銅酞菁微粒的制造方法

銅酞菁微粒的制造方法
【專利摘要】本發明的課題為提供含有至少一種具有高分光特性、且為與α型不同的結晶型的銅酞菁微粒而成的銅酞菁顏料及上述銅酞菁微粒的制造方法。提供含有至少一種為與α型不同的結晶型、且在380～780nm中的吸收光譜為α型吸收光譜的形狀的銅酞菁微粒而成的銅酞菁顏料及上述銅酞菁顏料的制造方法。另外，提供含有至少一種與α型及ε型的2種型不同的結晶型、且在380～780nm中的透射光譜中透射率達到最大的波長(λmax)低于478nm的銅酞菁微粒而成的銅酞菁顏料及上述銅酞菁微粒的制造方法。
【專利說明】
銅酞菁微粒的制造方法
[00011 本申請是申請號為201180016024.0、申請日為2011年03月04日，發明名稱為"新型 的銅酞菁顏料及銅酞菁微粒的制造方法"的中國專利申請的分案申請。
技術領域
[0002] 本發明涉及新型的酮酞菁顏料。
【背景技術】
[0003] 銅酞菁，為在涂料、噴墨油墨、濾色器、調色劑等廣泛領域中使用的藍色或青色的 有機顏料。也可以合成位于分子結構的中心的銅元素被氫取代了的無金屬酞菁、被其它的 金屬元素取代了的多種金屬酞菁，不僅作為色料的著色力、發色力等的顏色特性優異，而且 耐水性及耐熱性、耐光性及耐氣候性等的耐久性優異，因此在產業上銅酞菁的使用量最多。 銅酞菁除作為如上所述的有機顏料、色料的使用之外，也應用于半導體、催化劑或傳感器等 中，因此認為即使今后也可以成為重要的材料。
[0004] 銅酞菁具有α、β、γ、ε、3?、χ、σ、ρ等許多的結晶多形，可以說顏色特性、耐溶劑性等 的物性根據結晶型而不同。但是，銅酞菁的顏色特性，不僅結晶型，而且其一次粒徑的大小 和使用時的凝聚的程度、即其分散粒徑也產生大的影響，因此需要對于目標的結晶型的微 粒的制造方法，至今為止報告有涉及結晶型的控制和微粒的制作的許多方法。
[0005] 例如作為制作β或ε型的銅酞菁的方法，報告有如專利文獻1中記載那樣的用特定 的有機溶劑進行處理的溶劑法、如專利文獻2中記載那樣的在特定的溶劑中用珠粒、無機鹽 類進行處理的所謂溶劑研磨（力法或溶劑鹽研磨（力卜:/少卜烈^夕'') 法。
[0006] 但是，在溶劑法中，結晶生長所引起的粒子的粗大化的抑制是困難的，在溶劑研 磨、溶劑鹽研磨法中，由于平行進行結晶生長和粉碎，因此如下問題:不僅需要很大的能量， 而且對銅酞菁顏料作用強的力，色調、透明性、分光特性、耐久性等作為顏料納米粒子所期 待的特性不能呈現這樣的問題。
[0007] 另外，如專利文獻3中所示，作為本申請
【申請人】所提案的新型的銅酞菁，有以下的 銅酞菁顏料以及其制造方法:所述銅酞菁顏料含有結晶型為α型且在380~780nm中的透射 光譜的透射率達到最大的波長(Amax)低于478nm的銅酞菁而成。專利文獻3中所示的銅酞菁 的透射特性優異，僅可透射特定的波長區域的光，另外其透射率也比以往高。進而，在吸收 光譜特性中，與一般的銅酞菁相比，即使為相同顏料濃度的分散液其吸光度也高，因此可推 測與迄今為止的銅酞菁顏料相比，著色力優異。但是，一般被稱為亞穩定型的α型的結晶，在 嘗試在特定的有機溶劑、特別是芳香族系的有機溶劑中的使用情況下，存在結晶生長、不能 發揮其顏色特性這樣的問題，因此期望具有如專利文獻3中所示那樣的分光特性、且與α型 不同的穩定型或亞穩定型的銅酞菁。
[0008] 現有技術文獻
[0009] 專利文獻
[0010] 專利文獻I:特開2003-313456號公報 [0011] 專利文獻2:特開2007-332317號公報 [0012] 專利文獻3:國際公開第W02010/035861號小冊子

【發明內容】

[0013] 發明要解決的課題
[0014] 鑒于上述，本發明的課題在于提供含有至少一種為與α不同的結晶型、且在380~ 780nm中的吸收光譜為α型的吸收光譜形狀的銅酞菁微粒而成的銅酞菁顏料及上述銅酞菁 微粒的制造方法。
[0015] 進而，課題在于提供含有至少一種為與α型及ε型這2種型不同的結晶型、且在380 ~780nm中的透射光譜的透射率達到最大的波長(Amax)低于478nm的銅酞菁微粒而成的銅 酞菁顏料及上述銅酞菁微粒的制造方法。
[0016] 用于解決課題的手段
[0017] 為了解決上述課題，本發明的第1方式為以下的銅酞菁顏料:其含有至少一種為與 α型不同的結晶型、且在380~780nm中的吸收光譜為α型的吸收光譜形狀的銅酞菁微粒而 成。
[0018] 本發明的第2方式為以下的銅酞菁顏料:其含有至少一種為與α型不同的結晶型、 且在380~780nm中的吸收光譜中、在600±15nm及680±15nm的區域具有峰的銅酞菁微粒而 成。
[0019] 本發明的第3方式為本發明的第1或第2方式涉及的含有銅酞菁微粒而成的銅酞菁 顏料，其特征在于，含有至少一種與上述α型不同的結晶型為β型、γ型及ε型的3種型中的任 意的結晶型的銅酞菁微粒。
[0020] 本發明的第4方式為以下的銅酞菁顏料:其含有至少一種為與α型及ε型的2種型不 同的結晶型、且在380~780nm中的透射光譜的透射率達到最大的波長(A max)低于478nm的 銅酞菁而成。
[0021] 本發明的第5方式為本發明的第4方式涉及的含有銅酞菁微粒而成的銅酞菁顏料， 其特征在于，含有至少一種為與上述的α型及ε型的2種型不同的結晶型為β型及γ型的2種 型中的任意的結晶型的銅酞菁微粒。
[0022] 本發明的第6方式為本發明的第1~第5的任意的方式涉及的含有銅酞菁微粒而成 的銅酞菁顏料，其特征在于，向可接近?分離、且相對地位移的處理用面之間供給被處理流 動體，通過含有該被處理流動體的供給壓力和施加于進行旋轉的處理用面之間的壓力的向 接近方向的力與向分離方向的力的壓力的平衡，將處理用面間的距離維持為微小間隔，使 維持為該微小間隔的2個處理用面間作為被處理流動體的流路，由此被處理流動體形成薄 膜流體，在該薄膜流體中以微粒的方式生成上述銅酞菁微粒。
[0023] 本發明的第7方式為本發明的第1~第6方式的任意的方式涉及的含有銅酞菁微粒 而成的銅酞菁顏料，其特征在于，上述銅酞菁微粒的形狀為大致球狀。
[0024]本發明的第8方式為本發明的第7方式涉及的含有銅酞菁微粒而成的銅酞菁顏料， 其特征在于，上述銅酞菁微粒的體積平均粒徑為1~600nm。
[0025]本發明的第9方式為銅酞菁微粒的制造方法，其為生成本發明的第1~第8方式的 任意方式涉及的銅酞菁微粒的方法，其特征在于，向可接近?分離、且相對地位移的處理用 面之間供給被處理流動體，通過含有該被處理流動體的供給壓力和施加于進行旋轉的處理 用面之間的壓力的向接近方向的力與向分離方向的力的壓力的平衡，將處理用面間的距離 維持為微小間隔，將維持為該微小間隔的2個處理用面間作為被處理流動體的流路，由此被 處理流動體形成薄膜流體，在該薄膜流體中進行上述銅酞菁微粒的析出。
