糊劑涂敷裝置以及糊劑涂敷方法

專利名稱：糊劑涂敷裝置以及糊劑涂敷方法
技術領域：
本發明涉及向基板涂敷糊劑的糊劑涂敷裝置以及糊劑涂敷方法。
背景技術：
在有機EL (Electro Luminescence)面板的制造工序中，在向蒸鍍了有機EL元件 的基板粘合封閉用的玻璃(封閉玻璃)的工序中，向基板涂敷糊劑(玻璃糊劑)，將封閉玻璃 粘合，將激光束向玻璃糊劑照射，進行接合。
在該工序中，由于向基板涂敷的玻璃糊劑的高度(涂敷高度)要求高精度的均勻 性，所以，大多通過印刷法向基板涂敷玻璃糊劑。
印刷法是使玻璃糊劑在形成有涂敷玻璃糊劑的圖案(涂敷圖案)的篩網通過，向基 板涂敷的結構，存在有必要每個涂敷圖案的形狀都需要篩網這樣的問題。
另外，由于篩網是極薄的部件，所以，能夠制造的大小存在界限。因此，存在由使用 了篩網的印刷法制造的有機EL面板的大小受到限制這樣的問題。
再有，篩網是將涂敷圖案的部分的玻璃糊劑向基板涂敷的結構，形成涂敷圖案的 部分以外的部分為被掩膜的部分。而且，由于掩膜部分的玻璃糊劑殘留，所以，該殘留的玻 璃糊劑成為剩余部分(浪費)，存在玻璃糊劑的使用效率降低這樣的問題。
作為消除這樣的印刷法的問題點而涂敷玻璃糊劑的方法，已知從沿涂敷圖案移動 的噴嘴將玻璃糊劑向基板涂敷的方法。
例如，專利文獻I中記載了一面根據涂敷了上述糊劑時的噴嘴高度，調節第二次 以后涂敷糊劑時的噴嘴高度，一面使噴嘴移動，涂敷糊劑的糊劑涂敷裝置。
在先技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2002-316082號公報
在使噴嘴移動來涂敷糊劑的情況下，優選為了向蒸鍍在基板上的有機EL元件的 周圍連續無裂縫地涂敷糊劑，而在噴嘴開始移動的始點和噴嘴結束移動的終點之間，玻璃 糊劑被重疊地涂敷(重疊)的結構。通過該結構，能夠在始點和終點之間，糊劑的涂敷不中斷 地無裂縫地連續涂敷糊劑。但是，在重疊的部分，若噴嘴與在先涂敷的玻璃糊劑接觸，則玻 璃糊劑被削除，再有，被削除的玻璃糊劑與在先涂敷的玻璃糊劑重疊，涂敷高度變高。因此， 存在不能使玻璃糊劑的涂敷高度均勻這樣的問題。
專利文獻I記載的糊劑涂敷裝置沒有研究在糊劑在噴嘴開始移動的始點和噴嘴 結束移動的終點之間被重疊地涂敷時，避免噴嘴將糊劑削除的情況。
因此，本發明以提供一種能夠將玻璃糊劑的涂敷高度恰當地維持在規定的誤差范 圍的糊劑涂敷裝置以及糊劑涂敷方法為課題。發明內容
為了解決上述課題，本發明做成使連續涂敷糊劑的噴嘴移動，將上述糊劑向基板的平面上的規定的區域的周圍連續地涂敷的糊劑涂敷裝置。而且，該糊劑涂敷裝置的特征 在于，在從上述噴嘴開始移動的始點開始的遍及規定長度的始端部，使從上述基板到上述 噴嘴為止的噴嘴高度比規定的基準高度低，使上述噴嘴移動，在到上述噴嘴結束移動的終 點為止的遍及規定長度的終端部，使上述噴嘴高度比上述基準高度高，使上述噴嘴移動，在 上述始端部以及上述終端部以外的部分，將上述噴嘴高度作為上述基準高度，使上述噴嘴 移動，再有，以在上述始端部和上述終端部的至少一部分重疊地涂敷上述糊劑的方式，使上 述噴嘴移動。另外，成為像這樣涂敷糊劑的糊劑涂敷方法。
發明效果
根據本發明，能夠提供一種能夠將玻璃糊劑的涂敷高度恰當地維持在規定的誤差 范圍的糊劑涂敷裝置以及糊劑涂敷方法。


圖1是糊劑涂敷裝置的立體圖。
圖2的(a)是涂敷頭的側視圖，(b)是涂敷頭的立體圖。
圖3的(a)是表示向蒸鍍部的周圍涂敷玻璃糊劑的涂敷圖案的第一圖案的圖，(b) 是向蒸鍍部的周圍涂敷玻璃糊劑的涂敷圖案的第二圖案的圖。
圖4的(a)是表示第一圖案的始端部的圖，(b)是表示第一圖案的終端部的圖。
圖5的(a)是表示第二圖案的始端部的圖，(b)是表示第二圖案的終端部的圖。
具體實施方式
下面，適當地參見圖，對本發明的實施方式詳細進行說明。
有關本實施方式的糊劑涂敷裝置100如圖1所示，包括架臺1、機架2、固定部3A、 3B、可動部4A、4B、涂敷頭5、載置基板8的基板保持盤6、控制部9、監視器11、鍵盤12而構 成。
另外，設定以架臺I的長度方向為X軸，以寬度方向為Y軸，以高度方向(上下方向) 為Z軸的坐標軸。
另外，雖然在圖1中圖示了一個涂敷頭5，但也可以是具備多個涂敷頭5的糊劑涂 敷裝置100。
另外，在架臺I上設置包括固定部3A、3B和可動部4A、4B而構成的X軸移動機構。 固定部3A、3B沿X軸方向被固定在架臺I的例如Y軸方向的兩端部，作為可動部4A、4B的 導向器部件發揮功能。在固定部3A上可移動地具備可動部4A，在固定部3B上可移動地具 備可動部4B，再有，跨可動部4A和可動部4B (即、沿Y軸方向)設置機架2。根據該結構， 以在Y軸方向延伸的方式具備機架2。
