專利名稱：壓敏性粘接片的制造方法及其裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及通過向涂敷在片狀、帶狀或者膜狀等的支承體上的光聚合性組合物層照射光，使該光聚合性組合物層光聚合而得到壓敏性粘接劑層的壓敏性粘接片的制造方法及其裝置。
背景技術：
以往公知有在膜狀等支承體上以適當的厚度涂敷光聚合性組合物層，通過照射光使涂敷之后的光聚合性組合物層聚合而形成壓敏性粘接劑層的壓敏性粘接片的制造方法。在該方法中，由向光聚合性組合物層照射光的氣氛中存在的氧阻礙了聚合反應， 因此，實施除去氧的工作。例如，在非活性氣體氣氛中向涂敷于支承板的光聚合性組合物層照射光，或者在涂敷有光聚合性組合物層的支承體的涂敷面粘貼透光性膜來阻斷空氣的狀態下照射光(參照日本特開平3 - 285975號公報及日本特開平3 — 285974號公報)。但是，在以往的方法中產生以下的問題。在非活性氣體氣氛中向光聚合性組合物層照射光的情況下，存在光聚合性組合物層中的易于蒸發的單體蒸發這樣的問題。由于隨著聚合反應而產生的熱量等會使單體的一部分也自光聚合性組合物層的表面蒸發，因此，可將沸點不同的兩種以上單體的混合物用作光聚合性組合物層。在這種情況下，在單體之間蒸發量產生偏差。結果，也存在單體的組成比變化，作為目標的粘合特性降低這樣的問題。另外，只要增加非活性氣體的流量，非活性氣體氣氛中的氧濃度就能夠成為低氧濃度。但是，非活性氣體的流量越增加，越易于在氣氛中產生風，因此，存在因該風的影響而促進單體的一部分自光聚合性組合物層的表面蒸發這樣的問題。另外，還存在隨著非活性氣體的使用量增加而費用負擔增大這樣的不良情況。另外，采用在支承體的光聚合性組合物層的涂敷面粘貼透光性膜的狀態下照射光的方法，不會產生上述的問題。但是，為了自支承體上的光聚合性組合物層容易地剝離透光性膜，需要實施在透光性膜上涂敷硅樹脂等的脫模處理。因而，在處理工序增加及費用增大的同時，也有可能由脫模處理導致工序內污染。
發明內容
本發明即是鑒于該情況而做成的，其主要目的在于提供能夠防止單體蒸發、由單體蒸發導致粘合特性的降低、并且能夠穩定地保持低氧濃度的壓敏性粘接片的制造方法及其裝置。本發明為了達到該目的而采用如下的構造。即，本發明是一種壓敏性粘接片的制造方法，其使涂敷在支承體上的光聚合性組合物層聚合反應而得到壓敏性粘接劑層，其中，上述方法包括以下過程在用于向密閉連結的支承體涂敷光聚合性組合物的涂敷部和用于向涂敷之后的光聚合性組合物層照射光的光照射部中，在該涂敷部的支承體的入口側設置至少I個非活性氣體供給部件，朝向支承體吹出非活性氣體。采用上述方法，由于在涂敷部的入口側向支承體吹出非活性氣體，因此，能夠阻斷由被輸送到涂敷部的支承體一起帶入到涂敷部內部的氧。因而，能夠降低涂敷部內的氧量。由于被帶入到涂敷部的密閉空間內的氧量較少，因此，也能夠降低為了替換該涂敷部和連結密閉于該涂敷部的光照射部內的氧而供給的非活性氣體的供給量。因而，在各密閉空間內能夠易于以較少的非活性氣體的供給量將氧濃度保持恒定。在上述方法中，優選非活性氣體供給部件是腔室，在該腔室內持續填充非活性氣體。采用該方法，通過持續填充非活性氣體，腔室內的內部壓力高于大氣壓，朝向形成在支承體的輸送路徑中的腔室的入口側和涂敷部的入口側形成非活性氣體的排氣流。因而，能夠阻斷從腔室的入口被支承體一起帶入的氧，并且，也能夠同時向涂敷部內供給非活性氣體。 另外，在上述方法中，也可以在腔室內向與支承體的輸送方向相反朝向的斜方向吹出非活性氣體而形成朝向入口的排氣流。