[0026] 本發明的第10方式為本發明的第9方式涉及的銅酞菁微粒的制造方法，其特征在 于，使用至少2種被處理流動體，其中至少一種被處理流動體為將銅酞菁溶解在溶劑中的銅 酞菁溶液，上述以外的流體中至少一種被處理流動體為對于銅酞菁為不良溶劑的溶劑，上 述銅酞菁溶液和相對于上述銅酞菁為不良溶劑的溶劑內，至少任一方的被處理流動體含有 至少一種有機溶劑，在上述薄膜流體中混合上述的被處理流動體。
[0027] 本發明的第11方式為本發明的第9方式涉及的銅酞菁微粒的制造方法，其特征在 于，使用第1、第2、第3的至少3種的被處理流動體，上述第1被處理流動體為將銅酞菁溶解在 溶劑中的銅酞菁溶液，上述第2被處理流動體相對于銅酞菁為不良溶劑的溶劑，上述第3被 處理流動體含有至少一種有機溶劑，在上述薄膜流體中混合上述全部的被處理流動體。
[0028] 本發明的第12方式為本發明的第10或第11方式涉及的銅酞菁微粒的制造方法，其 特征在于，上述有機溶劑含有芳香族化合物溶劑、酮化合物溶劑、醚化合物溶劑、鹵素化合 物溶劑中的至少一種。
[0029] 本發明的第13方式為本發明的第9方式涉及的銅酞菁微粒的制造方法，其特征在 于，具備：對上述的被處理流動體賦予壓力的流體壓力賦予機構、第1處理用部及相對于該 第1處理用部可接近?分離的第2處理用部的至少兩個處理用部、和使上述第1處理用部和 第2處理用部相對地進行旋轉的旋轉驅動機構，在上述的各處理用部中相互對向的位置設 有第1處理用面及第2處理用面的至少兩個處理用面，上述的各處理用面構成上述被賦予了 壓力的被處理流動體流過的、被密封了的流路的一部分，上述第1處理用部和第2處理用部 中，至少第2處理用部具備受壓面，且該受壓面的至少一部分由上述的第2處理用面構成，該 受壓面受到上述流體壓力賦予機構賦予被處理流動體的壓力，產生在使第2處理用面從第1 處理用面分離的方向移動的力，通過在可接近·分離且相對地進行旋轉的第1處理用面和 第2處理用面之間使上述的賦予了壓力的被處理流動體通過，上述被處理流動體形成上述 薄膜流體，在該薄膜流體中進行上述銅酞菁微粒的析出。
[0030] 本發明的第14方式為本發明的第13方式涉及的銅酞菁微粒的制造方法，其特征在 于，在上述第1處理用面和第2處理用面之間通過一種被處理流動體，具備與上述的一種被 處理流動體不同的其它的一種被處理流動體通過的獨立的另外的導入路，與該導入路相通 的至少一個開口部設于上述第1處理用面和第2處理用面的至少任一方，從該導入路將上述 其它的一種被處理流動體導入上述兩處理用面之間，在上述薄膜流體中混合上述一種被處 理流動體和其它的一種被處理流動體。
[0031] 本發明的第15方式，為本發明的第14方式涉及的銅酞菁微粒的制造方法，其特征 在于，上述被處理流動體的混合，在比上述一種被處理流動體的流動在上述兩處理用面間 形成層流的點的下游側設置上述開口部、從上述開口部導入上述的其他的一種被處理流動 體而進行。
[0032]發明的效果
[0033] 本發明可提供含有至少一種為與α型不同的結晶型、且在380~780nm中的吸收光 譜為α型的吸收光譜形狀的銅酞菁微粒而成的銅酞菁顏料及上述銅酞菁微粒的制造方法。 不需要用于使結晶型變化的大量的能量，可改善上述舉出的以往的問題。
[0034] 而且特別是在本發明的第4或第5方式中，可以提供含有至少一種以下的銅酞菁微 粒的銅酞菁顏料:所述銅酞菁微粒為在粉末X射線衍射測定中結晶型為與α型及ε型的2種型 不同的結晶型的銅酞菁微粒，特別是結晶型為β型及γ型的2種型中的任意的結晶型的銅酞 菁微粒，且在380~780nm中的透射光譜中的透射率達到最大的波長(Amax)低于478nm的銅 酞菁微粒。即，通過本申請
【申請人】能夠以與α型相比耐溶劑性優異的結晶型的方式提供專利 文獻3中提供的分光特性的銅酞菁。
【附圖說明】
[0035] 圖1是本發明的實施方式涉及的流體處理裝置的概略剖面圖。
[0036]圖2(A)是圖1中所示的流體處理裝置的第1處理用面的概略平面圖，（B)是同裝置 的處理用面的主要部分放大圖。
[0037] 圖3(A)是同裝置的第2導入路的剖面圖，（B)是用于說明同第2導入部的處理用面 的主要部分放大圖。
[0038] 圖4為本發明的實施例1中制作的銅酞菁微粒分散液的吸收光譜(實線）及對于專 利文獻3中提供的含有結晶型為α型、且在380~780nm中的透射光譜中的透射率達到最大的 波長(A max)低于478nm的銅酞菁而成的銅酞菁顏料的吸收光譜(實線上白圈）。
[0039] 圖5為本發明的實施例1中制作的銅酞菁微粒分散液的透射光譜(實線）及對于專 利文獻3中提供的含有結晶型為α型、且在380~780nm中的透射光譜的透射率達到最大的波 長(Amax)低于478nm的銅酞菁而成的銅酞菁顏料的透射光譜(實線上白圈）。
[0040] 圖6為本發明的實施例1中制作的銅酞菁微粒的粉末X射線衍射光譜。
[0041]圖7為本發明的實施例6中制作的銅酞菁微粒的粉末X射線衍射光譜。
[0042] 圖8為本發明的實施例5中制作的銅酞菁微粒的粉末X射線衍射光譜。
[0043] 圖9為本發明的實施例1中制作的銅酞菁微粒的TEM照片。
【具體實施方式】
[0044] 本發明為以下的銅酞菁顏料:其為含有粉末X射線衍射圖中所示的與α型不同的銅 酞菁微粒，特別是β型（圖6)、γ型（圖7)及ε型（圖8)的3種型的任意的結晶型的銅酞菁微粒 的銅酞菁顏料，且含有至少一種由在圖4中用實線表示的吸收光譜或在圖5中用實線表示的 透射光譜所示的銅酞菁微粒。另外，本發明中的銅酞菁顏料含有如銅酞菁微粒的磺化物、氫 氧化物這樣的銅酞菁衍生物。另外，也可以含有在銅酞菁微粒的表面導入了氫氧基、磺基等 的官能團的銅酞菁顏料來實施。除此之外，在本發明涉及的銅酞菁顏料中，也可以含有與α 型不同的多種的結晶型的銅酞菁微粒。