X軸移動機構被構成為可通過滾珠絲杠機構、線性馬達等驅動裝置，使可動部4A、 4B沿固定部3A、3B移動。
機架2具備可在長度方向(即、Y軸方向)移動的涂敷頭5。以后，將用于使涂敷頭 5在機架2的長度方向移動的移動機構稱為Y軸移動機構。Y軸移動機構被構成為可通過 滾珠絲杠機構、線性馬達等驅動裝置，使涂敷頭5沿機架2移動。
另外，在架臺I的上面在固定部3A、3B之間的區域，作為載置在蒸鍍部Al蒸鍍有有機EL元件的基板8的工作臺具備基板保持盤6。基板保持盤6被構成為能夠由未圖示出 的吸附機構等將被載置的基板8固定。
再有，在架臺I上，作為操作構件設置監視器11、鍵盤12，作為對糊劑涂敷機100 進行控制的控制構件，內置著控制部9。
另外，糊劑涂敷裝置100具備通過將空氣加壓并向涂敷頭5具備的糊劑收納部(注 射器55)供給,而將用于將玻璃糊劑Gp從噴嘴55a排出的壓力(排出壓)向注射器55供給 的加壓源10。
加壓源10經加壓配管IOc與涂敷頭5具備的注射器55連接，供給加壓了的空氣， 將注射器55內加壓，將排出壓向涂敷頭5供給。加壓配管IOc具備將由加壓源10加壓的 空氣調壓為所希望的壓力(排出壓)的正壓調節器IOa和用于將被加壓的空氣的流通隔斷的 閥門10b。閥門IOb是與來自控制部9的控制信號相應地將加壓配管IOc開閉的電動式的 開閉閥，被構成為在閥門IOb閉閥時，加壓配管IOc中的空氣的流通被隔斷。
如圖2的(a)、(b)所示，涂敷頭5具有經Y軸移動機構可驅動地安裝在機架2上 的基臺部50，基臺部50具備機架2所具備的直線尺2a的檢測器51。直線尺2a沿Y軸方 向被延伸設置在機架2的一方的側面，對它進行檢測的檢測器51與直線尺2a相向地被安 裝在基臺部50。控制部9 (參見圖1)通過根據檢測器51檢測直線尺2a的結果控制Y軸 移動機構，對涂敷頭5 (噴嘴55a)的Y軸方向進行位置控制。另外，優選X軸移動機構也具 備未圖示出的直線尺和檢測器，能夠進行涂敷頭5 (噴嘴55a)的X軸方向的位置控制的結 構。
在涂敷頭5的基臺部50安裝具備Z軸伺服馬達52a的Z軸導向器52，在該Z軸導 向器52安裝通過Z軸伺服馬達52a在Z軸方向(上下方向)移動的Z軸工作臺53。另外，Z 軸工作臺53具備用于收納玻璃糊劑Gp的糊劑收納部(注射器55)。再有，注射器55具備用 于將被收納的糊劑(本實施方式中為玻璃糊劑Gp)向基板8 (參見圖1)涂敷的噴嘴55a和 對從被載置在基板保持盤6上的基板8到噴嘴55a的高度(噴嘴高度Nh)進行計量的距離 計(例如，光學式距離計54)。
圖2的(b)所示的光學式距離計54包括發光部和受光部而構成，根據通過基板8 反射發光部向基板8 (參見圖1)照射的光(激光)的反射光的受光量，計量從基板8到噴嘴 55a的噴嘴高度Nh。
具體地說，由于噴嘴高度Nh越長，基于受光部的反射光的受光量越降低，所以，光 學式距離計54被構成為根據受光部的受光量相對于發光部的發光量的比率，計量噴嘴高度Nh。
Z軸伺服馬達52a通過控制部9(參見圖1)的以設置在Z軸工作臺53上的光學式 距離計54的計量值為基礎的控制，經Z軸工作臺53使注射器55 (噴嘴55a)在Z軸方向， SP、上下方向移動。
像上述那樣構成的糊劑涂敷裝置100 (參見圖1)例如是像圖3的(a)所示那樣， 向蒸鍍有有機EL元件的基板8涂敷用于將封閉玻璃接合的玻璃糊劑Gp的裝置，例如，以將 大致矩形的平面形狀且蒸鍍有有機EL元件的蒸鍍部Al作為規定的區域在其周圍以規定的 高度(涂敷高度Ht)堆積玻璃糊劑Gp的方式進行涂敷。被糊劑涂敷裝置100涂敷了玻璃糊 劑Gp的基板8在下一個工序被粘合封閉玻璃，然后，向玻璃糊劑Gp照射激光束，封閉玻璃被接合。此時，為使有機EL元件的蒸鍍部Al成為真空狀態，封閉玻璃在真空的作業環境被 真空粘貼。
要求形成在基板8上的有機EL元件的蒸鍍部Al由玻璃糊劑Gp和封閉玻璃維持 真空狀態，要求糊劑涂敷裝置100(參見圖1)向大致矩形地蒸鍍了有機EL元件的蒸鍍部Al 的周圍連續無裂縫地涂敷玻璃糊劑Gp。
例如，糊劑涂敷裝置100的控制部9 (參見圖1)如圖3的(a)所示，將基板8中 的有機EL元件的蒸鍍部Al的周圍的I點(白圈)作為噴嘴55a開始移動的始點Ps，使噴嘴 55a移動到始點Ps。即、始點Ps作為蒸鍍部Al的周圍的I點被設定。
再有，控制部9向加壓配管IOc具備的閥門IOb (參見圖1)傳輸控制信號，進行開 閥。通過被適當調壓了的空氣從正壓調節器IOa (參見圖1)向注射器55 (參見圖1)供給， 向注射器55供給排出壓。注射器55的內部因排出壓而升壓，被收納的玻璃糊劑Gp因排出 壓而從注射器55被推出，從噴嘴55a連續地被涂敷。