采用該方法，由于從腔室的入口流到外部的非活性氣體的流速變快，因此，能夠可靠地防止氧帶入到涂敷部內。另外，在上述方法中，也可以向上述涂敷部和光照射部的密閉空間內填充非活性氣體。在這種情況下，優選使涂敷部和光照射部的密閉空間的內部壓力高于腔室的內部壓力。采用該方法，由于涂敷部和光照射部的內部壓力高于腔室的內部壓力和大氣壓，因此，能夠防止氧帶入到涂敷部內和光照射部內。另外，在上述方法中，優選從比在涂敷部和光照射部的密閉空間內輸送的、光聚合性組合物的涂敷面朝上的支承體的位置低的位置供給非活性氣體。采用該方法，由于不會直接向涂敷在支承體上的光聚合性組合物吹出非活性氣體，因此，能夠抑制光聚合性組合物層所含有的單體的蒸發。因而，能夠得到穩定特性的壓敏性粘接劑。另外，在上述方法中，也可以將在光照射部中輸送的支承體的背面冷卻。通過冷卻支承體的背面，能夠可靠地抑制光聚合性組合物層所含有的單體的蒸發。另外，在冷卻支承體的情況下，優選使在后述的冷卻輥內被冷卻的非活性氣體循環之后，將該非活性氣體供給到涂敷部和光照射部；前述的冷卻輥與支承體的背面接觸。采用該方法，將非活性氣體用作冷卻用的制冷劑，并且再利用冷卻使用后的非活性氣體將其供給到涂敷部和光照射部。因而，能夠降低非活性氣體的使用量，而且能夠降低運行成本。另外，本發明為了達到該目的而采用如下的構造。S卩，本發明是一種壓敏性粘接片的制造裝置，其使涂敷在支承體上的光聚合性組合物聚合反應而得到壓敏性粘接劑層，其中，上述裝置包括以下構造
至少I個非活性氣體供給部件，其用于朝向輸送來的上述支承體吹出非活性氣體；涂敷部，其與上述非活性氣體供給部件連結地配備，用于在密閉空間內向支承體涂敷光聚合性組合物；光照射部，其與上述涂敷部連結地配備，用于向在密閉空間內涂敷在支承體上的光聚合性組合物層照射光；回收部，其用于在上述光照射部中回收形成有壓敏性粘接劑層的支承體。采用該構造，能夠較佳地實施上述方法。另外，在上述構造中，優選包括用于向涂敷部和光照射部的密閉空間內供給非活性氣體的非活性氣體供給部件。 采用該構造，由于能夠可靠地防止隨著輸送支承體而向涂敷部內和光照射部內帶入氧，因此，易于將其內部的氧濃度保持恒定。另外，在上述方法中，優選非活性氣體供給部件構成為，使在后述的冷卻輥內被冷卻的非活性氣體循環之后，將該非活性氣體供給到上述涂敷部和光照射部的密閉空間內；前述的冷卻輥與在光照射部中輸送的支承體的背面接觸。采用該構造，由于將非活性氣體用作冷卻用的制冷劑，并且再利用冷卻使用后的非活性氣體將其供給到涂敷部和光照射部，因此，能夠降低使用量，而且能夠降低運行成本。
為了說明發明而圖示了被認為是現今較佳的幾種方式，但應理解為發明并不限定于圖示那樣的構造和方法。圖I是表示壓敏性粘接片制造裝置的概略構造的主視圖。圖2是光源部和光照射窗部的放大主視圖。圖3是具體例3的非活性腔室周圍的放大圖。圖4是變形例裝置的非活性腔室周圍的放大圖。
具體實施例方式下面，參照
本發明的一實施例。圖I是本發明的壓敏性粘接片的制造裝置的概略結構圖。另外，在本實施例中，利用該壓敏性粘接片的制造裝置，作為壓敏性粘接片例如以制造將支承體用作剝離襯墊的雙面粘接片的情況為例進行說明。如圖I所示，本實施例的壓敏性粘接片的制造裝置從片狀、帶狀或者膜狀等的支承體(基材)I的輸送路徑上游按照非活性氣體腔室2、涂敷部3、光照射部4和卷取部5的順序配備。涂敷部3和光照射部4 一邊在密閉的空間內輸送支承體I、一邊進行各處理。另夕卜，非活性氣體腔室2、涂敷部3和光照射部4利用密閉空間連結。下面，詳細說明各部的構造。