[0045] 如圖6~圖8中所發現那樣，在粉末X射線衍射光譜中，衍射強度達到峰的衍射角與 各個結晶型（圖6為β型(穩定型），圖7為γ型，圖8為ε型）的銅酞菁一致，因此可以判斷本發 明中的銅酞菁的結晶型與α型不同，另外，如圖4中用實線表示的吸收光譜中所發現那樣，可 知為在380~780nm中的吸收光譜形狀為α型的銅酞菁。在本發明涉及的銅酞菁中，所謂吸收 光譜形狀為α型是指在波長區域380~780nm中的吸收光譜中，在600±15nm及680±15nm區 域具有峰的吸收光譜形狀。進而，如圖5中用實線表示的透射光譜中所發現那樣，可知為在 波長區域380~780nm中的透射光譜的透射率達到最大的波長(Amax)低于478nm的銅酞菁。 本發明中的吸收光譜或透射光譜的測定方法沒有特別限定。可以舉出例如對銅酞菁顏料的 水溶液系或有機溶劑系分散液測定吸收或透射光譜的方法、對于涂布于玻璃、透明電極或 膜等上來進行測定的方法。另外，圖4、圖5都對實線實施了白圈的光譜，是對于本申請申請 人在專利文獻3中所提供的、含有結晶型為α型、且在380~780nm中的透射光譜的透射率達 到最大的波長(Amax)低于478nm的銅酞菁而成的銅酞菁顏料的吸收光譜以及透射光譜，與 本發明中的銅酞菁微粒的吸收·透射光譜相比，可知形狀基本沒有差異。
[0046] 作為本發明中得到銅酞菁顏料的制造方法沒有特別限定。可以通過以粉碎法為代 表的Break-down法來實施，也可以通過Bui ld-up法來實施。另外，也可以通過新型地合成 來實施。
[0047] 作為本發明的銅酞菁顏料的制造方法的一個例子，可以使用銅酞菁微粒的制造方 法，該方法的特征在于，在混合含有在溶劑中熔解了銅酞菁的銅酞菁溶液的流體和含有對 于銅酞菁為不良溶劑的溶劑的流體來使銅酞菁析出而制造銅酞菁微粒的方法中，使上述的 各流體在可接近·分離地相互對向配設的至少一方相對于另一方進行旋轉的處理用面之 間形成的薄膜流體中混合，在該薄膜流體中使銅酞菁微粒析出。以下，對該制造方法進行說 明。但是，該制造方法僅為一個例子，本發明并不限定于該制造方法。需要說明的是，在上述 溶劑中溶解前的銅酞菁的結晶型沒有限定，代表性的α型、β型及ε型當然可以使用，各種結 晶型的銅酞菁也可使用。除此之外，也可以使用含有顏料化工序之前的銅酞菁、非晶銅酞菁 而成的銅酞菁。對于粒徑也沒有特別限定。
[0048]以下，對于可以在該方法中使用的流體處理裝置進行說明。
[0049] 圖1~圖3中所示的流體處理裝置，為與專利文獻3中所記載的裝置同樣，為如下裝 置:在可以接近?分離的至少一方相對于另一方相對地旋轉的處理用部中的處理用面之間 處理被處理物，即，將被處理流動體中的作為第1被處理流動體的第1流體導入處理用面間， 從與導入了上述第1流體的流路獨立、具備與處理用面間的開口部連通的其它流路將被處 理流動體中的第2被處理流動體即第2流體導入處理用面間，在處理用面間將上述第1流體 和第2流體進行混合?攪拌來進行處理。需要說明的是，在圖1中，U表示上方，S表示下方，在 本發明中，上下前后左右僅限于表示相對的位置關系，并不特定絕對的位置。在圖2(A)、圖3 (B)中，R表示旋轉方向。在圖3(B)中，C表示離心力方向（半徑方向）。
[0050] 該裝置為如下裝置:作為被處理流動體使用至少2種流體，對于其中至少1種流體， 包含至少1種被處理物，具備可以接近·分離地相互對向配設的至少一方相對于另一方旋 轉的處理用面，在這些處理用面之間使上述各流體合流而形成薄膜流體，在該薄膜流體中 處理上述被處理物。該裝置如上所述，可以處理多個被處理流動體，但也可以處理單一的被 處理流動體。
[0051] 該流體處理裝置具備對向的第1及第2的2個處理用部10、20,至少一方處理用部進 行旋轉。兩處理用部10、20的對向的面分別成為處理用面。第1處理用部10具備第1處理用面 1，第2處理用部20具備第2處理用面2。
[0052]兩處理用面1、2與被處理流動體的流路連接，構成被處理流動體的流路的一部分。 該兩處理用面1、2間的間隔可以適宜變更進行實施，通常調整為1mm以下、例如Ο.?μπι至50μπι 左右的微小間隔。由此，通過該兩處理用面1、2間的被處理流動體，成為由兩處理用面1、2所 強制的強制薄膜流體。
[0053]在使用該裝置處理多個被處理流動體的情況下，該裝置與第1被處理流動體的流 路連接，形成該第1被處理流動體的流路的一部分，同時，形成與第1被處理流動體不同的第 2被處理流動體的流路的一部分。而且，該裝置進行如下流體的處理:使兩流路合流，在處理 用面1、2間，混合兩被處理流動體，使其反應等。需要說明的是，在此，"處理"并不限于被處 理物反應的方式，也包含不伴隨反應而僅進行混合?分散的方式。
[0054]具體地進行說明時，具備:保持上述第1處理用部10的第1托架11、保持第2處理用 部20的第2托架21、接面壓力賦予機構、旋轉驅動機構、第1導入部dl、第2導入部d2和流體壓 力賦予機構P。
[0055]如圖2(A)所示，在該實施方式中，第1處理用部10為環狀體，更詳細而言，其為圈狀 的圓盤。另外，第2處理用部20也為圈狀的圓盤。第1、第2處理用部10、20的材質除金屬之外， 可以采用對陶瓷或燒結金屬、耐磨耗鋼、藍寶石、其它金屬實施有固化處理的材料或將硬質 材料實施有加襯或涂層、鍍敷等的材料。在該實施方式中，兩處理用部1 〇、20，相互對向的第 1、第2處理用面1、2的至少一部分被鏡面研磨。
[0056] 該鏡面研磨的面粗糙度沒有特別限定，優選設為RaO.01~Ι.Ομπι，更優選為RaO.03 ~0 · 3μπι〇
[0057]至少一方的托架可以用電動機等旋轉驅動機構（無圖示）相對于另一方的托架相 對進行旋轉。圖1的50表示旋轉驅動機構的旋轉軸，在該例中，該旋轉軸50上所安裝的第1托 架11進行旋轉，該第1托架11上所支承的第1處理用部10相對于第2處理用部20進行旋轉。當 然，可以使第2處理用部20旋轉，也可以使兩者旋轉。另外，在該例中，將第1、第2托架11、21 固定，使第1、第2處理用部10、20相對于該第1、第2托架11、21旋轉也是可以的。
[0058] 第1處理用部10和第2處理用部20至少任一方可與至少任意另一方接近?分離，兩 處理用面1、2可以接近·分離。
[0059] 在該實施方式中，第2處理用部20相對于第1處理用部10接近?分離，在設置于第2 托架21的收容部41中可以可出沒地收容第2處理用部20。但是也可以與其相反地、第1處理 用部10相對于第2處理用部20接近?分離，也可以兩處理用部10、20相互接近·分離。
[0060] 該收容部41為第2處理用部20的主要收容與處理用面2側相反側的部位的凹部，從 平面看，其為呈現圓的即形成為環狀的槽。該收容部41具有可以使第2處理用部20旋轉的充 分的間隙，收容第2處理用部20。需要說明的是，第2處理用部20以在軸方向可以僅進行平行 移動的方式配置，通過增大上述間隙，第2處理用部20也可以以消除與上述收容部41的軸方 向平行的關系的方式使處理用部20的中心線相對于收容部41傾斜而位移，進而，可以以第2 處理用部20的中心線和收容部41的中心線在半徑方向偏離的方式進行位移。
