一種液相鍍膜裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型屬于鍍膜【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及到一種液相鍍膜裝置，包括儲(chǔ)液池，計(jì)量泵，溶液流動(dòng)板，傳輸柔性基底的傳輸帶以及收集裝置，所述的柔性基底經(jīng)傳輸帶輸送至水平位置，利用液相沉積方式，與溶液流動(dòng)板的水平位置接觸進(jìn)行鍍膜，利用柔性基底上表面的滾軸重力對鍍膜的柔性基底進(jìn)行壓合，鍍膜后的柔性基底經(jīng)烘干裝置，使鍍膜溶液與柔性基底凝固干燥，之后經(jīng)膜厚檢測儀對鍍膜厚度進(jìn)行在線控制，并通過在線控制模塊將此信息發(fā)給計(jì)量泵，及時(shí)調(diào)整計(jì)量泵出口溶液的流速或流量，實(shí)現(xiàn)鍍膜厚度可控；本實(shí)用新型的液相鍍膜裝置簡單易操作，通過將鍍膜裝置串聯(lián)或并聯(lián)，可實(shí)現(xiàn)低成本、連續(xù)化、多層多功能化鍍膜，有望實(shí)現(xiàn)工業(yè)化鍍膜的簡單裝置。
【專利說明】一種液相鍍膜裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于鍍膜【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及到一種液相鍍膜裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在各種新技術(shù)新科技不斷發(fā)展的今天，鍍膜工藝始終是工業(yè)生產(chǎn)中一項(xiàng)重要技術(shù)，特別是在防腐涂層，防靜電涂層，薄膜太陽能電池，平板顯示等方面，好的鍍膜工藝是產(chǎn)品成敗的關(guān)鍵所在。隨著目前的工業(yè)產(chǎn)品不斷朝著輕型化、微型化、廉價(jià)化發(fā)展，其對鍍膜的性價(jià)比要求也越來越高。
[0003]目前，比較成熟的鍍膜工藝主要有旋涂法、蒸鍍法、噴涂法等。其中旋涂法工藝雖然簡單，但是鍍膜厚度不易控制；蒸鍍法鍍膜均勻，厚度可控，但是設(shè)備昂貴，條件要求較高，不利于低成本的工業(yè)化生產(chǎn)；噴涂法鍍膜，其膜厚不易控制，且對成膜材料要求較高。鑒于目前鍍膜工藝的缺陷及新型工業(yè)化的需要，迫切尋求一種工藝簡單，易于工業(yè)化生產(chǎn)且鍍膜質(zhì)量可控的新型鍍膜裝置。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]為了克服目前鍍膜工藝的不足并適應(yīng)低成本，高質(zhì)量，易工業(yè)化的鍍膜要求，本實(shí)用新型提供了一種液相鍍膜裝置，該裝置不僅可以適應(yīng)柔性鍍膜，而且還可以有效控制鍍膜厚。
[0005]為此，本實(shí)用新型提供技術(shù)方案是一種液相鍍膜裝置，包括儲(chǔ)液池，位于儲(chǔ)液池上的溶液流動(dòng)板，所述的溶液通過輸送管輸送至計(jì)量泵，進(jìn)而輸送至溶液流動(dòng)板，所述的溶液流動(dòng)板上方一定高度差處設(shè)置傳輸帶滾軸，滾軸上纏繞柔性基底以及收集裝置，所述柔性基底與溶液流動(dòng)板的水平位置接觸進(jìn)行鍍膜，與液體流動(dòng)板接觸的柔性基底上表面設(shè)備滾軸；所述傳輸帶帶動(dòng)柔性基底運(yùn)動(dòng)，所述的收集裝置與流動(dòng)板間的柔性基底下方設(shè)置烘干裝置，加熱板與收集裝置間的柔性基底上設(shè)置膜厚檢測儀。
[0006]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，加熱板與收集裝置間的柔性基底上還設(shè)置在線控制模塊，所述控制模塊的一端連接于膜厚檢測儀，另一端連接于計(jì)量泵，便于隨時(shí)控制鍍膜厚度的均勻性，進(jìn)而隨時(shí)將信息反饋給計(jì)量泵，及時(shí)調(diào)整溶液的流速或流量。