在該狀態下，控制部9 (參見圖1)使噴嘴55a沿著蒸鍍部Al的周圍移動。在噴嘴 55a在X軸方向移動的情況下，控制部9通過X軸移動機構，使可動部4A、4B (參見圖1)沿 固定部3A、3B (參見圖1)移動。另外，在使噴嘴55a在Y軸方向移動的情況下，控制部9通 過Y軸移動機構，使涂敷頭5沿機架2 (參見圖1)移動。
伴隨著噴嘴55a的移動，從噴嘴55a涂敷的玻璃糊劑Gp被連續地涂敷在蒸鍍部Al 的周圍，連續形成沿著噴嘴55a的移動的軌跡的涂敷圖案(第一圖案PU)。
而且，若噴嘴55a繞蒸鍍部Al的周圍一圈，返回始點Ps的位置，則控制部9(參見 圖1)向加壓配管IOc具備的閥門IOb (參見圖1)傳輸控制信號，進行閉閥。再有，控制部9以沿著在先涂敷的玻璃糊劑Gp上重疊的方式，使噴嘴55a移動到噴嘴55a結束移動的終 點Pe (白四邊)。即、終點Pe也作為蒸鍍部Al的周圍的I點被設定。
即使閥門IOb閉閥，排出壓向注射器55 (參見圖1)的供給停止，注射器55內持 續基于排出壓的殘壓的高壓的狀態，來自噴嘴55a的玻璃糊劑Gp的涂敷繼續。而且，排出 壓的供給停止了的注射器55的內部逐漸減壓，伴隨著注射器55內部的減壓，來自噴嘴55a 的玻璃糊劑Gp的涂敷量減少，在注射器55的內部減壓至大氣壓程度的時刻，停止來自噴嘴 55a的玻璃糊劑Gp的涂敷。
通過在像這樣涂敷玻璃糊劑Gp的涂敷圖案設置在從始點Ps到終點Pe之間重疊 地涂敷玻璃糊劑Gp的重疊部101，能夠通過玻璃糊劑Gp的涂敷在蒸鍍部Al的周圍形成連 續的沒有裂縫的矩形的第一圖案Ptl。
或者，如圖3的(b)所示，控制部9將始點Ps (白圈)設定在呈大致矩形的蒸鍍部 Al的一個邊的延長線上的一點，使噴嘴55a移動到始點Ps。根據該結構，始點Ps被設定為 從蒸鍍部Al的周圍向外方離開的一點。
再有，控制部9向加壓配管IOc具備的閥門IOb (參見圖1)傳輸控制信號，進行開 閥，從正壓調節器IOa (參見圖1)向注射器55 (參見圖1)供給被適當調壓的空氣。向注射 器55供給排出壓，從噴嘴55a連續地涂敷玻璃糊劑Gp。
在該狀態下，控制部9 (參見圖1)使噴嘴55a沿蒸鍍部Al的周圍移動。從噴嘴 55a涂敷的玻璃糊劑Gp被涂敷在蒸鍍部Al的周圍，連續形成沿噴嘴55a的移動的軌跡的 涂敷圖案(第二圖案Pt2)。而且，在噴嘴55a繞蒸鍍部Al的周圍一圈，到達從始點Ps到蒸鍍部Al涂敷了玻璃糊劑Gp的部分(將該部分稱為始端部101S)時，控制部9使噴嘴55a以將始端部IOlS橫穿的方式移動，將適當決定的一點(白四邊)設定為終點Pe，使噴嘴55a停止。而且，控制部9向加壓配管IOc具備的閥門IOb (參見圖1)傳輸控制信號，進行閉閥。 根據該結構，終點Pe被設定為從蒸鍍部Al的周圍向外方離開的一點。
通過在像這樣涂敷玻璃糊劑Gp的涂敷圖案設置玻璃糊劑Gp交叉的交叉點103(黑圈)，能夠通過玻璃糊劑Gp的涂敷在蒸鍍部Al的周圍形成連續的沒有裂縫的形狀的第二圖案 Pt2。
另外，控制部9 (參見圖1)在按照第一圖案Ptl或者第二圖案Pt2將玻璃糊劑Gp 向基板8涂敷時，將噴嘴高度Nh調節為向基板8涂敷的玻璃糊劑Gp的涂敷高度Ht，使噴嘴 55a移動。
例如，在使涂敷高度Ht的基準值(基準涂敷高度StdH)為[30 μ m]的情況下，控制部9將噴嘴高度Nh維持在基準涂敷高度StdH的[30 μ m]，即、將基準涂敷高度StdH作為噴嘴高度Nh的基準高度，使噴嘴55a移動。例如，控制部9獲取光學式距離計54 (參見圖 2的(a))的計量值，以使該計量值成為基準涂敷高度StdH (30 μ m)的方式，使Z軸工作臺 53 (參見圖2的(a))在Z軸方向(上下方向)移動，將噴嘴高度Nh維持在[30 μ m]。
在將封閉玻璃接合的工序中，為使因激光束的照射而產生的玻璃糊劑Gp的溫度上升遍及涂敷圖案(第一圖案Ptl、第二圖案Pt2)的全周均勻，優選玻璃糊劑Gp的涂敷高度 Ht遍及涂敷圖案的全周均勻。因此，控制部9 (參見圖1)被構成為能夠高精度地將噴嘴高度Nh維持在基準涂敷高度StdH，使噴嘴55a (參見圖2的(a))移動。
這樣，以向基板8涂敷的玻璃糊劑Gp的涂敷高度Ht維持基準 涂敷高度StdH (例如，30 μ m)的方式，通過玻璃糊劑Gp的涂敷，形成涂敷圖案(第一圖案Pt1、第二圖案Pt2)。
另外，在由激光束將封閉玻璃接合的工序中，為使被照射了激光束的玻璃糊劑Gp 的溫度遍及涂敷圖案的全周均勻，恰當地將封閉玻璃接合，要求涂敷高度Ht被高精度地誤差管理。例如，若遍及涂敷圖案的全周，能夠相對于[30 μ m]的基準涂敷高度StdH，將涂敷高度Ht的變化抑制在[±10μπι]程度的誤差(下稱允許誤差Λ Ht)，則能夠恰當地將封閉玻璃接合。
