專利名稱：涂敷裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及向有機EL顯示裝置用玻璃基板、液晶顯示裝置用玻璃基板、PDP(Plasma Display Panel :等離子體顯示板)用玻璃基板、太陽能電池用基板、電子紙用基板或者是半導體制造裝置用掩模基板等基板涂敷涂敷液的涂敷裝置。
背景技術：
例如,在制造使用高分子有機EL (Electro Luminescence :場致發光)材料的有源矩陣驅動方式的有機EL顯示裝置時，依次對玻璃基板進行如下工序形成TFT (Thin FilmTransistor :薄膜晶體管)電路的工序；形成作為陽極的ITO (Indium Tin Oxide :銦錫氧化物)電極的工序；形成間隔壁的工序；涂敷含有空穴輸送材料的流動性材料的工序；通過加熱處理,形成空穴輸送層的工序；涂敷含有有機EL材料的流動性材料的工序；通過加熱， 形成有機EL層的工序；形成陰極的工序；通過形成絕緣膜來進行封裝的工序。作為在制造這樣的有機EL顯示裝置時，在基板上涂敷含有空穴輸送材料的流動性材料、含有有機EL材料的流動性材料等涂敷液的涂敷裝置已知如下的裝置通過使連續噴出涂敷液的多個噴嘴，沿著主掃描方向及副掃描方向相對于基板移動，來在基板上的涂敷區域呈條紋狀地涂敷涂敷液。另外，專利文獻I提出了如下的結構，作為使具有多個噴嘴的涂敷頭在主掃描方向上往復移動的涂敷頭移動機構采用滑塊，該滑塊與沿著主掃描方向延伸的引導部配合，并且向該滑塊與引導部之間噴出空氣，以非接觸狀態被引導部支撐。在這專利文獻I所述的涂敷裝置中，通過空氣供給管向滑塊供給空氣。另外，通過與涂敷液貯存部相連接的撓性的涂敷液供給管，向安裝在該滑塊上的涂敷頭的多個噴嘴供給涂敷液。專利文獻I JP特開2009-131735號公報。在這樣的涂敷裝置中，要求涂敷液的膜厚均勻。為了使涂敷液的膜厚均勻，需要使從噴嘴噴出的涂敷液的流量均勻。但是，在涂敷頭的多個噴嘴與涂敷液貯存部通過撓性的涂敷液供給管來連接的狀態下，向快速往復移動的噴嘴供給涂敷液時，由于涂敷液供給管隨著噴嘴移動而發生變形、涂敷液供給管內的涂敷液的慣性力等的影響，難以使從噴嘴噴出的涂敷液的流量維持恒定。
發明內容
本發明是為了解決上述問題而提出的，其目的在于提供一種涂敷裝置，該涂敷裝置即使在通過撓性的涂敷液供給管從涂敷液貯存部向進行往復移動的噴嘴輸送涂敷液的情況下，也能夠將涂敷液的流量維持恒定，來均勻地涂敷涂敷液。技術方案I所述的發明為一種涂敷裝置，具有基板保持部，用于保持基板，噴嘴，用于向被上述基板保持部保持的基板噴出涂敷液，主掃描方向移動機構，用于使上述噴嘴沿著平行于基板的表面的主掃描方向往復移動，副掃描方向移動機構，用于使上述基板保持部沿著副掃描方向相對于上述噴嘴移動，其中，上述副掃描方向垂直于上述主掃描方向，并且上述副掃描方向平行于基板的表面，撓性的涂敷液供給管，用于從涂敷液貯存部向上述噴嘴輸送涂敷液，該涂敷裝置的特征在于，還具有壓力變動吸收機構，該壓力變動吸收機構配設在上述噴嘴與上述涂敷液供給管之間，并且與上述噴嘴形成一體來進行移動，該壓力變動吸收機構具有壓力吸收部，隨著從上述涂敷液供給管輸送的涂敷液的壓力變動而發生彈性變形，由此使涂敷液容置部的體積變化，流量抑制部，具有比上述涂敷液供給管的內徑更小的節流孔。技術方案2所述的發明的特征在于，在技術方案I所述的發明中，上述壓力吸收部由樹脂制的軟管構成。 技術方案3所述的發明的特征在于，在技術方案2所述的發明中，上述樹脂制的軟管的外經為Imm 3mm,上述樹脂制的軟管的內徑為O. 5mm 2. 5mm。