[0061] 這樣，希望通過3維且可以位移地保持的浮動機構來保持第2處理用部20。
[0062] 上述被處理流動體，在通過由各種栗、位置能量等構成的流體壓力賦予機構ρ賦予 壓力的狀態下，從第1導入部dl和第2導入部d2導入兩處理用面1、2間。在該實施方式中，第1 導入部dl為設置在環狀的第2托架21的中央的流體的通路，其一端從環狀的兩處理用部10、 20的內側被導入兩處理用面1、2間。第2導入部d2向處理用面1、2供給和第1被處理流動體進 行反應的第2被處理流動體。在該實施方式中，第2導入部d2為設置于第2處理用部20的內部 的通路，其一端在第2處理用面2上開口。通過流體壓力賦予機構p所加壓的第1被處理流動 體從第1導入部dl被導入兩處理用部10、20的內側的空間，通過第1處理用面1和第2處理用 面2之間，在兩處理用部10、20的外側穿過。在這些處理用面1、2間，從第2導入部d2供給通過 流體壓力賦予機構P所加壓的第2被處理流動體，與第1被處理流動體合流，進行混合、攪拌、 乳化、分散、反應、晶出、晶析、析出等各種流體處理，從兩處理用面1、2排出至兩處理用部 10、20的外側。需要說明的是，也可以通過減壓栗使兩處理用部10、20的外側的環境為負壓。 [0063]上述接面壓力賦予機構將作用于使第1處理用面1和第2處理用面2接近的方向的 力賦予處理用部。在該實施方式中，接面壓力賦予機構設置在第2托架21上，將第2處理用部 20向第1處理用部10賦能。
[0064] 上述接面壓力賦予機構，為用于產生第1處理用部10的第1處理用面1和第2處理用 部20的第2處理用面2壓在進行接近的方向（以下稱為接面壓力）的機構，通過與使該接面壓 力和流體壓力等兩處理用面1、2間分離的力的均衡，產生具有nm單位至μπι單位的微小的膜 厚的薄膜流體。換言之，通過上述力的均衡，將兩處理用面1、2間的間隔保持在規定的微小 間隔。
[0065]在圖1所示的實施方式中，接面壓力賦予機構配位于上述收容部41和第2處理用部 20之間。具體而言，由向將第2處理用部20靠近于第1處理用部10的方向賦能的彈簧43和導 入空氣、油等賦能用流體的賦能用流體的導入部44構成，通過彈簧43和上述賦能用流體的 流體壓力賦予上述接面壓力。該彈簧43和上述賦能用流體的流體壓力賦予任一方即可，可 以為磁力或重力等其它的力。抵抗該接面壓力賦予機構的賦能，由于通過流體壓力賦予機 構P所加壓的被處理流動體的壓力、粘性等產生的分離力，第2處理用部20遠離第1處理用部 10,在兩處理用面間打開微小的間隔。這樣，利用該接面壓力和分離力的平衡，以Mi單位的 精度設定第1處理用面1和第2處理用面2,進行兩處理用面1、2間的微小間隔的設定。作為上 述分離力，可以舉出被處理流動體的流體壓或粘性和處理用部的旋轉形成的離心力、對賦 能用流體導入部44施加負壓時的該負壓、將彈簧43制成抗張彈簧時的彈簧的力等。該接面 壓力賦予機構不是第2處理用部20,可以設置于第1處理用部10,也可以設置于兩者。
[0066] 對上述分離力進行具體說明時，第2處理用部20與上述第2處理用面2同時具備位 于第2處理用面2的內側（即，被處理流動體向第1處理用面1和第2處理用面2之間的進入口 偵D而與該第2處理用面2鄰接的分離用調整面23。在該例中，分離用調整面23作為傾斜面被 實施，但也可以為水平面。被處理流動體的壓力作用于分離用調整面23,產生使第2處理用 部20從第1處理用部10分離的方向的力。因此，用于產生分離力的受壓面成為第2處理用面2 和分離用調整面23。
[0067] 進而，在該圖1的例中，在第2處理用部20中形成有近接用調整面24。該近接用調整 面24,為與分離用調整面23在軸方向上相反側的面(在圖1中為上方的面），被處理流動體的 壓力發生作用，產生使第2處理用部20向第1處理用部10接近的方向的力。
[0068]需要說明的是，作用于第2處理用面2及分離用調整面23的被處理流動體的壓力、 即流體壓，可理解為構成機械密封中的開啟力的力。投影于與處理用面1、2的接近?分離的 方向、即第2處理用部20的出沒方向（在圖1中為軸方向）正交的假想平面上的近接用調整面 24的投影面積Al和投影于該假想平面上的第2處理用部20的第2處理用面2及分離用調整面 23的投影面積的合計面積A2的面積比A1/A2被稱為平衡比K，上述開啟力的調整上是重要 的。對該開啟力而言，可以通過變更上述平衡線、即近接用調整面24的面積Al，通過被處理 流動體的壓力、即流體壓進行調整。
[0069]滑動面的實面壓P、即接面壓力中的流體壓產生的壓力用下式進行計算。
[0070] P = PlX(K-k)+Ps
[0071] 在此，Pl表示被處理流動體的壓力即流體壓，K表示上述平衡比，k表示開啟力系 數，Ps表示彈簧及背壓力。
[0072] 通過利用該平衡線的調整調整滑動面的實面壓P而使處理用面1、2間為所期望的 微小間隙量，形成被處理流動體產生的流動體膜，將生成物等被處理了的被處理物制成微 細，另外，進行均勻的反應處理。
[0073]需要說明的是，省略圖示，也可以將近接用調整面24形成具有比分離用調整面23 還大的面積的面進行實施。
[0074]被處理流動體成為通過保持上述微小的間隙的兩處理用面1、2而被強制的薄膜流 體，移動至環狀的兩處理用面1、2的外側。但是，由于第1處理用部10旋轉，因此，所混合的被 處理流動體不會從環狀的兩處理用面1、2的內側向外側直線地移動，向環狀的半徑方向的 移動向量和向周方向的移動向量的合成向量作用于被處理流動體，從內側向外側大致漩渦 狀地移動。
[0075]另外，旋轉軸50并不限定于垂直配置的旋轉軸，可以為在水平方向配位的旋轉軸， 也可以為傾斜配位的旋轉軸。這是因為被處理流動體以兩處理用面1、2間的微細的間隔進 行處理，實質上可以排除重力的影響。另外，該接面壓力賦予機構通過與可位移地保持上述 第2處理用部20的浮動機構并用，也作為微振動、旋轉對準的緩沖機構起作用。
[0076]第1、第2處理用部10、20可以將其至少任一方進行冷卻或加熱而調整其溫度，在圖 1中，圖示有在第1、第2處理用部10、20上設有溫調機構(溫度調整機構)Jl，J2的例子。另外， 可以將所導入的被處理流動體進行冷卻或加熱而調整其溫度。這些溫度也可以用于所處理 的被處理物的析出，另外，也可以為了在第1、第2處理用面1、2間的被處理流動體上產生貝 納爾對流或馬朗格尼對流而設定。