因此，控制部9被構成為將噴嘴高度Nt控制成相對于基準涂敷高度StdH(30 μ m) 在允許誤差Λ Ht (±ΙΟμπι)的范圍變動，形成涂敷圖案。
S卩、允許誤差Λ Ht是玻璃糊劑Gp的涂敷高度Ht所允許的誤差。
但是，在圖3的(a)所示的第一圖案Ptl中，存在在重疊部101，玻璃糊劑Gp的涂敷高度Ht比基準涂敷高度StdH高的情況。例如，存在在噴嘴55a從始點Ps向終點Pe以與在先涂敷的玻璃糊劑Gp重疊的方式移動時，若噴嘴55a與在先涂敷的玻璃糊劑Gp接觸， 則玻璃糊劑Gp被噴嘴55a削除的情況。在這種情況下，存在雖然從噴嘴55a向噴嘴55a的行進方向后方重新涂敷玻璃糊劑Gp，但在行進方向前方，玻璃糊劑Gp被噴嘴55a削除，若在終點Pe噴嘴55a的移動停止，則被削除的玻璃糊劑Gp積蓄在與行進方向前方相當的位置， 涂敷高度Ht變高的情況。
另外，在圖3的(b)所示的第二圖案Pt2中，存在在玻璃糊劑Gp交叉的交叉點103， 噴嘴55a —面將涂敷在始端部IOlS的玻璃糊劑Gp削除，一面移動的情況。在這種情況下， 存在與始端部IOlS連續地涂敷在蒸鍍部Al的周圍的玻璃糊劑Gp與始端部IOlS —起被削除，玻璃糊劑Gp的涂敷高度Ht變低的情況。
因此，有關本實施方式的控制部9 (參見圖1)對涂敷頭5 (噴嘴55a)的動作進行控制，以便能夠恰當地管理通過玻璃糊劑Gp的涂敷而形成的涂敷圖案中的始點Ps以及終點Pe的附近的涂敷高度Ht。
《第一實施方式》
本發明的第一實施方式是用于將玻璃糊劑Gp涂敷成圖3的(a)所示的第一圖案 Ptl的形狀的實施方式。
在將玻璃糊劑Gp涂敷成第一圖案Ptl的形狀時，控制部9(參見圖1)在始點Ps向閥門IOb (參見圖1)傳輸控制信號，進行開閥，將噴嘴高度Nh設定得比基準涂敷高度StdH 低，開始玻璃糊劑Gp的涂敷。例如，控制部9 (參見圖1)像圖4的(a)所示那樣，以比基準涂敷高度StdH低與涂敷高度Ht所允許的允許誤差Λ Ht相當的量的噴嘴高度Nh涂敷玻璃糊劑Gp。在該狀態下，控制部9使噴嘴55a沿蒸鍍部Al (參見圖1)的周圍移動了規定的長度(第一規定長度LI I)后，使噴嘴55a上升，以便使噴嘴高度Nh成為基準涂敷高度StdH。 在從始點Ps到第一規定長度Lll之間，以比基準涂敷高度StdH低允許誤差Λ Ht的涂敷高度Ht涂敷玻璃糊劑Gp。
在第一實施方式中，將該從始點Ps開始的遍及規定長度(第一規定長度Lll)的部分稱為始端部101S。S卩、控制部9 (參見圖1)執行使噴嘴高度Nh比基準涂敷高度StdH低與允許誤差Λ Ht相當的量，使噴嘴55a移動，沿蒸鍍部Al (參見圖3的(a))的周圍形成遍及第一規定長度Lll的始端部IOlS的工序(始端部形成工序)。據此，從始點Ps開始的遍及第一規定長度Lll (始端部101S)，以比基準涂敷高度StdH低允許誤差Λ Ht的涂敷高度 Ht涂敷玻璃糊劑Gp。另外，始端部IOlS沿蒸鍍部Al的周圍形成。
而且，始端部形成工序是將蒸鍍部Al的周圍的一點作為始點Ps，使噴嘴55a沿蒸鍍部Al的周圍移動，形成始端部IOlS的工序。
另外，也可以做成在從始點Ps開始的遍及第一規定長度Lll的部分的至少一部分，使噴嘴高度Nh比基準涂敷高度StdH 低與允許誤差Λ Ht相當的量，使噴嘴55a移動的結構。
例如，也可以做成僅在形成重疊部101的范圍，使噴嘴高度Nh比基準涂敷高度 StdH低與允許誤差Λ Ht相當的量，使噴嘴55a移動的結構。
例如，在基準涂敷高度StdH為[30 μ m]，允許誤差Λ Ht為[± ΙΟμπι]時，控制部9 (參見圖1)在從始點Ps開始的遍及第一規定長度Lll的部分(始端部101S)，使噴嘴高度Nh 為[20μπι (30 μ m-ΙΟμπι)]，涂敷玻璃糊劑Gp。此后，控制部9使噴嘴55a上升，直至噴嘴高度Nh達到基準涂敷高度StdH (30 μ m)，涂敷玻璃糊劑Gp。
在噴嘴55a繞蒸鍍部Al (參見圖3的(a))的周圍大致一圈，像圖4的(b)所示那樣，從始點Ps來到規定的長度(第二規定長度L12)的近前的位置時，控制部9 (參見圖1) 執行使閥門IOb (參見圖1)閉閥的工序，向閥門IOb傳輸控制信號，進行閉閥。
停止向注射器55 (參見圖1)供給排出壓，通過排出壓的殘壓，從噴嘴55a涂敷被注射器55收納的玻璃糊劑Gp。
使閥門IOb閉閥的工序是使玻璃糊劑Gp從噴嘴55a的涂敷停止的工序(涂敷停止工序)，控制部9在先于執行形成終端部IOlE的工序(終端部形成工序)，執行使玻璃糊劑Gp的涂敷停止的涂敷停止工序。