技術方案4所述的發明的特征在于，在技術方案2所述的發明中，上述流量抑制部·是樹脂制的硬管，該硬管的內徑小于上述涂敷液供給管的內徑及上述軟管的內徑。技術方案5所述的發明的特征在于，在技術方案4所述的發明中，上述硬管的外經為1_ 3mm,上述硬管的內徑為O. 05mm O. 2mm。技術方案6所述的發明為一種涂敷裝置，具有基板保持部，用于保持基板，噴嘴，用于向被上述基板保持部保持的基板噴出涂敷液，主掃描方向移動機構，用于使上述噴嘴沿著平行于基板的表面的主掃描方向往復移動，副掃描方向移動機構，用于使上述基板保持部沿著副掃描方向相對于上述噴嘴移動，其中，上述副掃描方向垂直于上述主掃描方向，并且平行于基板的表面，撓性的涂敷液供給管，用于從涂敷液貯存部向上述噴嘴輸送涂敷液；該涂敷裝置的特征在于，還具有壓力變動吸收機構，該壓力變動吸收機構配設在上述噴嘴與上述涂敷液供給管之間，并且與上述噴嘴形成一體來進行移動，該壓力變動吸收機構具有壓力吸收部，由壁厚薄的軟管構成，隨著從上述涂敷液供給管輸送的涂敷液的壓力變動而發生彈性變形，由此使涂敷液容置部的體積變化，流量抑制部，內徑小于上述涂敷液供給管的內徑及上述軟管的內徑，由壁厚比上述軟管的壁厚厚的樹脂制的硬管構成。技術方案7所述的發明的特征在于，在技術方案I至6中任一項所述的發明中，上述噴嘴在上述副掃描方向上以規定的間距配設有多個，上述涂敷液供給管和上述壓力變動吸收機構與各噴嘴相對應地配設有多個，并且，多個上述涂敷液供給管分別通過質量流量控制器與用于從上述涂敷液貯存部壓送涂敷液的泵相連接。根據技術方案I所述的發明，即使在通過撓性的涂敷液供給管從涂敷液貯存部向進行往復移動的噴嘴輸送涂敷液的情況下，能夠通過具有壓力吸收部和流量抑制部的壓力變動吸收機構的作用，將涂敷液的流量維持恒定，從而能夠均勻地涂敷涂敷液。根據技術方案2及3所述的發明，能夠使壓力吸收部的結構簡單，另外，能夠通過改變軟管的長度來容易地控制涂敷液的壓力變動。根據技術方案4及5所述的發明，能夠使流量抑制部的結構簡單，另外，通過改變硬管的長度來容易地控制涂敷液的壓力變動。根據技術方案6所述的發明，即使在通過撓性的涂敷液供給管從涂敷液貯存部向進行往復移動的噴嘴輸送涂敷液的情況下，能夠通過具有壓力吸收部和流量抑制部的壓力變動吸收機構的作用，將涂敷液的流量維持恒定，從而能夠均勻地涂敷涂敷液。另外，能夠使壓力吸收部及流量抑制部的結構簡單，還有，能夠通過改變軟管及硬管的長度來容易地控制涂敷液的壓力變動。根據技術方案7所述的發明，即使在通過泵的作用向多個噴嘴壓送涂敷液的情況下，也能夠將從各噴嘴噴出的涂敷液的流量維持恒定，從而能夠均勻地涂敷涂敷液。
圖I是本發明的涂敷裝置的俯視圖。圖2是本發明的涂敷裝置的主視圖。圖3是涂敷頭移動機構21的滑塊31附近的剖視圖。圖4是表示涂敷液貯存部24和多個噴嘴23的連接關系的示意圖。圖5是本發明第I實施方式的壓力變動吸收機構70的概略圖。圖6A是本發明第2實施方式的壓力吸收部71的概略圖。圖6B是本發明第2實施方式的壓力吸收部71的概略圖。圖7是本發明第2實施方式的流量抑制部72的概略圖。
具體實施例方式下面，基于