[0077] 如圖2所示，可以在第1處理用部10的第1處理用面1上形成從第1處理用部10的中 心側向外側、即在徑方向伸長的槽狀的凹部13而實施。該凹部13的平面形狀，如圖2(B)所 示，可以為將第1處理用面1上彎曲或漩渦狀地伸長而成的形狀或沒有圖示，也可以為筆直 地向外方向伸長的形狀、L字狀等地屈曲或彎曲而成的形狀、連續而成形狀、斷續而成的形 狀、分支而成的形狀。另外，該凹部13也可作為形成于第2處理用面2而實施，也可作為形成 于第1及第2處理用面1、2的兩者而實施。通過形成這樣的凹部13可得到微栗效果，具有可在 第1及第2處理用面1、2間抽吸被處理流動體的效果。
[0078]希望該凹部13的基端達到第1處理用部10的內周。該凹部13的前端由于向第1處理 用部面1的外周面側伸長，其深度(橫截面積)采用伴隨從基端向前端逐漸減少的深度。 [0079]在該凹部13的前端和第1處理用面1的外周面之間設有沒有凹部13的平坦面16。 [0080] 在第2處理用面2上設有上述第2導入部d2的開口部d20的情況下，優選設置于與對 向的上述第1處理用面1的平坦面16對向的位置。
[0081 ] 該開口部d20,希望設置于比第1處理用面1的凹部13的下游側(在該例中為外側）。 特別希望設置于以下位置：即與從在通過微栗效果而導入時的流動方向以在處理用面間形 成的螺旋狀變換為層流的流動方向的點的外徑側的平坦面16對向的位置。具體而言，在圖2 (B)中，優選將從設置于第1處理用面1的凹部13的最外側的位置向直徑方向的距離η設為約 0.5mm以上。特別是在從流體中析出納米尺寸的粒子即納米微粒的情況下，希望在層流條件 下進行多個被處理流動體的混合和納米微粒的析出。
[0082]該第2導入部d2可以具有方向性。例如，如圖3(A)所示，來自上述第2處理用面2的 開口部d20的導入方向相對于第2處理用面2以規定的仰角（Θ1)傾斜。該仰角（Θ1)設為超過〇 度且小于90度，進而，在反應速度快的反應的情況下，優選以1度以上且45度以下設置。 [0083]另外，如圖3(B)所示，來自上述第2處理用面2的開口部d20的導入方向在沿上述第 2處理用面2的平面上具有方向性。該第2流體的導入方向在處理用面的半徑方向的成分中 為遠離中心的外方向，且在相對于進行旋轉的處理用面間中的流體的旋轉方向的成分中為 正向。換言之，以通過開口部d20的半徑方向即外方向的線段為基準線g，具有從該基準線g 向旋轉方向R的規定的角度(Θ2)。關于該角度(Θ2)，也優選設為超過0度且低于90度。
[0084] 該角度(Θ2)可以根據流體的種類、反應速度、粘度、處理用面的旋轉速度等各種的 條件進行變更而實施。另外，也可以使第2導入部d2完全不具有方向性。
[0085] 上述被處理流體的種類和其流路的數在圖1的例中設為2個，但可以為1個，也可以 為3個以上。在圖1的例中，從第2導入部d2在處理用面1、2間導入第2流體，該導入部可以設 置于第1處理用部10,也可以設置于兩者。另外，可以對一種被處理流體準備多個導入部。另 外，對設置于各處理用部的導入用的開口部而言，其形狀或大小或數量沒有特別限制，可以 適宜變更而實施。另外，可以就在上述第1及第2處理用面間1、2之前或更上游側設置導入用 的開口部。
[0086]在上述裝置中，如圖1所示，可以在可接近?分離地相互對向配設的至少一方相對 于另一方旋轉的處理用面1、2之間一邊強制地均勻混合一邊引起析出?沉淀或結晶化那樣 的反應。被處理了的被處理物的粒徑、單分散度，可通過適宜調整處理用部10、20的轉速、流 速、處理用面間的距離、被處理流動體的原料濃度或被處理流動體的溶劑種類等來進行控 制。
[0087] 以下，對本發明的銅酞菁微粒生成的反應更詳細地進行說明。
[0088] 首先，從作為一個流路的第1導入部dl、將作為第1流體的含有相對于銅酞菁溶液 能成為不良溶劑的流體導入可接近?分離地相互對向配設的、至少一方相對于其它一方進 行旋轉的處理用面1、2間，在該處理用面間作成由第1流體構成的薄膜流體。
[0089] 接著從作為其它流路的第2導入部d2,作為第2流體的含有在溶劑中溶解了作為反 應物的銅酞菁的銅酞菁溶液的流體，直接導入上述由第1流體所構成的薄膜流體中。需要說 明的是，上述的第1流體和第2流體中，使得在至少任意一方中含有可將后述的一般的銅酞 菁轉變成與α型不同的結晶型的有機溶劑。
[0090] 如上所述，在通過流體的供給壓力與施加于旋轉的處理用面之間的壓力的壓力平 衡而控制了距離的處理用面1、2間，第1流體和第2流體可作在維持為薄膜狀態下瞬間地被 混合，進行銅酞菁微粒生成的反應。
[0091] 予以說明的是，由于只要在處理用面1、2間進行上述反應即可，因此也可以與上述 相反地，從第1導入部dl導入第2流體，從第2導入部d2導入第1流體。即，各溶劑中所謂第1、 第2的表述，只不過是具有存在有多種溶劑的第η種這樣的、用于識別的意思而已，也可以存 在第3以上的溶劑。
[0092]作為第1流體和第2流體的組合，沒有特別限定，只要為含有將銅酞菁溶解在溶劑 中的銅酞菁溶液的流體和含有對于銅酞菁為不良溶劑的溶劑的流體就可以實施。對于銅酞 菁為不良溶劑的溶劑，是指與溶解了銅酞菁的溶劑相比對銅酞菁的溶解度低的可成為不良 溶劑的溶劑。
[0093]如上所述，除第1導入部dl及第2導入部d2之外，也可以在處理裝置設置第三導入 部d3,在該情況下，可以例如從各導入部將含有作為第1流體、第2流體及第3流體的上述有 機溶劑的流體分別各自地導入處理裝置。這樣，可以分別對各溶液的濃度、壓力進行管理， 可更精密地控制析出反應及納米微粒的粒徑的穩定化。需要說明的是，向各導入部導入的 被處理流動體(第1流體~第3流體)的組合，可以任意設定。在設有第4以上的導入部的情況 下也同樣，這樣可以將向處理裝置導入的流體進行細分化。該情況下，上述有機溶劑可至少 在上述第3流體中含有，可以在上述的第1流體、上述的第2流體中的至少任一方含有，也可 以在上述的第1流體及第2流體的兩方中含有。進而，也可控制上述第1、第2流體等飛被處理 流動體的溫度、或控制上述第1流體和第2流體等的溫度差（即供給的各被處理流動體的溫 度差）。為了控制供給的各被處理流動體的溫度、溫度差，也實施為:附加測定各被處理流動 體的溫度(就要導入處理裝置、更詳細而言處理用面1、2間之前的溫度）、進行導入處理用面 1、2間的各被處理流動體的加熱或冷卻的機構。