再有，在噴嘴55a從始點Ps來到比第二規定長度L12短的規定的長度(第三規定長度L13)的位置時，控制部9 (參見圖1)使Z軸工作臺53 (參見圖2的(a))上升，使噴嘴 55a上升，提高噴嘴高度Nh。具體地說，控制部9使噴嘴55a上升與允許誤差Λ Ht相當的量。例如，在基準涂敷高度StdH為[30 μ m]，允許誤差Λ Ht為[±10μπι]時，控制部9使噴嘴55a上升10 μ m，使基準涂敷高度StdH (30 μ m)的噴嘴高度Nh為[40 μ m (30ym +10μ m)]。這樣，在第一實施方式中，將以比基準涂敷高度StdH高的噴嘴高度Nh使噴嘴55a 移動的部分稱為終端部101E。而且，將終端部IOlE的長度作為第四規定長度L14。S卩、終端部IOlE是到終點Pe為止的遍及第四規定長度L14的部分，被形成在蒸鍍部Al (參見圖 3的(a))的周圍。另外，在第一圖案Ptl中，在終端部101E，至少向其一部分以比基準涂敷高度StdH高允許誤差Λ Ht的涂敷高度Ht涂敷玻璃糊劑Gp。
另外，在第一實施方式中，先于形成噴嘴高度Nh變高的終端部101Ε，停止排出壓從加壓源10 (參見圖1)向注射器55 (參見圖1)的供給。
此時，通過排出壓的殘壓從噴嘴55a涂敷玻璃糊劑Gp。若在該狀態下，噴嘴55a從始點Ps與在先涂敷的玻璃糊劑Gp重疊地移動到終點Pe，則從噴嘴55a涂敷的玻璃糊劑Gp 與在先涂敷的玻璃糊劑Gp重疊地被涂敷，形成重疊部101。
此時的玻璃糊劑Gp的涂敷量是因注射器55 (參見圖2的(a))的殘壓的大小而變動的量，并非被控制的涂敷量。但是，由于在重疊部101，先行以比基準涂敷高度StdH低允許誤差Λ Ht的涂敷高度Ht涂敷玻璃糊劑Gp，所以，在向其上新重疊地涂敷玻璃糊劑Gp的情況下，能夠確保涂敷高度Ht在比基準涂敷高度StdH低允許誤差Λ Ht的高度以上。
另外，即使在噴嘴55a到達終點Pe前，注射器55的內部降低至大致大氣壓，玻璃糊劑Gp的涂敷 停止，也能夠確保比基準涂敷高度StdH低允許誤差Λ Ht的涂敷高度。換言之，不存在涂敷高度Ht在始端部IOlS比基準涂敷高度StdH低到超過允許誤差Λ Ht的情況。另外，由于噴嘴高度Nh比基準涂敷高度StdH高與允許誤差Λ Ht相當的量，所以，不存在比基準涂敷高度StdH超過允許誤差Λ Ht地涂敷玻璃糊劑Gp的情況。由于上述情況，能夠在始端部101S，將玻璃糊劑Gp的涂敷高度Ht相對于基準涂敷高度StdH抑制在允許誤差 AHt的范圍內。
另外，即使是在始端部IOlS在先涂敷的玻璃糊劑Gp的涂敷高度Ht比基準涂敷高度StdH高的情況下，由于與始端部IOlS重疊地移動的噴嘴55a的噴嘴高度Ht比基準涂敷高度StdH高與允許誤差Λ Ht相當的量，所以，在始端部IOlS在先被涂敷的玻璃糊劑Gp和噴嘴55a的接觸得到防止，不存在由噴嘴55a將玻璃糊劑Gp削除的情況。因此，因被噴嘴 55a削除的玻璃糊劑Gp而使涂敷高度Ht變高的情況得到防止。
另外，優選始端部IOlS的規定長度(第一規定長度L11)、從閥門10b(參見圖1)被閉閥的始點Ps開始的第二規定長度L12、從使噴嘴55a上升的始點Ps開始的第三規定長度L13以及終端部IOlE的規定長度(第四規定長度L14)是通過事先的實驗計量等恰當地設定的值。
例如，優選以噴嘴55a在遍及第四規定長度L14形成的終端部IOlE移動期間，噴嘴55a與始端部IOlS重疊地移動的方式，設置第三規定長度L13以及第四規定長度L14。 另外，優選以終點Pe重疊地形成在始端部IOlS的位置的方式，設定始端部IOlS的第一規定長度L11。即、優選做成至少一部分與始端部IOlS重疊的方式形成終端部IOlE的結構。
另外，優選以在距始點Ps第二規定長度L12的近前的位置閥門IOb被關閉，此后， 在噴嘴55a移動到終點Pe期間停止玻璃糊劑Gp的涂敷，進而，與始端部IOlS重疊地涂敷玻璃糊劑Gp，形成重疊部101的方式設定第二規定長度L12。即、優選做成在始端部IOlS 和終端部IOlE重疊的部分的至少一部分玻璃糊劑Gp被重疊地涂敷的結構。
根據該結構，終端部形成工序成為將蒸鍍部Al (參見圖3的(a))的周圍的一點作為終點Pe，使噴嘴55a沿蒸鍍部Al的周圍且以至少一部分與始端部IOlS重疊的方式移動， 形成終端部IOlE的工序。
根據上述那樣的結構，由于在繞蒸鍍部Al (參見圖3的(a))大致一圈的噴嘴55a 到·達始點Ps前(距始點Ps第三規定長度L13的近前的位置)噴嘴高度Nh高與允許誤差Λ Ht 相當的量，所以，即使是在先涂敷在始端部IOlS的玻璃糊劑Gp的涂敷高度Ht比基準涂敷高度StdH高的情況下，也能夠避免噴嘴55a與被涂敷在始端部IOlS的玻璃糊劑Gp接觸， 將玻璃糊劑Gp削除的情況。而且，因被噴嘴55a削除的玻璃糊劑Gp而使涂敷高度Ht高到超過允許誤差Λ Ht的情況得到防止。
