一種基于濕法生產合成革用抹平整理裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種基于濕法生產合成革用抹平整理裝置，該合成革用抹平整理裝置包括一抹桿，所述抹桿位于導輥的上部，所述抹桿直徑小于導輥的直徑，所述抹桿的長度與貝斯的寬度相同，所述抹桿在導輥的配合下，對通過導輥的貝斯表面進行抹平，既能將附在貝斯表面上的漿液中的氣泡趕出，減輕針眼，又能增加貝斯表面的平整度。
【專利說明】一種基于濕法生產合成革用抹平整理裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型屬于聚氨酯合成革生產【技術領域】，尤其涉及一種基于濕法生產合成革用抹平整理裝置。
【背景技術】
[0002]經處理的基布，通過涂料臺，采用輥襯涂覆法，把聚氨酯漿料均勻地涂覆在基布上。貝斯表面的平整度除與基布的特性有關外，還與涂覆后入水前的生產工藝有直接的關系。在使用起毛布為底基時，要注意起毛布表面起毛的方向。順毛涂覆，貝斯表面光潔；逆毛涂覆，貝斯表而粗糙。涂層的厚度不僅對產品的厚度有影響，而且對產品的風格及質量也有影響。涂層太薄，不能遮蓋布毛，使貝斯表面粗糙，手感發板無彈性；涂層太厚，易造成泡孔不勻、面層與基材分離等缺陷。在基布與涂覆厚度一定的情況下，涂覆后入水前對貝斯的整理直接關系到貝斯的質量，因為涂覆后氣泡會隨漿料附著在貝斯的表面，涂覆后進入凝固層時由于壓力的作用，含浸液中的氣泡沖破涂層形成針眼，再加上基布上的漿料厚薄不是十分的均勻，都需要在涂覆后入水前對貝斯進行加工處理。
【發明內容】
[0003]本實用新型的目的是提供一種既可以消除含浸液涂覆中在貝斯表面形成的氣泡，又能增加貝斯表面平整度的合成革用抹平整理裝置。
[0004]本實用新型的目的是通過以下技術方案實現的，該合成革用抹平整理裝置包括一抹桿，所述抹桿位于導棍的上部，所述抹桿直徑小于導棍的直徑，所述抹桿的長度與貝斯的寬度相同，所述抹桿在導輥的配合下，對通過導輥的貝斯表面進行抹平，既能將附在貝斯表面上的漿液中的氣泡趕出，減輕針眼，又能增加貝斯表面的平整度。
[0005]本實用新型的有益效果:通過在導輥上部設置一抹桿，在導輥的配合下，對通過導輥的貝斯表面進行抹平，以趕出貝斯表面上的氣泡，減輕針眼，同時還能增加貝斯表面的平整度，具有結構簡單，操作方便的優點。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0006]下面結合附圖詳細說明本實用新型的實施例
[0007]圖1為本實用新型的示意圖
[0008]圖中:1、抹桿 2、導輥 3、貝斯
【具體實施方式】
[0009]如圖1所示，該合成革用抹平整理裝置包括一抹桿1，抹桿I位于導輥2的上部，抹桿I直徑小于導棍2的直徑,抹桿I的長度與貝斯3的寬度相同,抹桿I在導棍2的配合下，對通過導輥2的貝斯3表面進行抹平，既能將附在貝斯3表面上的漿液中的氣泡趕出，減輕針眼，又能增加貝斯3表面的平整度。
【權利要求】
1.一種基于濕法生產合成革用抹平整理裝置，其特征在于該合成革用抹平整理裝置包括一抹桿，所述抹桿位于導棍的上部，所述抹桿直徑小于導棍的直徑，所述抹桿的長度與貝斯的寬度相同。
【文檔編號】B05C11/02GK203403315SQ201320500605
【公開日】2014年1月22日 申請日期:2013年8月10日 優先權日:2013年8月10日
【發明者】王彥波, 蓸國榮, 于正湖 申請人:山東澤輝高科涂層有限公司