非活性氣體腔室2由夾著支承體I的上下一對腔室構成。各腔室利用設有減壓閥6的流路與第I非活性氣體供給部7連通連接。另外，在流路上設有，夾著減壓閥6的一對壓力計P和減壓閥6的下游側的I個流量計F。為了能夠均勻地噴射供給到內部的非活性氣體，在各腔室的吹出口上包括流量調整用的沖孔金屬。沖孔金屬的孔的大小越小且數量越多，越能夠均勻地噴射非活性氣體。另外，在本實施例裝置的情況下，例如噴射的非活性氣體流量最大能夠達到2400L / min.。但是，考慮到成本方面，該流量越少越好。但是，在該流量過少時，無法達到低氧濃度，因此，更優選為 7L / min · 108L / min.。一對壓力計P用于檢測減壓閥6的前后壓力，將該檢測結果發送到控制部。另外，利用流量計F檢測自減壓閥6在下游流動的非活性氣體的流量，將該檢測結果發送到控制部。控制部根據壓力計P與流量計的檢測結果，監視預先決定的設定值的各檢測值是否一致，根據需要調節減壓閥6的開度。本實施例的涂敷部3使用反向涂料器。因而，該反向涂料器由供液槽8、涂敷輥10和計量輥11構成。
供液槽8用于在密閉空間內積存供給用的光聚合性組合物9。涂敷輥10用于將自供液槽8供給來的光聚合性組合物9以規定寬度涂敷并輸送在支承體I的表面。計量輥11用于調整涂敷在支承體I上的光聚合性組合物9的厚度。另外，涂敷部3并不限定于反向涂料器，也可以是凹版涂料器等其他的涂敷方式的構造。即，調整光聚合性組合物9的厚度的方法也能夠與各涂敷方式相結合地適當地變更實施。另外，涂敷部3為了在其密閉空間內供給有非活性氣體，通過流路與第2非活性氣體供給部12連通連接。光照射部4由配備在密閉空間的外部上方的光源部13、用于輸送配備在密閉空間內的支承體I的輸送機14、及密閉空間的頂部所包括的光照射窗部15構成。光源部13包括光源16、反射器17和透光窗部18。光源16用于照射可見光線、紫外線等的光。反射器17用于使來自光源16的光反射并朝向支承體I。透光窗部18用于使來自光源16的光透射。來自光源部13的光在支承體I的寬度方向上被調整為均勻的光照度。作為該光源16，采用直管式的光源，如圖I所示，以光源16的長度方向與支承體I的輸送方向正交的方式，多個(例如8個)光源16沿著支承體I的輸送路徑并列配置。各個光源16例如能夠獨立地設定照射條件。例如，能夠設定為前半部分的光源16 (例如從支承體I的輸入側數到第4個為止的光源16)照射比后半部分的光源16 (從支承體I的輸入側數第5個 第8個的光源16)的亮度低的紫外線。作為光源16，例如能夠列舉出無電極燈、金屬鹵化物燈、高壓水銀燈、化學燈、黑光燈等。輸送機14由多個冷卻輥20構成，這些冷卻輥20能夠使從配備在外部制冷劑供給裝置19供給來的制冷劑循環到內部。輸送機14利用來自光源16的熱量、來自光源16的光使支承體I的光聚合性組合物9聚合反應，將利用由該化學反應產生的聚合熱量等溫度上升的光聚合性組合物9冷卻到規定的溫度范圍內。具體地講，該冷卻是將聚合過程中的光聚合性組合物9的溫度冷卻到60°C 一30°C、更優選為40°C 一 20°C、進一步優選為20°C 一 10°C的溫度范圍內。通過將聚合過程中的光聚合性組合物9的溫度冷卻到上述規定的溫度范圍內，能夠減少聚合時的單體蒸發。在聚合過程中的光聚合性組合物9的溫度過低(例如一 30°C以下)時，聚合反應速度過慢，因此并不理想。作為冷卻輥20的材質，優選導熱性較佳的金屬、例如銅、鋁、不銹鋼等，特別優選不銹鋼。另外，在本實施例中，優選在支承體I與輸送機14之間夾設液體層，液體層與支承體I和輸送機14密合而提高了導熱性。本實施例的輸送機14從光照射部4的入口到出口地配置，但也可以僅配設在單體的蒸發量較多的聚合初始階段的區域、例如從光照射部4的入口到中央部分。冷卻棍20用于冷卻輸送機14,該輸送機14利用來自光源16的熱量、來自光源16的光使支承體I的光聚合性組合物9聚合反應，將由該化學反應產生的聚合熱量等引起溫度上升的光聚合性組合物9冷卻到規定的溫度范圍內。
