高精度拋光液及其制備方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種化工用品，尤其涉及一種高精度拋光液及其制備方法。
【背景技術】
[0002]現有的高精度拋光液對各類氧化物、玻璃制品等表面去污清潔拋光效果較差，甚至會損壞制品表面。
【發明內容】
[0003]發明目的:本發明的第一目的是提供一種平化拋光效率較高的拋光液；本發明的第二目的是提供該拋光液的制備方法。
[0004]技術方案:本發明所述的高精度拋光液，包括如下重量份的組分:氧化鈰300-600份、硅酸鉀500-800份、硅溶膠50-100份、氫氟酸5_10份、氧化鋁10-20份、高錳酸鉀5_10份、二氧化硅5-10份和水200-500份。
[0005]其中，所述氧化鈰400份、硅酸鉀600份、硅溶膠80份、氫氟酸8份、氧化鋁15份、高錳酸鉀8份、二氧化硅8份和水300份。
[0006]本發明所述高精度拋光液的制備方法，包括如下步驟:
(1)將氧化鈰、二氧化硅和硅溶膠分散在水中，制得氧化鈰懸濁液；
(2)向氧化鋪懸濁液中加入氣氟酸，調節溶液pH為6-8；
(3)加入剩余組分，然后加熱至50-80°C，保溫l_2h，然后冷卻、靜置即可。
[0007]有益效果:本發明與現有技術相比，其顯著優點為:該拋光液拋光去污力高，拋光后的表面無劃痕和腐蝕缺陷，平整度高、易清洗；另外，本發明方法簡單易行，投資少、成本低，容易實現。
【具體實施方式】
[0008]實施例1
配方:氧化鈰300份、硅酸鉀500份、硅溶膠50份、氫氟酸5份、氧化鋁10份、高錳酸鉀5份、二氧化硅5份和水200份。
[0009]制備方法:首先，將氧化鈰、二氧化硅和硅溶膠分散在水中，制得氧化鈰懸濁液；其次，向氧化鋪懸濁液中加入氣氟酸，調節溶液pH為6-8 ;最后,加入剩余組分，然后加熱至50-80°C，保溫l_2h，然后冷卻、靜置即可。
[0010]實施例2
配方:氧化鈰600份、硅酸鉀800份、硅溶膠100份、氫氟酸10份、氧化鋁20份、高錳酸鉀10份、二氧化娃10份和水500份。
[0011 ] 制備方法與實施例1相同。
[0012]實施例3
配方:氧化鈰400份、硅酸鉀600份、硅溶膠80份、氫氟酸8份、氧化鋁15份、高錳酸鉀8份、二氧化硅8份和水300份。
[0013]制備方法與實施例1相同。
【主權項】
1.一種高精度拋光液，其特征在于包括如下重量份的組分:氧化鈰300-600份、硅酸鉀500-800份、硅溶膠50-100份、氫氟酸5_10份、氧化鋁10-20份、高錳酸鉀5_10份、二氧化硅5-10份和水200-500份。2.根據權利要求1所述的高精度拋光液，其特征在于:所述氧化鈰400份、硅酸鉀600份、硅溶膠80份、氫氟酸8份、氧化鋁15份、高錳酸鉀8份、二氧化硅8份和水300份。3.根據權利要求1所述高精度拋光液的制備方法，其特征在于包括如下步驟: (1)將氧化鈰、二氧化硅和硅溶膠分散在水中，制得氧化鈰懸濁液； (2)向氧化鋪懸濁液中加入氣氟酸，調節溶液pH為6-8； (3)加入剩余組分，然后加熱至50-80°C，保溫l_2h，然后冷卻、靜置即可。
【專利摘要】本發明公開了一種高精度拋光液及其制備方法，拋光液包括如下重量份的組分：氧化鈰300-600份、硅酸鉀500-800份、硅溶膠50-100份、氫氟酸5-10份、氧化鋁10-20份、高錳酸鉀5-10份、二氧化硅5-10份和水200-500份。優點為該拋光液拋光去污力高，拋光后的表面無劃痕和腐蝕缺陷，平整度高、易清洗；另外，本發明方法簡單易行，投資少、成本低，容易實現。
【IPC分類】C09G1/02
【公開號】CN105315893
【申請號】CN201410365433
【發明人】李堯
【申請人】李堯
【公開日】2016年2月10日
【申請日】2014年7月29日