這樣，控制部9 (參見圖1)執行使噴嘴高度Nh比基準涂敷高度StdH高與允許誤差Λ Ht相當的量，使噴嘴55a移動，以沿蒸鍍部Al (參見圖3的(a))的周圍且至少一部分與始端部IOlS重疊的方式，形成到終點Pe為止的遍及第四規定長度L14的終端部IOlE的終端部形成工序，形成終端部101E。
再有，控制部9執行在從始端部IOlS到終端部IOlE之間(始端部IOlS和終端部 IOlE以外的部分)使噴嘴高度Nh為基準涂敷高度StdH，使噴嘴55a移動的工序(標準移動工序)，使噴嘴55a沿第一圖案Ptl移動，將玻璃糊劑Gp向基板8 (參見圖1)涂敷。
如上所述，在沿圖3的(a)所示的第一圖案Ptl涂敷玻璃糊劑Gp的第一實施方式中，控制部9 (參見圖1)執行形成始端部IOlS的始端部形成工序，像圖4的(a)所示那樣，在從始點Ps開始的遍及第一規定長度Lll的始端部101S，以比基準涂敷高度StdH低允許誤差Λ Ht的涂敷高度Ht涂敷玻璃糊劑Gp。再有，控制部9執行形成終端部IOlE的終端部形成工序，在距始點Ps第三規定長度L13的近前的位置使噴嘴高度Nh高與允許誤差Λ Ht相當的量，以與始端部IOlS重疊的方式，使噴嘴55a遍及第四規定長度L14移動到終點Pe。而且，在始端部形成工序和終端部形成工序之間，執行使噴嘴高度Nh為基準涂敷高度StdH，使噴嘴55a移動的標準移動工序，將玻璃糊劑Gp向基板8涂敷。根據該結構， 在通過玻璃糊劑Gp的涂敷形成第一圖案Ptl時，能夠將始點Ps和終點Pe附近的涂敷高度 Ht抑制在從基準涂敷高度StdH到允許誤差Λ Ht的范圍內。
《第二實施方式》
本發明的第二實施方式是用于將玻璃糊劑Gp涂敷成圖3的(b)所示的第二圖案 Pt2的形狀的實施方式。
在將玻璃糊劑Gp涂敷成第二圖案Pt2的形狀時，控制部9 (參見圖1)在被設定在被大致矩形地形成在基板8的平面上的蒸鍍部Al的一個邊的延長線上的始點Ps，向閥門 IOb (參見圖1)傳輸控制信號，進行開閥，將噴嘴高度Nh設定得比基準涂敷高度StdH低， 開始玻璃糊劑Gp的涂敷。例如，如圖5的(a)所示，以比基準涂敷高度StdH低與涂敷高度 Ht所允許的允許誤差Λ Ht相當的量的噴嘴高度Nh涂敷玻璃糊劑Gp。控制部9在該狀態下，使噴嘴55a沿在延長線上具有始點Ps的一邊向蒸鍍部Al側移動規定的長度(第五規定長度L21 )。這樣，以比基準涂敷高度StdH低允許誤差Λ Ht的涂敷高度Ht被涂敷玻璃糊劑 Gp的部分(從始點Ps開始的遍及第五規定長度L21的范圍)成為第二實施方式中的始端部 IOlS0優選始端部IOlS的長度(第五規定長度L21)是始點Ps和蒸鍍部Al的距離以上的長度。
在第二圖案Pt2中，始點Ps是從蒸鍍部Al的周圍向外方離開的一點，控制部9(參見圖1)執行使噴嘴高度Nh比基準涂敷高度StdH低與允許誤差Λ Ht相當的量，使噴嘴55a 從始點Ps朝向蒸鍍部Al的周圍移動，形成遍及第五規定長度L21的始端部IOlS的始端部形成工序。
在始端部IOlS的第五規定長度L21比始點Ps和蒸鍍部Al的距離長的情況下，在蒸鍍部Al的周圍的一部分形成始端部101S。但是，始端部IOlS是比基準涂敷高度StdH低允許誤差Λ Ht的涂敷高度Ht，即使是在始端部IOlS被形成在蒸鍍部Al的周圍的一部分的情況下，也能夠將蒸鍍部Al的周圍的涂敷高度Ht相對于基準涂敷高度StdH抑制在允許誤差Λ Ht的范圍。
例如，在基準涂敷高度StdH為[30 μ m]，允許誤差Λ Ht為[± ΙΟμπι]時，控制部9 (參見圖1)在從始點Ps開始的遍及第五規定長度L21的部分(始端部101S)，使噴嘴高度Nh 為[20μπι (30 μ m-ΙΟμπι)]，涂敷玻璃糊劑Gp。此后，控制部9使噴嘴高度Nh為基準涂敷高度StdH (30 μ m)，向蒸鍍部Al的周圍涂敷玻璃糊劑Gp。
另外，也可以做成在從始點Ps開始的遍及第五規定長度L21的部分的至少一部分，使噴嘴高度Nh比基準涂敷高度StdH低與允許誤差Λ Ht相當的量，使噴嘴55a移動的結構。例如，也可以做成僅在玻璃糊劑Gp交叉的交叉點103的附近，使噴嘴高度Nh比基準涂敷高度StdH低與允許誤差Λ Ht相當的量，使噴嘴55a移動的結構。
在噴嘴55a繞蒸鍍部Al的周圍大致一圈，如圖5的(b)所示，來到在與始端部 IOlS正交的邊上，距始端部IOlS規定的長度(第六規定長度L22)的近前的位置時，控制部9(參見圖1)使噴嘴55a上升。具體地說，控制部9使噴嘴55a上升與允許誤差Λ Ht相當的量。例如，在基準涂敷高度StdH為[30 μ m]，允許誤差Λ Ht為[±10μπι]時，控制部9使噴嘴55a上升10 μ m，使基準涂敷高度StdH (30 μ m)的噴嘴高度Nh為[40 μ m (30ym +10μ m)]。