另外，輸送機14既可以是由冷卻輥20構成的輥式輸送機，也可以是在該冷卻輥20上纏繞環形帶而成的帶式輸送機。如圖2所示，光照射窗部15例如包括石英玻璃22和該石英玻璃22上的透光性膜23。光照射窗部15接近光聚合性組合物9地配備。光照射窗部15與光聚合性組合物9之間的距離例如優選為200mm以下左右，更優選為IOOmm以下，更優選為50mm以下，更優選為20mm以下。在該距離大于200mm時，滿足規定濃度的每單位容積的非活性氣體的使用量增加，產生伴隨著成本增加這樣的不良。另外，在該距離為20mm以下時，存在氧濃度降低，聚合反應受到阻礙這樣的問題。石英玻璃22只要可見光透射率為90 %以上且光照射部4的密閉性良好，就并不特別地限定于石英玻璃22。在這種情況下，例如也可以是硼硅酸玻璃。透光性膜23具有阻截短波長光的特性。其理由在于，在向光聚合性組合物9照射包含短波長的光時，通過光聚合而生成的壓敏性粘接劑層與支承體I的剝離性降低。因而，利用透光性膜23阻截短波長光。具體地講，作為透光性膜23，例如優選為能夠將短波長光(例如300nm以下)的透射阻截90%以上的膜，是優選能夠阻截93%以上、更優選能夠阻截95%以上的膜。另外，在本實施例的情況下，透光性膜23使用可見光透射率為70%以上的材料，能夠得到所需的透光量。作為該透光性膜23，更優選為可見光透射率為80%以上的材料，進一步優選為可見光透射率為90%以上的材料。該透光性膜23具有能夠充分承受自光源部13產生的熱量的程度的耐熱性。作為具有該特性的透光性膜23，例如能夠列舉出聚酯膜等。被透光性膜23阻截了短波長光后的光的照射光量根據壓敏性粘接劑層等的所需特性任意地設定，但在本實施例中，優選在IOOmJ / cm2 5000mJ / cm2的范圍內，更優選為IOOOmJ / cm2 4000mJ / cm2的范圍內，進一步優選為2000mJ / cm2 4000mJ / c m2的范圍內。另外，光照射部4為了在其密閉空間內供給有非活性氣體，通過流路與第2非活性氣體供給部12連通連接。制冷劑供給裝置19為了供給制冷劑(例如氮氣或者液體氮)而連通連接于冷卻輥
20。另外，在冷卻輥20中循環的非活性氣體返回到非活性氣體循環機構24。另外，制冷劑用非活性氣體或者液體只要不對支承體I產生破壞，其種類就沒有特別的限定，例如可以使用氮氣和液體的混合物等非活性氣體。非活性氣體循環機構24是用于回收在冷卻輥20中使用的非活性氣體，將該非活性氣體輸送到第2非活性氣體供給部12的系統。在第2非活性氣體供給部12中，新鮮的非活性氣體和在冷卻輥20中使用的非活性氣體混合，為了不會自分別設置于涂敷部3和光照射部4的噴嘴25 (朝向涂敷部3側的噴出口 25a、朝向光照射部4側的噴出口 25b)直接吹向光聚合性組合物9而自各部的底面供給非活性氣體。噴嘴25的配置、形狀并沒有特別的限定。在本實施例中，使用氮氣作為非活性氣體，但可以使用氬氣、二氧化碳氣等各種非活性氣體。由此形成的涂敷部3和光照射部4連結而成的密閉空間內的氧濃度例如為5000ppm以下,更優選為IOOOppm以下,更優選為500ppm以下。