專利名稱:醫療電子x射線攝影用鹵化稀堿熒光體的制作方法
本發明是一種適用于醫療電子X射線攝影用的熒光體。
一般電子X射線攝影是根據半導體的光電特性和靜電現象來提高電子攝影的圖象，常用的電子X射線攝影用的熒光體為(Zn·Cd)S∶Ag或Cd2O2S∶Tb。但是，把它們真空蒸鍍到硒極上卻需要很高的溫度，必需采用電子束流轟擊才能實現真空蒸鍍，用于生產存在著設備昂貴，電力消耗大，生產成本高等問題。此外，為提高軟X射線的效率，采用含有活性溴化銣(Rubidium bromide)和鹵化鉈(Thalium halogenide)熒光體的X射線轉換屏，其發光或熒光屏是用一定幅射能量激發含活化的鹵化稀堿發光物質;其中RbBr∶Tl對軟X線有很好的吸收和很好的發光效率。但是，這種熒光體因化學穩定性差目前僅用于X線增強管的玻璃質熒光屏。
根據上述存在的問題，為開拓鹵化稀堿熒光體在醫療電子X射線硒極攝影中的應用，本發明采用低熔點的鹵化稀堿熒光體，其特點是先制成YX∶Z高亮度的主峰波長為560nm的寬譜帶熒光體(其中Y一般為Cs;X為F、Cl、Br或I;Z為Tl或Eu2+，其發光光譜和光電導體的光譜靈敏曲線近于一致，有利于對X射線感光靈敏度的提高(見附圖1)，真空鍍膜僅需使用一般電爐加熱200-400℃便可實現，而不需使用電子束流轟擊。其另一特點是先對金屬基板蒸鍍上述熒光體，再蒸鍍硒，使熒光體很好地被隔絕空氣，避免了它與空氣中氧和水的化學作用，解決了這類熒光體的化學性質不穩定的問題。
采用本發明熒光體制造電子X射線含熒光體的硒感光板，真空蒸鍍熒光體的溫度低，不必使用電子束流轟擊，用一般電爐加熱便可將熒光體蒸鍍到硒基板上，使生產設備投資較低，電力消耗較小，生產成本降低，用作醫療X射線診斷時比普通硒板提高靈敏度一倍，X射線劑量可減少一半。
實施例按常規合成CsI和TLI，按摩爾比為CsI∶TLI＝1∶0.0037準確稱取CsI和TLI，加入少量無水乙醇研磨，混合均勻，烘干，在剛玉坩堝中，加蓋，250-400℃下灼燒10-60分鐘，制得白色的CsI∶TL熒光體。
將CsI∶TL熒光體放入真空鍍膜機內，200-450℃溫度下，真空蒸鍍CsI∶TL熒光體到基板上，然后按常規蒸鍍硒粉等，便可制得電子X射線硒感光板。
附圖為光導體的光譜靈敏曲線和熒光體發光光譜曲線。其中，縱座標為相對靈敏度，橫座標為波長。
a曲線為光導體的光譜靈敏度曲線〔引自《映像情報》VOl 13NO6p184(1981)〕。
b曲線為本發明CsI∶TL熒光體所測得的發光光譜曲線。
權利要求
1.一種鹵化稀堿熒光體其特征是醫療電子X射線攝影用鹵化稀堿熒光體，采用先制成高亮度的熒光體，再真空蒸鍍到硒感光基板上而成；
2.按權利要求
1所述高亮度、熒光體，其特征是制成YX∶Z高亮度鹵化稀堿熒光體，其中Y一般為Cs，X為鹵素，Z為Tl或Eu2+;
3.按權利要求
1所述真空蒸鍍，其特征是在溫度200-400℃時真空鍍膜YX∶Z熒光體，并不需要使用電子束流轟擊。
專利摘要
本發明研究出了一種醫用電子X射線攝影用鹵化稀堿熒光體。敘述了真空蒸鍍熒光體到硒基板上的工藝；它具有溫度低，不必使用電子束流轟擊等優點。
文檔編號C03C1/00GK85100259SQ85100259
公開日1986年7月16日 申請日期1985年4月1日
發明者何喜慶, 蔣昌武, 吳琳琍, 杜秀珍, 陳純 申請人:武漢大學導出引文BiBTeX, EndNote, RefMan