[0007]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，溶液流動(dòng)板采用前端和后端為水平設(shè)計(jì)，中間為傾斜設(shè)計(jì)，便于漿料均勻地流出，使液體表面與柔性基底間形成穩(wěn)定的壓差，將溶液均勻地鍍在基底表面上；流動(dòng)板的材質(zhì)為聚四氟乙烯、金屬、不銹鋼、塑料、玻璃中的任意一種。
[0008]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，柔性基底可為柔性基底為聚乙烯醇(PVA)、聚酰亞胺(ro)、聚酯(pet)中的任意一種。
[0009]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，與溶液流動(dòng)板接觸的柔性基底上表面設(shè)置至少3個(gè)滾軸，其中至少有一個(gè)滾軸固定設(shè)置在柔性基底與溶液流動(dòng)板接觸起始處，其余的滾軸可沿水平方向運(yùn)動(dòng)，主要利用滾軸自身重力來壓合鍍膜溶液與柔性基底，使二者粘合更牢固，同時(shí)使柔性基底在水平方向與溶液接觸平整。
[0010]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，在柔性基底與溶液流動(dòng)板接觸間前，柔性基底上設(shè)置等離子處理器，等離子處理器對基底進(jìn)行預(yù)處理，使其與鍍膜溶液具有更好的親和力，便于鍍膜溶液與基底粘合的更牢固。
[0011]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，計(jì)量泵設(shè)計(jì)2?10個(gè)加液口，滿足快速均勻加漿料需求，計(jì)量泵出口溶液的流速與傳輸帶上柔性基底的流速控制一致，
[0012]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，烘干裝置為加熱板或烘干器，使柔性基底上鍍的薄膜快速干燥凝固在基底上，然后便于鍍下一層薄膜。
[0013]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，鍍膜裝置可串聯(lián)或并聯(lián)布置，所述并聯(lián)鍍膜裝置布置在前一鍍膜裝置中的計(jì)量泵與收集裝置間，所述的串聯(lián)鍍膜裝置布置在前一鍍膜裝置中膜厚控制儀與收集裝置之間。
[0014]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，并聯(lián)或串聯(lián)裝置中各儲(chǔ)液池儲(chǔ)放不同溶液或相同溶液，便于在柔性基底上鍍多層不同溶液或不同層數(shù)的溶液，滿足多功能化鍍膜需求。
[0015]本實(shí)用新型提供的液相鍍膜裝置簡單，易于操作，通過膜厚檢測儀和控制模塊在線控制鍍膜的厚度，并對膜厚進(jìn)行及時(shí)調(diào)整；整個(gè)裝置的自動(dòng)化程度高，利用鍍膜裝置的并聯(lián)或串聯(lián)布置可現(xiàn)實(shí)多層鍍膜滿足多功能薄膜的需求，也適用于低成本，連續(xù)化的工業(yè)鍍膜領(lǐng)域。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0016]圖1為液相鍍膜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖簡圖。
[0017]圖2為串聯(lián)式液相鍍膜裝置的結(jié)構(gòu)示意簡圖。
【具體實(shí)施方式】
[0018]現(xiàn)結(jié)合附圖和優(yōu)選實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。這些附圖均為簡化的示意圖，僅以示意方式說明本實(shí)用新型的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本實(shí)用新型有關(guān)的構(gòu)成。