[0094] 例如，作為用于溶解銅酞菁的溶劑并不作特別限定，例如在酸性水溶液的情況下 可使用硫酸，鹽酸，硝酸，三氟乙酸，磷酸等。特別是在制作被表面處理了的銅酞菁微粒的情 況下，優選使用發煙硫酸、發煙硝酸等。除此之外，也可使用如下物質：1_甲基-2-吡咯烷酮、 1，3-二甲基-2-咪唑啉酮、2-吡咯烷酮、ε -己內酰胺、甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N，N-二甲基甲 酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰胺、Ν，Ν-二甲基乙酰胺、N-甲基丙酰胺、六甲基磷酰三胺那樣的酰 胺系溶劑、二甲基亞砜、吡啶、或者這些物質的混合物等。另外，也可以實施為，通過添加到 在有機溶劑中添加了堿或酸的物質的溶液而將銅酞菁溶解來形成銅酞菁溶液。作為添加在 上述有機溶劑中的堿可舉出氫氧化鈉，氫氧化鉀，甲醇鈉，乙醇鈉等。作為酸，與上述同樣， 可舉出硫酸，鹽酸，硝酸，三氟乙酸，磷酸等。
[0095] 作為能夠形成用于使銅酞菁析出的不良溶劑的溶劑，并不作特別限定。可使用與 上述溶解了銅酞菁的溶劑相比對銅酞菁的溶度低的溶劑來實施。例如，優選選自以下：水， 醇系溶劑，酮系溶劑，醚系溶劑，芳香族系溶劑，二硫化碳，脂肪族系溶劑，腈系溶劑，亞砜系 溶劑，鹵素系溶劑，酯系溶劑，離子性溶液，或它們2種以上的混合溶劑。
[0096] 優選在含有上述可成為不良溶劑的溶劑的流體或者上述含有銅酞菁溶液的流體 中的任一者或該兩者中含有至少一種上述的溶劑內一般可將銅酞菁轉換成與α型不同的結 晶型的有機溶劑，另外，也可以在與上述含有可成為不良溶劑的溶劑的流體和上述含有銅 酞菁溶液的流體均不同的第3流體中含有上述有機溶劑。作為可將銅酞菁轉變成與α型不同 的結晶型的有機溶劑，沒有特別限定，可以舉出芳香族化合物溶劑、酮化合物溶劑、鹵素化 合物溶劑、醚化合物溶劑、酯化合物溶劑、脂肪族化合物溶劑、醇化合物溶劑等。其中，優選 轉變速度快的芳香族化合物溶劑、醚化合物溶劑、酮化合物溶劑、鹵素化合物溶劑，特別優 選芳香族化合物溶劑、醚化合物溶劑。
[0097] 作為芳香族化合物溶劑，沒有特別限定，舉出一例時，可以舉出苯、甲苯、二甲苯、 三甲苯、苯乙烯、甲酚、異丙苯、硝基苯、苯甲酸、水楊酸、萘等。
[0098] 作為醚化合物溶劑，沒有特別限定，舉出一例時，可以舉出四氫呋喃、四氫吡喃、四 氫噻吩、茴香醚、丙二醇單甲醚、環戊基甲醚、二甲醚、二乙醚、甲乙醚、二噁烷、碳酸亞丙酯 等。
[0099] 作為鹵素化合物溶劑，沒有特別限定，舉出一例時，可以舉出二氯甲烷、三氯甲烷、 全氯乙烯、溴丙烷、氯仿、三氯乙烯、二氯苯、三氯苯等。
[0100] 作為酮化合物溶劑，沒有特別限定，舉出一例時，可以舉出丙酮、甲乙酮、甲基異丁 基酮、DIBK(二異丁基酮）、環己酮、DAA(二丙酮醇)等。
[0101]作為酯化合物溶劑，沒有特別限定，舉出一例時，可以舉出乙酸乙酯、乙酸甲酯、乙 酸丁酯、乙酸甲氧基丁酯、乙酸溶纖劑、乙酸戊酯、乙酸正丙酯、乙酸異丙酯、乳酸甲酯、乳酸 乙酯、乳酸丁酯等。
[0102] 作為醇化合物溶劑，可以舉出例如甲醇、乙醇、異丙醇、正丙醇、1-甲氧基-2-丙醇 等，進而，可以舉出正丁醇等的直鏈醇，2-丁醇、叔丁醇等的支鏈狀醇，乙二醇、二乙二醇等 的多元醇，丙二醇單甲醚等。
[0103] 作為脂肪族化合物溶劑，例如可以舉出己烷、戊烷、辛烷、環己烷等。
[0104] 進而，可以在含有銅酞菁溶液的流體或者含有相對于銅酞菁為不良溶劑的溶劑的 流體或這兩者中含有嵌段共聚物、高分子聚合物、表面活性劑等的分散劑。另外，上述的分 散劑也可以在與上述含有銅酞菁溶液的流體及含有相對于銅酞菁為不良溶劑的溶劑的流 體均不同的第3流體中含有。
[0105] 作為表面活性劑及分散劑，可使用用于顏料的分散用途的各種各樣的市售品。并 不作特別限制，可舉出例如十二烷基硫酸鈉 、Neogen R-K(第一工業制藥公司制品）那樣的 十二烷基苯橫酸系，so I sperse2〇000、so lsper se24000、so lsper se26〇00、so Isperse27OOCK solsperse28000、solsperse41090(以上為Avecia公司制品），DisperBYK160、 DisperBYK161、DisperBYK162、DisperBYK163、DisperBYK166、DisperBYK170、 DisperBYKl80、DisperBYK18I、DisperBYKl82、DisperBYKl83、DisperBYK184、 DisperBYK190、DisperBYK191、DisperBYK192、DisperBYK2000、DisperBYK2001(WlSByk-Chemie公司制品），Polymer100 、Polymerl20、Polymerl50'Polymer400'Polymer401、 Polymer402、Polymer403、Polymer450、Polymer451、Polymer452、Polymer453、EFKA_46、 EFKA-47、EFKA-48、EFKA-49、EFKA-1501、EFKA-1502、EFKA-4540、EFKA-4550(以上為EFKA Chemical公司制品），FL0WLEN D0PA-158、FL0WLEN D0PA-22、FL0WLEN D0PA-17、FL0WLEN G-700、FL0WLEN TG-720W、FL0WLEN-730W、FL0WLEN-740W、FL0WLEN-745W(以上為共榮化學公司 制品），AJISPER PA111、AJISPER PB711、AJISPER PB811、AJISPER PB821、AJISPER PW911 (以上為味之精公司制品），J0NCRYL678、J0NCRYL679、J0NCRYL62(以上為Johnson Polymer 公司制品），ACUAL0N KH-10、HITEN0L NF-13 (以上為第一工業制藥公司制品）等。這些可以 單獨使用，也可以2種以上并用。
[0106] 另外，對于對銅酞菁微粒進行表面處理的情況，以下進行說明。
[0107] 利用在銅酞菁微粒的至少表面上導入修飾基團的表面處理，可通過在導入處理用 面1、2間的流體中含有表面修飾劑來實施。上述表面修飾劑，可以在含有銅酞菁溶液的流體 (第1流體)或含有對于銅酞菁為不良溶劑的溶劑的流體(第2流體）中的任一者或其兩者中 含有，也可以在與上述含有銅酞菁溶液的流體及含有對于銅酞菁為不良溶劑的溶劑的流體 均不同的第3流體中含有。另外，作為第1流體及第2流體的組合，不特別限定于上述的組合。