在該狀態下，控制部9 (參見圖1)使噴嘴55a以將始端部IOlS橫穿的方式移動， 在適當設定的終點Pe使噴嘴55a的移動停止。進而，控制部9向閥門IOb (參見圖1)傳輸控制信號，進行閉閥。
控制部9使噴嘴高度Nh從基準涂敷高度StdH上升與允許誤差Λ Ht相當的量，使噴嘴55a移動的部分成為第二實施方式中的終端部101E。
另外，將終端部IOlE的長度，即、距從控制部9使噴嘴高度Nh升高的始端部IOlS 第六規定長度L22的近前的位置到終點Pe為止的長度成為第七規定值L23。
這樣，在第二實施方式中，始端部IOlS和終端部IOlE在交叉點103交叉，形成第二圖案Pt2 (參見圖3的(b))。
S卩、控制部9 (參見圖1)執行使噴嘴高度Nh從基準涂敷高度StdH升高與允許誤差Λ Ht相當的量，且以朝向從蒸鍍部Al的周圍向外方離開的終點Pe，且在交叉點103與始端部IOlS交叉的方式使噴嘴55a移動，形成遍及第七規定長度L23的終端部IOlE的終端部形成工序。
再有，控制部9執行在從始端部IOlS到終端部IOlE之間(始端部IOlS和終端部 IOlE以外的部分)，使噴嘴高度Nh為基準涂敷高度StdH，使噴嘴55a移動的標準移動工序， 使噴嘴55a沿第二圖案Pt2 (參見圖3的(b))移動，將玻璃糊劑Gp向基板8 (參見圖1)涂敷。
另外，從控制部9 (參見圖1)使噴嘴55a開始上升的始端部IOlS開始的規定的長度(第六規定長度L22)只要是噴嘴55a在朝向始端部IOlS移動第六規定長度L22期間，能夠從基準涂敷高度StdH上升與允許誤差Λ Ht相當的量的長度即可。
在始端部IOlS的涂敷高度Ht和將始端部IOlS橫穿時的噴嘴55a的噴嘴高度Nh 相等的情況下，存在因誤差等導致噴嘴55a與在先涂敷在始端部IOlS的玻璃糊劑Gp接觸， 玻璃糊劑Gp被削除的情況。此時，若沿蒸鍍部Al涂敷的玻璃糊劑Gp的一部分與始端部 IOlS的玻璃糊劑Gp —起被削除，則該部分的涂敷高度Ht變低，蒸鍍部Al的周圍的涂敷高度Ht不再均勻。
在第二實施方式中，由于使涂敷在始端部IOlS的玻璃糊劑Gp的涂敷高度Ht比基準涂敷高度StdH低允許誤差Λ Ht，另外，使噴嘴55a將始端部IOlS橫穿時的噴嘴高度Nh 比基準涂敷高度StdH高與允許誤差Λ Ht相當的量，所以，能夠在噴嘴55a將始端部IOlS 橫穿時，避免噴嘴55a與被涂敷在始端部IOlS的玻璃糊劑Gp接觸。
因此，能夠防止被涂敷在蒸鍍部Al的周圍的玻璃糊劑Gp與涂敷在始端部IOlS的玻璃糊劑Gp —起被噴嘴55a削除，能夠將蒸鍍部Al的周圍的玻璃糊劑Gp的涂敷高度Ht 抑制在從基準涂敷高度StdH到允許誤差Λ Ht的范圍內。
另外，終端部IOlE的噴嘴高度Nh從基準涂敷高度StdH高與允許誤差Λ Ht相當的量，能夠將終端部IOlE的玻璃糊劑Gp的涂敷高度Ht抑制在從基準涂敷高度StdH到允許誤差Λ Ht的范圍內。
如上所述，在沿圖3的(b)所示的第二圖案Pt2涂敷玻璃糊劑Gp的第二實施方式中，控制部9 (參見圖1)執行形成始端部IOlS (參見圖5的(a))的始端部形成工序，從始點Ps開始的遍及第五規定長度L21，以比基準涂敷高度StdH低允許誤差Λ Ht的涂敷高度 Ht涂敷玻璃糊劑Gp，形成始端部101S。再有，控制部9在噴嘴55a繞有機EL元件的蒸鍍部 Al的周圍大致一圈時，執行形成終端部IOlE (參見圖5的(b))的終端部形成工序，在距始端部IOlS第六規定長度L22的近前的位置，使噴嘴高度Nh高與允許誤差Λ Ht相當的量， 以噴嘴55a將始端部IOlS橫穿的方式使噴嘴55a移動。而且，在始端部形成工序和終端部形成工序之間，執行使噴嘴高度Nh為基準涂敷高度StdH，使噴嘴55a移動的標準移動工序， 將玻璃糊劑Gp向基板8涂敷。
根據該結構，能夠避免噴嘴55a將始端部IOlS橫穿時與在先涂敷的玻璃糊劑Gp 接觸的情況，能夠防止噴嘴55a將玻璃糊劑Gp削除。
而且，能夠將形成第二圖案Pt2時的始點Ps和終點Pe附近的涂敷高度Ht抑制在從基準涂敷高度StdH到允許誤差Λ Ht的范圍內。
另外，本發明在沿除圖3的(a)所示的第一圖案Ptl以及圖3的(b)所示的第二圖案Pt2以外的形狀的涂敷圖案涂敷玻璃糊劑Gp的情況下，也能夠應用。
符號說明
8 :基板；55 :注射器(糊劑收納部)；55a :噴嘴；100 :糊劑涂敷裝置；101S :始端部； IOlE :終端部；A1 :蒸鍍部(規定的區域);Gp :玻璃糊劑(糊劑);Ps :始點；Pe :終點；AHt :允許誤差。
權利要求