[0019]如圖f 2所示，一種液相鍍膜裝置，包括儲(chǔ)液池1，位于儲(chǔ)液池上的流動(dòng)板4，溶液通過輸送管輸送至計(jì)量泵3，進(jìn)而輸送至溶液流動(dòng)板4，流動(dòng)板上方一定高度差處設(shè)置傳輸帶滾軸5，滾軸上纏繞柔性基底6，鍍膜后柔性基底收集裝置7，收集裝置7與流動(dòng)板4間的柔性基底下方設(shè)置烘干裝置8，烘干裝置8與收集裝置間的柔性基底上設(shè)置膜厚檢測儀9。膜厚檢測儀9與計(jì)量泵3間設(shè)置在線控制模塊10。
[0020]儲(chǔ)液池內(nèi)溶液經(jīng)壓力泵將其輸送至計(jì)量泵，計(jì)量泵中溶液直接輸送至溶液流動(dòng)板，流動(dòng)板設(shè)置在儲(chǔ)液池上面，水平放置，所述的計(jì)量泵設(shè)計(jì)2?10個(gè)加液口，滿足快速均勻加漿料需求；溶液流動(dòng)板采用前端和后端為水平設(shè)計(jì)，中間為傾斜設(shè)計(jì)，便于漿料均勻地流出，使液體表面與柔性基底間形成穩(wěn)定的壓差，將溶液均勻地鍍在基底表面上；流動(dòng)板的材質(zhì)為聚四氟乙烯、金屬、不銹鋼、塑料、玻璃中的任意一種。
[0021]傳送帶將柔性基底從與流動(dòng)板有一定高度差的滾軸處，先傳送到與流動(dòng)板水平位置，與流動(dòng)板表面上的溶液進(jìn)行鍍膜，鍍膜水平段的柔性基底上表面設(shè)置至少3個(gè)滾軸，其中至少有一個(gè)滾軸固定設(shè)置在柔性基底與溶液流動(dòng)板接觸起始處，其余的滾軸可沿傳輸帶水平方向運(yùn)動(dòng)，利用滾軸自身重力來壓合鍍膜溶液與柔性基底，使二者粘合更牢固，同時(shí)使柔性基底在水平方向與溶液接觸平整，鍍膜均勻。所述的柔性基底可為PET、
[0022]為使柔性基底與流動(dòng)板上溶液更好的結(jié)合，纏繞在傳輸帶滾軸的柔性基底先經(jīng)過離子處理器，處理柔性基底的表面，使其與溶液有更好親和力，易于后續(xù)鍍膜，所述的等離子處理器設(shè)置在柔性基底與溶液流動(dòng)板接觸間前的柔性基底上，
[0023]為使柔性基底從傳輸帶滾軸到液體流動(dòng)板垂直傳輸，將固定設(shè)置在柔性基底與溶液流動(dòng)板接觸起始處滾軸的中心線與傳輸帶傳輸帶滾軸中心在一條垂直線上。
[0024]在液體流動(dòng)板上鍍膜后的柔性基底，傳輸帶將其傳輸至干燥區(qū)域，進(jìn)行干燥，使柔性基底上鍍的薄膜快速干燥凝固在基底上，然后便于鍍下一層薄膜或收集。烘干裝置設(shè)置在水平輸送柔性基底的正下方，烘干裝置為加熱板或烘干器，烘干后的鍍薄膜柔性基底進(jìn)行在線膜厚檢測，對其鍍膜的厚度和質(zhì)量進(jìn)行在線檢測，若鍍膜厚度達(dá)到預(yù)設(shè)定的值，進(jìn)行下一步操作，若鍍膜厚度未達(dá)到預(yù)定值，膜厚檢測將檢測結(jié)果及時(shí)反饋給控制模塊，控制模塊將對計(jì)量泵發(fā)出新的指令，將調(diào)整計(jì)量泵出口溶液的流速或流量，來調(diào)整鍍膜的厚度，進(jìn)而達(dá)到預(yù)設(shè)定的鍍膜厚度，可現(xiàn)實(shí)隨時(shí)控制鍍膜厚度的均勻性。柔性基底鍍膜厚度合格后，經(jīng)傳輸帶直接輸送至收集裝置。
[0025]為使流動(dòng)板上溶液均勻鍍在柔性基底上，控制計(jì)量泵出口溶液的流速與傳輸柔性基底在水平方向上的速度保持一致。
[0026]為提高柔性基底鍍膜的效率和鍍膜多功能化的需求，可將本發(fā)明的鍍膜裝置進(jìn)行并聯(lián)或串聯(lián)布置，如為滿足鍍多層不同溶液的薄膜，可將鍍膜裝置進(jìn)行串聯(lián)，串聯(lián)的鍍膜裝置布置在前一鍍膜裝置中的膜厚控制儀與收集裝置之間，如圖2所示，在整個(gè)鍍膜過程中，先進(jìn)行第一次鍍膜，當(dāng)鍍膜的厚度合格后，傳輸帶將烘干合格后的柔性基底傳送至第二鍍膜裝置的溶液流動(dòng)板，進(jìn)行下一次鍍膜，此次的鍍膜溶液可與前一次鍍膜溶液相同或不相同，當(dāng)?shù)诙五兡ず细窈?，若需要再鍍另一種溶液薄膜，則繼續(xù)串聯(lián)鍍膜裝置進(jìn)行鍍膜，直到滿足鍍膜需求為止。如為提高鍍膜的效率，將多個(gè)鍍膜裝置進(jìn)行并聯(lián)連接，并聯(lián)鍍膜裝置布置在前一鍍膜裝置中的計(jì)量泵與收集裝置間。此外，也可將鍍膜裝置進(jìn)行串聯(lián)和并聯(lián)的混合連接。