另外,被供給到涂敷部3和光照射部4連結而成的密閉空間內之后的無用的非活性氣體利用排氣系統(省略圖示)被適當地排出。 卷取部5包括引導輥26和支承體卷取輥27。引導輥26用于將接受了由光照射部4照射光的支承體I向規定的方向引導。支承體卷取輥27用于卷取被該引導輥26引導來的聚合處理完畢的支承體I。支承體I例如使用聚酯膜等塑料膜、無紡布、紡布、紙、金屬箔等。光聚合性組合物9含有單體或者其一部分聚合物和光聚合引發劑，利用光照射聚合而成為壓敏性粘接劑，可使用丙烯系、聚酯系、環氧系等光聚合性組合物。其中，也特別優選使用丙烯系的光聚合性組合物。作為光聚合性組合物9，使用例如以丙烯酸烷基酯單體為主成分的單體和含有極性基團的共聚性單體。丙烯酸烷基酯單體是以(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分的乙烯基系單體，作為具體例，可以將具有甲基、乙基、丙基、丁基、異丁基、戊基、異戊基、己基、庚基、辛基、異辛基、壬基、異壬基、癸基、異癸基之類的烷基的丙烯酸或甲基丙烯酸的烷基酯、或者其燒基的一部分被輕基取代的(甲基)丙稀酸燒基酷等燒基的碳原子數在I 14的范圍的(甲基)丙烯酸烷基酯I種或2種以上用于主成分。作為含有極性基團的共聚性單體，使用(甲基)丙烯酸、衣康酸、2-丙烯酰胺丙磺酸等不飽和酸、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯等含羥基單體、己內酯(甲基)丙烯酸酯等。另外，不限定于單體，也可以使用(甲基)丙烯酸二聚體等二聚體。對于以丙烯酸烷基酯單體為主成分的單體和含有極性基團的共聚性單體的使用比率，前者為70 99重量％,后者為30 I重量％,特別優選前者為80 96重量％、后者為20 4重量％。通過以這樣的范圍使用，可以順利地獲得粘接性、內聚力等的平衡性。作為光聚合引發劑，使用例如苯偶姻甲醚、苯偶姻異丙醚等苯偶姻醚類、苯甲醚甲醚等取代苯偶姻醚類、2，2- 二乙氧基苯乙酮、2，2- 二甲氧基-2-苯基苯乙酮等取代苯乙酮類、2-甲基-2-羥基苯丙酮等取代-α -酮類、2-萘磺酰氯等芳香族磺酰氯類、I-苯基-1，I-丙烷二酮-2-(鄰乙氧基羰基)肟等光活性肟類等。對于這樣的光聚合引發劑的使用量，相對于前述以丙烯酸烷基酯單體為主成分的單體和含有極性基團的共聚性單體的合計100重量份，通常為O. I 5重量份、更優選為O. I 3重量份。光聚合引發劑的使用量小于該范圍時，聚合速度變慢，容易殘留較多單體，工業上不優選，相反，光聚合引發劑的使用量大于該范圍時，聚合物的分子量降低，容易使粘接劑的內聚力降低，無法獲得粘接特性上優選的特性。作為交聯劑，使用多官能丙烯酸酯單體等，使用例如三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、1，2-乙二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1，12-十二烷二醇二丙烯酸酯等2官能以上的丙烯酸烷基酯單體。該多官能丙烯酸酯單體的使用量根據其官能團數等而不同，一般而言，相對于前述以丙烯酸烷基酯單體為主成分的單體和含有極性基團的共聚性單體的合計100重量份，為O. 01 5重量份、更優選為O. I 3重量份。以這樣的范圍使用多官能丙烯酸酯單體時，可以保持良好的內聚力。除了上述多官能丙烯酸酯之外，也可以根據粘接劑的用途同時使用交聯劑。