一種硅片研磨液的制作方法
【專利摘要】本發明涉及一種硅片研磨液包括氧化鋁35-45份、氧化硅15-25份、三聚氰胺10-15份、氧化鈰11-15份、甲基丙烯酸3-9份、硅酸鈉2-5份、氧化鋯1-3份、十八烷基三甲基溴化胺4-13份、聚二烯丙基二甲基氯化銨1-8份、聚氧乙烯醚2-7份、二甲亞砜環己烷4-8份、羥甲基纖維素3-6份、滲透劑2-8份、表面活性劑3-9份。將上述原料混合在110-130℃下攪拌均勻得到研磨液，固體原料的粒徑為50-120nm。本發明的制備方法簡單，易實現，本發明制備的研磨材料的研磨精度和研磨效率均很高。
【專利說明】—種硅片研磨液
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種研磨液。具體涉及一種娃片研磨液【背景技術】[0002]隨著現有生活發展的精細化，拋光工藝應用廣泛，特別是在微電子領域，隨著大量裝置體積的日益輕薄，對其性能的要求反而越來越高，相應的對拋光工藝的要求也進一步提聞。
[0003]研磨材料為拋光技術的必需品，為研磨液組合物的重要組分，對其性能要求也越來越嚴格，目前，普遍采用的研磨材料一般為氧化鋁、氧化鋯、金剛石、氧化硅、氧化鈰、氧化鈦、氮化硅等，但在實際應用中，現有粒子的粒徑小、表面活性大，粒子間相互作用力強，已分散好的納米粒子易發生團聚，影響研磨液組合物的性能；同時研磨粒子如納米金剛石、三氧化二鋁、氧化鋯、氮化硅等，硬度均較大，拋光過程中對表面的損傷較嚴重，不僅造成表面粗糙度較大，還易出現拋光劃痕、凹坑等表面缺陷；同時分散性、穩定性較好的氧化硅等材料的拋光速率又較低，不能滿足現有技術的要求。
【發明內容】
[0004]本發明為了解決現有技術制備的研磨材料精度不高的問題，提供一種研磨精度和研磨效率均更高的研磨材料。
[0005]一種硅片研磨液包括氧化鋁35-45份、氧化硅15-25份、三聚氰胺10_15份、氧化鈰11-15份、甲基丙烯酸3-9份、硅酸鈉2-5份、氧化鋯1-3份、十八烷基三甲基溴化胺4_13份、聚二烯丙基二甲基氯化銨1-8份、聚氧乙烯醚2-7份、二甲亞砜環己烷4-8份、羥甲基纖維素3-6份、滲透劑2-8份、表面活性劑3-9份。
[0006]將上述原料混合在110-130 °C下攪拌均勻得到研磨液，固體原料的粒徑為50_120nm。
[0007]本發明的制備方法簡單，易實現，本發明制備的研磨材料的研磨精度和研磨效率均很高。
【具體實施方式】
[0008]實施例1
[0009]一種硅片研磨液包括氧化鋁35份、氧化硅20份、三聚氰胺14份、氧化鈰13份、甲基丙烯酸5份、硅酸鈉4份、氧化鋯2份、十八烷基三甲基溴化胺6份、聚二烯丙基二甲基氯化銨3份、聚氧乙烯醚4份、二甲亞砜環己烷6份、羥甲基纖維素5份、滲透劑5份、表面活性劑6份。
[0010]實施例2
[0011]一種硅片研磨液包括氧化鋁40份、氧化硅22份、三聚氰胺15份、氧化鈰12份、甲基丙烯酸5份、硅酸鈉5份、氧化鋯3份、十八烷基三甲基溴化胺7份、聚二烯丙基二甲基氯化銨6份、聚氧乙烯醚4份、二甲亞砜環己烷5份、羥甲基纖維素5份、滲透劑5份、表面活性劑4份。
[0012]實施例3
[0013]一種硅片研磨液包括氧化鋁38份、氧化硅21份、三聚氰胺12份、氧化鈰13份、甲基丙烯酸6份、硅酸鈉3份、氧化鋯2份、十八烷基三甲基溴化胺10份、聚二烯丙基二甲基氯化銨6份、聚氧乙烯醚5份、二甲亞砜環己烷6份、羥甲基纖維素4份、滲透劑6份、表面活性劑7份。
[0014]本發明的 制備方法簡單，易實現，本發明制備的研磨材料的研磨精度和研磨效率均很高。
[0015]這里本發明的描述和應用是說明性的，并非想將本發明的范圍限制在上述實施例中，因此，本發明不受本實施例的限制，任何采用等效替換取得的技術方案均在本發明保護的范圍內。
【權利要求】
1.一種硅片研磨液包括:氧化鋁、氧化硅、三聚氰胺、氧化鈰、甲基丙烯酸、硅酸鈉、氧化鋯、十八烷基三甲基溴化胺、聚二烯丙基二甲基氯化銨、聚氧乙烯醚、二甲亞砜環己烷、羥甲基纖維素、滲透劑、表面活性劑；其特征在于所述氧化鋁35-45份、氧化硅15-25份、三聚氰胺10-15份、氧化鈰11-15份、甲基丙烯酸3-9份、硅酸鈉2_5份、氧化鋯1_3份、十八烷基三甲基溴化胺4-13份、聚二烯丙基二甲基氯化銨1-8份、聚氧乙烯醚2-7份、二甲亞砜環己烷4-8份、羥甲基纖維素3-6份、滲透劑2-8份、表面活性劑3-9份。
2.如權利要求1所述的一種硅片研磨液，其特征在于氧化鋁35份、氧化硅20份、三聚氰胺14份、氧化鈰13份、甲基丙烯酸5份、硅酸鈉4份、氧化鋯2份、十八烷基三甲基溴化胺6份、聚二烯丙基二甲基氯化銨3份、聚氧乙烯醚4份、二甲亞砜環己烷6份、羥甲基纖維素5份、滲透劑5份、表面活性劑6份。
3.如權利要求1所述的一種硅片研磨液，其特征在于氧化鋁40份、氧化硅22份、三聚氰胺15份、氧化鈰12份、甲基丙烯酸5份、硅酸鈉5份、氧化鋯3份、十八烷基三甲基溴化胺7份、聚二烯丙基二甲基氯化銨6份、聚氧乙烯醚4份、二甲亞砜環己烷5份、羥甲基纖維素5份、滲透劑5份、表面活性劑4份。
4.如權利要求1所述的一種硅片研磨液，其特征在于氧化鋁38份、氧化硅21份、三聚氰胺12份、氧化鈰13份、甲基丙烯酸6份、硅酸鈉3份、氧化鋯2份、十八烷基三甲基溴化胺10份、聚二烯丙基二甲基氯化銨6份、聚氧乙烯醚5份、二甲亞砜環己烷6份、羥甲基纖維素4份、滲透劑6份、表面活性劑7份。
5.如權利要求1所述的一種硅片研磨液，其特征在于將上述原料混合在110-130°C下攪拌均勻得到研磨液，固體原料的粒徑為50-120nm。
【文檔編號】C09G1/02GK103709939SQ201310753300
【公開日】2014年4月9日 申請日期:2013年12月31日 優先權日:2013年12月31日
【發明者】聶金根 申請人:鎮江市港南電子有限公司