1.一種糊劑涂敷裝置，是使連續涂敷糊劑的噴嘴移動，將上述糊劑連續地涂敷在基板的平面上的規定的區域的周圍的糊劑涂敷裝置，其特征在于， 在從上述噴嘴開始移動的始點開始的遍及規定長度的始端部，使從上述基板到上述噴嘴為止的噴嘴高度比規定的基準高度低，使上述噴嘴移動， 在到上述噴嘴結束移動的終點為止的遍及規定長度的終端部，使上述噴嘴高度比上述基準高度高，使上述噴嘴移動， 在上述始端部以及上述終端部以外的部分將上述噴嘴高度作為上述基準高度，使上述噴嘴移動， 再有，以在上述始端部和上述終端部的至少一部分重疊地涂敷上述糊劑的方式，使上述噴嘴移動。
2.如權利要求1所述的糊劑涂敷裝置，其特征在于，在上述始端部， 使上述噴嘴高度比上述基準高度低與在將上述基準高度作為上述噴嘴高度，使上述噴嘴移動時向上述基板涂敷的上述糊劑的涂敷高度所允許的允許誤差相當的量， 在上述終端部， 使上述噴嘴高度比上述基準高度高與上述允許誤差相當的量。
3.如權利要求1或2所述的糊劑涂敷裝置，其特征在于，以將上述區域的周圍的I點作為上述始點，沿該區域的周圍形成上述始端部，將上述區域的周圍的I點作為上述終點，沿該區域的周圍且至少一部分與上述始端部重疊地形成上述終端部的方式，使上述噴嘴移動。
4.如權利要求3所述的糊劑涂敷裝置，其特征在于，具備收納上述糊劑的糊劑收納部、 為從上述噴嘴涂敷上述糊劑而向上述糊劑收納部供給排出壓的加壓源， 先于形成上述終端部，停止從上述加壓源向上述糊劑收納部供給排出壓。
5.如權利要求1或2所述的糊劑涂敷裝置，其特征在于，以將從上述區域的周圍向外方離開的I點作為上述始點，朝向上述區域的周圍形成上述始端部， 將從上述區域的周圍向外方離開的I點作為上述終點，從上述區域的周圍朝向該終點，且與上述始端部交叉地形成上述終端部的方式，使上述噴嘴移動。
6.一種糊劑涂敷方法，是使連續涂敷糊劑的噴嘴移動，將上述糊劑向基板的平面上的規定的區域的周圍連續涂敷的糊劑涂敷方法，其特征在于，具有 使從上述基板到上述噴嘴為止的噴嘴高度比規定的基準高度低，使上述噴嘴移動，形成從上述噴嘴開始移動的始點開始的遍及規定長度的始端部的始端部形成工序、 使上述噴嘴高度比上述基準高度高，使上述噴嘴移動，形成到上述噴嘴結束移動的終點為止的遍及規定長度的終端部的終端部形成工序、 在上述始端部以及上述終端部以外的部分，使上述噴嘴高度為上述基準高度，使上述噴嘴移動的標準移動工序， 以在上述始端部和上述終端部的至少一部分重疊地涂敷上述糊劑的方式，使上述噴嘴移動。
7.如權利要求6所述的糊劑涂敷方法，其特征在于，在上述始端部形成工序中， 使上述噴嘴高度比上述基準高度低與在將上述基準高度作為上述噴嘴高度，使上述噴嘴移動時向上述基板涂敷的上述糊劑的涂敷高度所允許的允許誤差相當的量， 在上述終端部形成工序中， 使上述噴嘴高度比上述基準高度高與上述允許誤差相當的量。
8.如權利要求6或7所述的糊劑涂敷方法，其特征在于，上述始端部形成工序是 將上述區域的周圍的I點作為上述始點，使上述噴嘴沿上述區域的周圍移動，形成上述始端部的工序， 上述終端部形成工序是 將上述區域的周圍的I點作為上述終點，使上述噴嘴沿上述區域的周圍，且以至少一部分與上述始端部重疊的方式移動，形成上述終端部的工序。
9.如權利要求8所述的糊劑涂敷方法，其特征在于，先于執行上述終端部形成工序，執行使上述糊劑的涂敷停止的涂敷停止工序。
10.如權利要求6或7所述的糊劑涂敷方法，其特征在于，上述始端部形成工序是 將從上述區域的周圍向外方離開的I點作為上述始點，使上述噴嘴朝向上述區域的周圍移動，形成上述始端部的工序， 上述終端部形成工序是 以將從上述區域的周圍向外方離開的I點作為上述終點，使上述噴嘴從上述區域的周圍朝向上述終點，且與上述始端部交叉的方式移動，形成上述終端部的工序。
全文摘要
本發明以提供一種能夠將玻璃糊劑的涂敷高度恰當地維持在規定的誤差范圍的糊劑涂敷裝置以及糊劑涂敷方法為課題。本發明的糊劑涂敷裝置以及糊劑涂敷方法的特征在于，在形成從噴嘴(55a)的始點(Ps)開始的始端部(101S)的部分，使噴嘴高度(Nh)比基準涂敷高度(StdH)低，噴嘴(55a)移動，在形成到噴嘴(55a)的終點(Pe)為止的終端部(101E)的部分，使噴嘴高度(Nh)比基準涂敷高度(StdH)高，噴嘴(55a)移動，在形成始端部(101S)的部分以及形成終端部(101E)的部分以外的部分，將噴嘴高度(Nh)作為基準涂敷高度(StdH)，噴嘴(55a)移動，再有，在始端部(101S)和終端部(101E)的至少一部分，噴嘴(55a)以玻璃糊劑(Gp)被重疊地涂敷的方式移動。
文檔編號B05C11/10GK103008167SQ201210298580
公開日2013年4月3日 申請日期2012年8月21日 優先權日2011年9月21日
發明者三井信治, 宮本芳次, 山本英明, 中村秀男, 石田茂 申請人:株式會社日立工業設備技術