作為同時使用的交聯劑，例如可以使用異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、氮丙啶系交聯劑等通常使用的交聯劑。另外，在本發明中，可以根據需要使用粘接附著劑等添加劑。接著，對利用如上所述地構成的實施例裝置作為壓敏性粘接劑例如制造將支承體 I用作剝離襯墊的雙面粘接片的制造工序進行說明如下。自粘合帶卷供給輸送來的支承體I在上下一對非活性氣體腔室2之間被輸送。此時，在從上下吹來的非活性氣體被填充到該輸送空間中的同時，形成朝向非活性氣體腔室2的外側和涂敷部3的入口的排氣流。因而，能夠防止隨著輸送支承體I而將氧從外部帶入到涂敷部3地，向涂敷部3輸送支承體I。涂敷部3對支承體I以該支承體I的規定寬度且成為規定厚度地涂敷光聚合性組合物9。這樣地涂敷有光聚合性組合物9的支承體I從涂敷部3被輸送到光照射部4。另夕卜，自涂敷部3的底部向該涂敷部3供給被第2非活性氣體供給部12用過濾器過濾后的非活性氣體。光照射部4用于使從光源部13照射來的光照射窗部15透射，將阻截了短波長光后的光照射到涂敷于支承體I的光聚合性組合物(光聚合性組合物層)9。此時，在支承體I的背面側具有冷卻機構，自制冷劑供給裝置19向冷卻輥20供給制冷劑(例如液體氮與氮氣的混合物)。因而，通過導熱性較佳的輸送機14變冷，從背面側冷卻支承體I。結果，能夠抑制由光聚合反應所伴隨的熱量等的影響導致單體自光聚合性組合物9蒸發。另外，利用光照射部4向支承體I的光聚合性組合物9照射阻截了短波長光后的光，直到光聚合性組合物9的聚合率達到至少80%以上為止。光聚合性組合物9的聚合率達到80%以上的檢測例如是對于在支承體I上涂敷有與欲制造的制品的規格相應的光聚合性組合物9的樣品，適當地變更光照射部4的照射光量等各條件地進行照射實驗。通過測定該實驗之后的樣品聚合率，能夠利用實驗求得。或者，也可以通過使用光聚合性組合物9的預先決定的物性、特性進行模擬而求得。這樣，在光聚合開始最初向光聚合性組合物9照射阻截了短波長光后的光，因此，能夠防止發生由光聚合開始最初的短波長光照射引起的支承體I與壓敏性粘接劑層的重剝離化現象，不會損害支承體I的剝離性。另外，在冷卻輥20中使用的制冷劑(例如液體氮與氮氣的混合物)返回到非活性氣體循環機構24而被用過濾器過濾，并且在第2非活性氣體供給部12中與新鮮的非活性氣體混合，以不會自分別設置于涂敷部3和光照射部4的噴嘴25 (涂敷部3側的噴出口 25a、光照射部4側的噴出口 25b)直接吹向光聚合性組合物9的方式供給非活性氣體。卷取部5用于卷取被光照射部4照射而得到了壓敏性粘接劑層的支承體I。這樣地制造壓敏性粘接片。下面，將使用圖I所示的裝置的情況作為具體例，在圖I所示的裝置中未使用非活性氣體腔室2的情況作為比較例，表示涂敷部3和光照射部4連結而成的密閉空間內的氧濃度測定試驗結果。具體例I將非活性氣體腔室2設置在支承體I的上下，使支承體I與非活性氣體腔室2的距離為I. 5mm,支承體I的輸送速度為2m / min.,與支承體I垂直地以71 / min.向該支承體I供給非活性氣體。另外，支承體I使用進行了硅處理后的聚乙烯膜，非活性氣體使用氮氣。具體例2將非活性氣體腔室2設置在支承體I的上下，使支承體I與非活性氣體腔室2的距離為IOmm,支承體I的輸送速度為IOm / min.,與支承體I垂直地以1081 / min.向該支承體I供給非活性氣體。除此之外，與具體例I同樣地實施具體例2。具體例3將非活性氣體腔室2設置在支承體I的上下，使支承體I與非活性氣體腔室2的距離為10mm，支承體I的輸送速度為IOm / min.，如圖3所示，向與支承體I的輸送方向相反朝向地從斜45°以1081 / min.向該支承體I供給非活性氣體。除此之外，與具體例I同樣地實施具體例3。比較例不使用非活性氣體腔室2，使支承體I的輸送速度為IOm / min.。支承體I使用進行了硅處理后的聚乙烯膜來實施。對于上述具體例I 3及比較例，表I表示測定被帶入到涂敷部3內的氧濃度的