[0108] 作為表面修飾基團至少在顏料表面導入的修飾基團的種類沒有特別限定，在表面 處理的目的是以分散性的提高為目的的情況下，例如可根據以分散為目的的溶劑、分散劑 種類分開使用即可。可以舉出例如具有酸性基團或堿性基團等的極性基團、上述極性基團 的鹽結構、導入了氧、硫等的極性大的原子及/或芳香環等的極化率大的結構、氫鍵合性基 團、雜環、芳香環等的修飾基團等。作為酸性基團，可以舉出氫氧基(羥基）、磺酸基(磺基）、 羧酸基、磷酸基、硼酸基等。作為堿性基團，可以舉出氨基等。作為氫鍵合性基團，可以舉出 氨基甲酸酯部位、硫代氨基甲酸酯部位、脲部位、硫脲部位等。
[0109] 在表面處理的目的為分散性的提高以外的情況下，例如在使銅酞菁微粒的表面為 疏水性、親油性或親有機溶劑性的情況下，通過在上述第1流體或者第2流體或其兩者中含 有含親油性官能團的表面修飾劑，可在從處理用面1、2間排出的銅酞菁微粒的表面導入作 為修飾基團的親油性官能團，進行親油性處理。另外，上述表面修飾劑也可以在與上述第1 流體和上述第2流體均不同的第3流體中含有。
[0110]在銅酞菁微粒的表面上實施附加作為表面修飾劑的樹脂的處理的情況下，通過在 上述第1流體或者第2流體或其兩者中含有包含樹脂的物質，可以將從處理用面1、2間排出 的銅酞菁微粒的表面的至少一部分用樹脂覆蓋，可進行例如親水性處理。另外，上述樹脂也 可以在與上述第1流體和上述第2流體均不同的第3流體中含有。
[0111] 上述的表面處理，并不限于如上所述在處理用面1、2間進行銅酞菁微粒的表面修 飾的情況，也可以在銅酞菁微粒從處理用面1、2間排出后實施。此時，將以上述的銅酞菁微 粒的表面處理為目的而使用的物質添加到含有銅酞菁微粒的流體從處理用面1、2間排出后 的其排出液中，通過攪拌等的操作可進行銅酞菁微粒的表面處理。另外，也可以如下實施： 在含有銅酞菁微粒的流體被排出后，通過透析管等在從含有該銅酞菁微粒的流體中除去雜 質后加入以表面處理為目的的物質。另外，也可以將從處理用面1、2間排出的含有銅酞菁微 粒的流體的液體成分干燥而形成銅酞菁微粒粉體后進行上述表面處理。具體而言，可如下 實施:將得到的銅酞菁微粒粉體分散在目標溶劑中，加入以上述的表面處理為目的的物質 而實行攪拌等的處理來實施。
[0112] 本申請發明中的銅酞菁顏料微粒的制造方法(強制超薄膜旋轉式反應法），由于可 以自由地使微小流路的雷諾數變化，因此可根據粒徑、粒子形狀、結晶型等目的作成單分散 的再分散性良好的銅酞菁微粒。而且，由于其自我排出性，即使在伴有析出的反應的情況 下，也沒有生成物的堵塞，不需要大的壓力。所以，能夠穩定地制作銅酞菁微粒，另外安全性 優異，幾乎沒有雜質的混入，清洗性也良好。進而由于可根據目標生產量來進行放大，因此 可提供生產率也高的銅酞菁顏料微粒的制造方法。
[0113] 本發明涉及的銅酞菁顏料為藍色的顏料，作為用途可在涂料、染料、噴墨用油墨、 熱轉印用油墨、調色劑、著色樹脂、濾色器等的各種各樣的用途中利用。
[om]實施例
[0115]以下對于本發明，示出以下的實施例:使用與本申請
【申請人】的、專利文獻3中記載 的裝置相同原理的裝置，制造作為結晶型與α型不同的銅酞菁微粒、且在380~780nm中的吸 收光譜形狀為α型的光譜形狀的銅酞菁微粒以及在380~780nm中的透射光譜的透射率達到 最大的波長(Xmax)低于478nm的銅酞菁微粒。但是，本發明并不限定于下述實施例。
[0116] 使用圖1中所示的在可接近?分離地相互對向配設、至少一方相對于另一方進行 旋轉的處理用面1、2之間形成的、在薄膜流體中均勻地進行攪拌?混合的裝置，混合將銅酞 菁溶解在溶劑中的銅酞菁溶液和相對于銅酞菁為不良溶劑的溶劑，在薄膜流體中使銅酞菁 微粒析出。此時，在上述銅酞菁溶液和相對于銅酞菁為不良溶劑的溶劑中，使得至少任一方 含有通常可以使銅酞菁轉變成與α型不同的結晶型的有機溶劑。
[0117] 予以說明的是，在以下的實施例中，所謂"從中央"，為上述的、圖1中所示的處理裝 置的"從第1導入部dl"的意思;第1流體是指上述的第1被處理流動體;第2流體是指上述的、 從圖1中所示的處理裝置的第2導入部d2導入的上述的第2被處理流動體。另外，此處的"份" 為"重量份"。
[0118] (體積平均粒徑）
[0119] 粒度分布，使用Nanotrac粒度分布測定裝置UPA-UT151〔日機裝公司制品〕進行測 定，采用體積平均粒徑。
[0120](粉末X射線衍射:XRD)
[0121] 在X射線衍射測定中，使用了 PANalytical公司制造的全自動多用途的X射線衍裝 置(X'Pert PRO MPD)。測定在衍射角2Θ = 5~60°的范圍的衍射強度。
[0122] (吸收?透射光譜）
[0123] 吸收或透射光譜使用島津制作所制的紫外可見分光光度計(UV-2450)測定380nm ~780nm的波長區域。本發明中的銅酞菁的吸收光譜為α型這樣的特性，以與一般的α型銅酞 菁的吸收光譜形狀相同作為評價基準。如上所述，在本發明的銅酞菁中，其吸收光譜形狀為 α型是指在380nm~780nm的波長區域中在600± 15nm及680± 15nm的區域具有峰的吸收光譜 形狀。
[0124] (實施例1~6)
[0125] 作為實施例1，一邊從中央將作為第1流體的25°C的間二甲苯和乙二胺的混合溶劑 以供給壓力=0.30MPaG、轉速1700rpm進行送液、一邊將作為第2流體的將結晶型為β型（結 晶型通過粉末X射線衍射確認）的銅酞菁溶解在三氟乙酸和二氯甲烷的混合溶劑中的銅酞 菁溶液導入處理用面1、2間。銅酞菁微粒分散液從處理用面1、2間排出。使排出的銅酞菁微 粒緩緩凝聚，用離心分離（X26000G)使其沉降。除去離心分離處理后的上清液，添加純水及 異丙醇的混合溶劑使銅酞菁微粒再次浮上后，再次重復離心分離，進行銅酞菁微粒的清洗。 在30°C、-0.1 MPaG下對最終得到的銅酞菁微粒的糊劑進行真空干燥。進行干燥后的銅酞菁 微粒粉末的XRD測定。進而在將作為分散劑的Disperbyk BYK-2146(BYK-Chemie公司制）溶 解于間二甲苯的溶液中進行分散處理。對于分散處理了的銅酞菁微粒分散液，在溶劑中使 用間二甲苯進行粒度分布測定。另外，使用間二甲苯對銅酞菁微粒的間二甲苯分散液的一 部分進行稀釋，測定銅酞菁濃度〇. 〇〇5wt %的分散液的透射光譜以及0.0 Olwt %的分散液的 吸收光譜。