【權(quán)利要求】
1.一種液相鍍膜裝置，包括儲(chǔ)液池(1)，位于儲(chǔ)液池上的溶液流動(dòng)板(4)，所述的溶液通過輸送管輸送至計(jì)量泵(3)，進(jìn)而輸送至溶液流動(dòng)板(4)，所述的溶液流動(dòng)板上方一定高度差處設(shè)置傳輸帶滾軸(5)，滾軸上纏繞柔性基底(6)以及收集裝置(7)，其特征在于:所述柔性基底與溶液流動(dòng)板的水平位置接觸進(jìn)行鍍膜，與液體流動(dòng)板接觸的柔性基底上表面設(shè)備滾軸；所述傳輸帶帶動(dòng)柔性基底運(yùn)動(dòng)，所述的收集裝置與流動(dòng)板間的柔性基底下方設(shè)置烘干裝置(8 )，加熱板與收集裝置間的柔性基底上設(shè)置膜厚檢測儀(9 )。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液相鍍膜裝置，其特征在于:還包括在線控制模塊(10)，所述控制模塊一端連接于膜厚檢測儀，另一端連接于計(jì)量泵。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液相鍍膜裝置，其特征在于:所述的溶液流動(dòng)板采用前端和后端為水平設(shè)計(jì)，中間為傾斜設(shè)計(jì)；所述的流動(dòng)板的材質(zhì)為聚四氟乙烯、金屬、不銹鋼、塑料、玻璃中的任意一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液相鍍膜裝置，其特征在于:所述的柔性基底為聚乙烯醇(PVA)、聚酰亞胺(ro)、聚酯(PET)中的任意一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液相鍍膜裝置，其特征在于:與溶液流動(dòng)板接觸的柔性基底上表面設(shè)置至少3個(gè)滾軸，其中至少有一個(gè)滾軸固定設(shè)置在柔性基底與溶液流動(dòng)板接觸起始處。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液相鍍膜裝置，其特征在于:與溶液流動(dòng)板接觸前的柔性基底上設(shè)置離子處理器(11)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液相鍍膜裝置，其特征在于:所述的烘干裝置為加熱板或烘干器。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種液相鍍膜裝置，其特征在于:所述的計(jì)量泵設(shè)計(jì)2?10個(gè)加液口，所述計(jì)量泵出口溶液的流速與傳輸帶上柔性基底的速度控制一致。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液相鍍膜裝置，其特征在于:所述的鍍膜裝置可串聯(lián)或并聯(lián)布置。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的液相鍍膜裝置，其特征在于:所述并聯(lián)鍍膜裝置布置在前一鍍膜裝置中的計(jì)量泵與收集裝置之間；所述的串聯(lián)鍍膜裝置布置在前一鍍膜裝置中膜厚控制儀與收集裝置之間；所述并聯(lián)或串聯(lián)裝置中各儲(chǔ)液池儲(chǔ)放不同溶液或相同溶液。
【文檔編號】B05C11/08GK204074439SQ201420464686
【公開日】2015年1月7日 申請日期:2014年8月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月18日
【發(fā)明者】閔永剛, 范天舉, 苑春秋, 唐偉, 楊文斌, 劉屹東 申請人:南京新月材料科技有限公司, 鹽城增材科技有限公司, 鑫月華科技（杭州）有限公司