該結果。
權利要求
1.一種壓敏性粘接片的制造方法，其使涂敷在支承體上的光聚合性組合物層發生聚合反應而得到壓敏性粘接劑層，其中， 上述方法包括以下過程 在密閉連結的用于向支承體涂敷光聚合性組合物的涂敷部和用于向涂敷之后的光聚合性組合物層照射光的光照射部中，在該涂敷部中的支承體的入口側設置至少I個非活性氣體供給部件，朝向支承體吹出非活性氣體。
2.根據權利要求I所述的壓敏性粘接片的制造方法，其中， 上述非活性氣體供給部件是腔室，在該腔室內持續填充非活性氣體。
3.根據權利要求I所述的壓敏性粘接片的制造方法，其中， 在上述腔室內向與支承體的輸送方向相反朝向的斜方向對該支承體吹出非活性氣體而形成朝向入口的排氣流。
4.根據權利要求I所述的壓敏性粘接片的制造方法，其中， 向上述涂敷部和光照射部的密閉空間內填充非活性氣體。
5.根據權利要求4所述的壓敏性粘接片的制造方法，其中， 使上述涂敷部和光照射部的密閉空間的內部壓力高于腔室的內部壓力。
6.根據權利要求I所述的壓敏性粘接片的制造方法，其中， 從比在上述涂敷部和光照射部的密閉空間內輸送的、光聚合性組合物的涂敷面朝上的支承體的位置低的位置，供給非活性氣體。
7.根據權利要求I所述的壓敏性粘接片的制造方法，其中， 將在上述光照射部中輸送的支承體的背面冷卻。
8.根據權利要求7所述的壓敏性粘接片的制造方法，其中， 使在冷卻輥內被冷卻的非活性氣體循環之后，將該非活性氣體供給到涂敷部和光照射部；該冷卻輥與上述支承體的背面接觸。
9.一種壓敏性粘接片的制造裝置，其使涂敷在支承體上的光聚合性組合物發生聚合反應而得到壓敏性粘接劑層，其中， 上述裝置包括以下構造 至少I個非活性氣體供給部件，其用于朝向輸送來的上述支承體吹出非活性氣體；涂敷部，其與上述非活性氣體供給部件連結地配備，用于在密閉空間內向支承體涂敷光聚合性組合物； 光照射部，其與上述涂敷部連結地配備，用于在密閉空間內向涂敷在支承體上的光聚合性組合物層照射光； 回收部，其用于回收在上述光照射部中形成有壓敏性粘接劑層的支承體。
10.根據權利要求9所述的壓敏性粘接片的制造裝置，其中， 上述裝置還包括以下構造 非活性氣體供給部件，其用于向上述涂敷部和光照射部的密閉空間內供給非活性氣體的。
11.根據權利要求10所述的壓敏性粘接片的制造裝置，其中， 上述非活性氣體供給部件構成為，使在冷卻輥內被冷卻的非活性氣體循環之后，將該非活性氣體供給到上述涂敷部和光照射部的密閉空間內；該冷卻輥與在光照射部中輸送的支承體的背面接觸 。
全文摘要
本發明提供壓敏性粘接片的制造方法及其裝置。該壓敏性粘接片的制造方法是在用于向密閉連結的支承體涂敷光聚合性組合物的涂敷部和用于向涂敷之后的光聚合性組合物層照射光的光照射部中，在該涂敷部的支承體的入口側設置至少1個非活性氣體供給部件，自該非活性氣體腔室朝向支承體吹出從第1非活性氣體供給部供給來的非活性氣體，并且，向涂敷部和光照射部各自的密閉空間中供給非活性氣體。
文檔編號C09J4/00GK102863923SQ20121023621
公開日2013年1月9日 申請日期2012年7月6日 優先權日2011年7月8日
發明者中島淳, 山根圣久 申請人:日東電工株式會社