所得的光學層疊體在溫度60 °C、相對濕度90%的烘箱中保管500小時后，從玻璃基板的背面投射光而從偏振板表面通過 放大鏡觀察貼合了帶有粘合劑層的光學膜的部分的金屬層的狀態，對于點腐蝕（直徑為 O.lmmW上且能夠透過光的孔的產生），利用W下的基準進行評價。將結果表示于表6中。
[0482] 5:在金屬層表面完全看不到點腐蝕及白濁、
[0483] 4:在金屬層表面產生的點腐蝕的個數為2個W下、
[0484] 3:在金屬層表面產生的點腐蝕的個數為3個~5個、
[0485] 2:在金屬層表面產生的點腐蝕的個數為6個W上、
[0486] 1:在金屬層表面的全面產生多個點腐蝕，并且還產生了白濁。
[0487] [表6]
[0488]
[0489] 符號的說明
[0490] 1帶有粘合劑層的光學膜，2偏振片，3第一樹脂膜，4第二樹脂膜，5、6、7、8光 學層疊體，10光學膜，l〇a、l化偏振板，20粘合劑層，30金屬層，40基板，50樹脂層。
【主權項】
1. 一種帶有粘合劑層的光學膜，其包含光學膜、以及層疊于其至少一個面上的粘合劑 層， 所述粘合劑層由含有（甲基)丙烯酸系樹脂(A)、硅烷化合物(B)、以及離子性化合物(C) 的粘合劑組合物構成， 所述硅烷化合物(B)為以下述式(I)表示的硅烷化合物：式中，A表示碳原子數1~20的烷二基、或碳原子數3~20的2價的脂環式烴基，構成該烷 二基及該脂環式烴基的一CH2-也可以由一0 -或一C(=0)-置換，R1表示碳原子數1~5的 烷基，R2、R3、R 4、R5及R6各自獨立地表示碳原子數1~5的烷基或碳原子數1~5的烷氧基； 所述離子性化合物(C)的陰離子為選自下述組中的陰離子：2. 根據權利要求1所述的帶有粘合劑層的光學膜，其中， 以所述式(I)表示的硅烷化合物(B)是以下述式(II)表示的硅烷化合物：式中，1?1、妒、1?4、1?5及1?6分別表示與上述相同的含義，1? 7表示碳原子數1~5的烷基，111表示 1~20的整數。3. 根據權利要求2所述的帶有粘合劑層的光學膜，其中， 所述式(Π )中的m為4~20的整數。4. 根據權利要求2所述的帶有粘合劑層的光學膜，其中， 所述式(Π )中的m為6~8的整數。5. 根據權利要求2所述的帶有粘合劑層的光學膜，其中， 所述式(Π )中的m為6。6. 根據權利要求1所述的帶有粘合劑層的光學膜，其中， 所述硅烷化合物(B)為1，6-雙(三甲氧基甲硅烷基）己烷。7. 根據權利要求1所述的帶有粘合劑層的光學膜，其中， 所述離子性化合物(C)的陽離子為具有包含不飽和鍵的含有氮原子的雜環結構的陽離 子。8. 根據權利要求1所述的帶有粘合劑層的光學膜，其中， 所述離子性化合物(C)的陽離子為以下述式(III)表示的吡啶鑰陽離子：式中，R8~R13各自獨立地表示氫原子、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的烯 基、可以具有取代基的炔基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的雜環基、羥基、醚 基、羧基、羰基或鹵素原子，也可以在相鄰的取代基之間形成環。9. 根據權利要求1所述的帶有粘合劑層的光學膜，其中， 所述粘合劑組合物中的所述硅烷化合物(B)的含量相對于所述（甲基）丙烯酸系樹脂 (A) 100重量份為0.01~10重量份。10. 根據權利要求1所述的帶有粘合劑層的光學膜，其中， 所述（甲基)丙烯酸系樹脂(A)含有來自于具有羥基的單體的構成單元。11. 根據權利要求1所述的帶有粘合劑層的光學膜，其中， 所述（甲基）丙烯酸系樹脂(A)含有來自于丙烯酸烷基酯(al)的構成單元、以及來自于 丙烯酸烷基酯(a2)的構成單元， 所述丙烯酸烷基酯(al)的均聚物的玻璃化轉變溫度低于(TC，所述丙烯酸烷基酯(a2) 的均聚物的玻璃化轉變溫度為〇°C以上。12. 根據權利要求1所述的帶有粘合劑層的光學膜，其中， 所述（甲基)丙烯酸系樹脂(A)的重均分子量為50萬~250萬。13. 根據權利要求1所述的帶有粘合劑層的光學膜，其中， 所述粘合劑組合物還含有異氰酸酯系交聯劑(D)。14. 根據權利要求1所述的帶有粘合劑層的光學膜，其中， 所述粘合劑組合物實質上不含有三唑系化合物。15. -種液晶顯示裝置，其包含權利要求1~14中任一項所述的帶有粘合劑層的光學 膜。16. -種粘合劑組合物，其含有（甲基）丙烯酸系樹脂(A)、硅烷化合物(B)、以及離子性 化合物(C)， 所述硅烷化合物（B)為W下彳未式〈T ?券完的KMSik合物I.式中，A表示碳原子數1~20的烷二基或碳原子數3~20的2價的脂環式烴基，構成該烷 二基及該脂環式烴基的一CH2-也可以由一0 -或一C(=0)-置換，R1表示碳原子數1~5的 烷基，R2、R3、R 4、R5及R6各自獨立地表示碳原子數1~5的烷基、或碳原子數1~5的烷氧基； 所述離子性化合物(C)的陰離子為選自下述組中的陰離子：所述粘合劑組合物被用于形成層疊在金屬層上的粘合劑層。17. -種帶有粘合劑層的光學膜，其包含光學膜、和層疊于該光學膜的至少一個面上的 粘合劑層，且用于夾隔著所述粘合劑層貼合于金屬層上， 所述粘合劑層由如下的粘合劑組合物形成： 含有（甲基)丙烯酸系樹脂(A)、硅烷化合物(B)、以及離子性化合物(C)， 所述硅烷化合物(B)為以下述式(I)表示的硅烷化合物：式中，A表示碳原子數1~20的烷二基、或碳原子數3~20的2價的脂環式烴基，構成該烷 二基及該脂環式烴基的一CH2-也可以由一0 -或一C(=0)-置換，R1表示碳原子數1~5的 烷基，R2、R3、R 4、R5及R6各自獨立地表示碳原子數1~5的烷基或碳原子數1~5的烷氧基； 所述離子性化合物(C)的陰離子為選自下述組中的陰離子：18. -種光學層疊體，其包含： 權利要求1~14中任一項所述的帶有粘合劑層的光學膜，和 層疊在該帶有粘合劑層的光學膜的粘合劑層側的金屬層。
【文檔編號】C09J11/06GK106010384SQ201610187070
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年3月29日
【發明人】淺津悠司, 阪上智惠, 韓銀九
【申請人】住友化學株式會社