[0126] 在實施例2~6中，如表1中所示，變更第1流體和第2流體的種類、轉速、送液溫度 (各個流體就要被導入處理裝置前的溫度）以及導入速度(流量）（單位:ml/min.)來進行實 施。在本實施例(實施例1~6)中，作為對于銅酞菁為不良溶劑的溶劑，一般而言使用可以將 銅酞菁轉變成與α型不同的結晶型的有機溶劑。圖4中表示實施例1中制作的銅酞菁微粒分 散液的吸收光譜(實線），圖5表示實施例1中制作的銅酞菁微粒分散液的透射光譜(實線）， 圖6~圖8中表示實施例1(圖6)、實施例6(圖7)及實施例5(圖8)中分別制作的銅酞菁微粒的 粉末X射線衍射光譜。為了比較各實施例中制作的銅酞菁微粒分散液的光譜形狀，將對于本 申請
【申請人】在專利文獻3中所提供的、含有結晶型為α型且在380~780nm中的透射光譜的透 射率達到最大的波長(Amax)低于478nm的銅酞菁而成的銅酞菁顏料的吸收光譜(實線上白 圈）以及透射光譜(實線上白圈)示于圖4~圖5。另外，將實施例1~6中制作的銅酞菁微粒或 其銅酞菁微粒分散液的XRD測定結果、體積平均粒徑、在380~780nm中的透射光譜的透射率 達到最大的波長(Amax)、在380~780nm中的吸收光譜形狀以及在380~780nm中的吸收光譜 的顯示峰位置的波長示于表1。另外，將實施例1中制作的銅酞菁微粒的TEM照片示于圖9。可 知得到的銅酞菁微粒的形狀為大致球形。如表1、圖4~圖8中所發現那樣，在本發明中，提供 含有結晶型為與α型不同的結晶型、且在380~780nm中的吸收光譜為α型的吸收光譜形狀的 銅酞菁微粒而成的銅酞菁顏料，或含有為與α型及ε型的2種型不同的結晶型、且在380~ 780nm中的透射光譜的透射率達到最大的波長(Amax)低于478nm的銅酞菁微粒而成的銅酞 菁顏料以及上述銅酞菁微粒的制造方法。即，可提供含有至少一種雖然為與α型不同的結晶 型、但具有與專利文獻3所提案的α型同等的分光特性、且與α型相比耐溶劑性優異的銅酞菁 微粒而成的銅酞菁顏料及上述銅酞菁微粒的制造方法。另外，可以制作構成上述銅酞菁顏 料的銅酞菁微粒的體積平均粒徑為1~600nm、具有與α型不同的結晶型、且控制了粒徑的銅 酞菁微粒，因此可以期待目標色調、著色力等的顏色特性的呈現。
[0127]
[0128] 符號的說明
[0129] 1 第1處理用面
[0130] 2 第2處理用面
[0131] 10第1處理用部
[0132] 11第1托架
[0133] 20第2處理用部
[0134] 21第2托架
[0135] 23分離用調整面
[0136] dl第1導入部
[0137] d2第2導入部
[0138] d20 開口部
[0139] p 流體壓力賦予機構
【主權項】
1. 一種銅酞菁微粒的制造方法，其特征在于，其為生成以下銅酞菁微粒的任一種的方 法： 為與α型不同的結晶型、且在380~780nm中的吸收光譜為α型的吸收光譜形狀的銅酞菁 微粒、 為與α型不同的結晶型、且在380~780nm中的吸收光譜中在600±15nm及680±15nm的 區域具有峰的銅酞菁微粒、 為與α型及ε型的2種型不同的結晶型、且在380~780nm中的透射光譜的透射率達到最 大的波長(Xmax)低于478nm的銅酞菁微粒， 向可接近?分離、且相對地進行位移的處理用面之間供給被處理流動體， 通過含有該被處理流動體的供給壓力和施加于進行旋轉的處理用面之間的壓力的向 接近方向的力與向分離方向的力的壓力的平衡，將處理用面間的距離維持為微小間隔， 通過將被維持為該微小間隔的2個處理用面間作為被處理流動體的流路，被處理流動 體形成薄膜流體， 在該薄膜流體中進行上述銅酞菁微粒的析出。2. 如權利要求1所述的銅酞菁微粒的制造方法，其特征在于， 使用至少2種被處理流動體， 其中至少一種被處理流動體為將銅酞菁溶解在溶劑中的銅酞菁溶液， 上述以外的流體中至少一種被處理流動體為對于銅酞菁成為不良溶劑的溶劑， 上述銅酞菁溶液和對于上述銅酞菁為不良溶劑的溶劑內，至少任一方的被處理流動體 含有至少一種有機溶劑， 在上述薄膜流體中混合上述的被處理流動體。3. 根據權利要求1所述的銅酞菁微粒的制造方法，其特征在于， 使用第1、第2、第3的至少3種的被處理流動體， 上述第1被處理流動體為將銅酞菁溶解在溶劑中的銅酞菁溶液， 上述第2被處理流動體為對于銅酞菁成為不良溶劑的溶劑， 上述第3被處理流動體含有至少一種有機溶劑， 在上述薄膜流體中混合上述全部的被處理流動體。4. 根據權利要求2或3所述的銅酞菁微粒的制造方法，其特征在于，上述有機溶劑含有 芳香族化合物溶劑、酮化合物溶劑、醚化合物溶劑、鹵素化合物溶劑中的至少一種。5. 根據權利要求1所述的銅酞菁微粒的制造方法，其特征在于， 具備:對上述的被處理流動體賦予壓力的流體壓力賦予機構；第1處理用部及相對于該 第1處理用部可接近?分離的第2處理用部的至少2個處理用部;和使上述的第1處理用部和 第2處理用部相對地進行旋轉的旋轉驅動機構， 在上述的各處理用部中相互對向的位置設有第1處理用面及第2處理用面的所述至少2 個處理用面， 上述的各處理用面構成上述的被賦予了壓力的被處理流動體流過的、被密封的流路的 一部分， 上述第1處理用部和第2處理用部中，至少第2處理用部具備受壓面，且該受壓面的至少 一部分由上述的第2處理用面構成， 該受壓面受到上述的流體壓力賦予機構賦予被處理流動體的壓力，而產生在使第2處 理用面從第1處理用面分離的方向移動的力， 通過在可接近?分離、且相對地進行旋轉的第1處理用面和第2處理用面之間使上述的 被賦予了壓力的被處理流動體通過，上述被處理流動體形成上述薄膜流體， 在該薄膜流體中進行上述銅酞菁微粒的析出。6. 根據權利要求5所述的銅酞菁微粒的制造方法，其特征在于， 一種被處理流動體在上述第1處理用面和第2處理用面之間通過， 具備與上述一種被處理流動體不同的其它的一種被處理流動體通過的獨立的另外的 導入路， 與該導入路相通的至少一個開口部設于上述第1處理用面和第2處理用面的至少任一 方， 從該導入路將上述的其它的一種被處理流動體導入上述兩處理用面間， 在上述薄膜流體中混合上述一種被處理流動體和其它的一種被處理流動體。7. 根據權利要求6所述的銅酞菁微粒的制造方法，其特征在于，上述被處理流動體的混 合，在比上述的一種被處理流動體的流動在上述兩處理用面間形成層流的點的下游側設置 上述開口部、從上述開口部導入上述的其它的一種被處理流動體來進行。
【文檔編號】C09B67/20GK105860577SQ201610205988
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2011年3月4日
【發明人】前川昌輝, 本田大介, 榎村真, 榎村真一
【申請人】M技術株式會社