本發明的實施方式。圖I是本發明的涂敷裝置的俯視圖，圖2是主視圖。該涂敷裝置用于在矩形的玻璃基板100上涂敷涂敷液。具體地說，該涂敷裝置用于在有源矩陣驅動方式的有機EL顯示裝置用的玻璃基板100上涂敷含有揮發性的溶媒(在本實施方式中是，作為芳香族的有機溶媒的一種的4-甲基苯甲醚)及作為發光材料的有機EL材料的涂敷液。該涂敷裝置具有用于使玻璃基板100移動的基板移動機構11。如圖2所不，該基板移動機構11具有從玻璃基板100的背面保持玻璃基板100的基板保持部10。該基板保持部10被沿著一對軌12移動的基臺13和設置在該基臺13上的旋轉臺14支撐。所以，該基板保持部10能夠沿著圖I所示的Y方向，與玻璃基板100的表面相平行地移動。該Y方向是與下述的涂敷頭20的往復移動方向即主掃描方向(圖I的X方向)垂直的方向。下面，該Y方向也稱為“副掃描方向”。另外，該基板保持部10能夠以朝向鉛垂方向的(圖I的Z方向)軸為中心旋轉。該基板保持部10的內部具有加熱器，該加熱器從下側加熱玻璃基板100。在該玻璃基板100的表面上，在Y方向上例如以100 150 μ m的間距排列形成有各自沿著X方向延伸的多個涂敷區域。所述涂布區域例如通過沿著X方向設置的間隔壁形成。另外，該涂敷裝置具有左右一對拍攝部15，拍攝部15拍攝形成在玻璃基板100上的未圖示的定位標記來進行檢測，并且拍攝涂敷頭20形成的涂敷軌跡。在上述的一對拍攝部15上分別設置有CXD照相機。另外，該涂敷裝置具有左右一對試驗涂敷載物臺16，試驗涂敷載物臺16在試驗性地涂敷涂敷軌跡時使用。向被基板保持部10保持的玻璃基板100的表面噴出涂敷液的涂敷頭20，通過涂敷頭移動機構21沿著一對引導部22，沿著平行于玻璃基板100表面的主掃描方向(圖I的X方向)往復移動。在該涂敷頭20上，在副掃描方向上等間距地設置有用于連續噴出同一種涂敷液的多個噴嘴23。在圖I及圖2中為了便于圖示，只圖示了 5個噴嘴23，但噴嘴23的個數可以更多或者也可以只有一個。另外，只要以規定的間距配置噴嘴23即可，間隔可以不等。涂敷頭20通過供給管組26與涂敷液貯存部24及空氣供給源25連接，其中，供給管組26是下述的空氣供給管及下述的多個涂敷液供給管64總括在一起形成的。在涂敷頭20的往復移動方向(X方向)上，在基板保持部10的兩側設置有兩個受液部17、18，受液部17、18接受來自涂敷頭20的噴嘴23的涂敷液。另外，在涂敷頭20的往復移動方向(X方向)上，在一個受液部18的側方設置有用于調整多個噴嘴23在副掃描方向上的間距的噴嘴間距調整機構19。圖3是涂敷頭移動機構21的滑塊31附近的剖視圖。在圖I所示的涂敷頭移動機構21的引導構件22上能夠滑動地設置有滑塊31。在該滑塊31上形成有引導構件22穿過的貫通孔32。如圖I所示，通過供給管組26所包括的 空氣供給管，從空氣供給源25向該滑塊31供給一定壓力的空氣。因此，如圖3所示，向貫通孔32的內周面與引導構件22的外周面之間噴出空氣(氣體)。圖3中，用標注Al的箭頭來表示空氣的噴出方向。這樣，滑塊31以非接觸狀態與引導部22配合，并且能夠沿著主掃描方向移動地被支撐。參照圖I，在一對弓丨導部22的兩端部附近設置有一對帶輪33，一對帶輪33能夠以朝向Z方向的軸為中心進行旋轉。在上述的一對帶輪33上卷繞有環狀的同步帶34。滑塊31的一端固定在該同步帶34上。另一方面，在滑塊31的另一端固定有上述涂敷頭20。因此，通過借助未圖示的馬達的驅動，使同步帶34順時針或者逆時針地旋轉，從而使涂敷頭20向-X方向或者+X方向往復移動。此時，因為借助上述的氣體的作用，能夠以非接觸狀態將滑塊31支撐于引導部22，所以能夠使涂敷頭20高速且平滑地往復移動。在該涂敷裝直中，該涂敷頭移動機構21為使涂敷頭20沿著王掃描方向移動的王掃描方向移動機構，基板移動機構11為使基板保持部10沿著副掃描方向移動的副掃描方向移動機構。在該涂敷裝置中，通過每次涂敷頭20沿著主掃描方向的移動結束，使玻璃基板100沿著副掃描方向移動，來在玻璃基板100的表面的涂敷區域涂敷涂敷液。此外，在涂敷頭20進行主掃描時，在受液部17、18的附近完成加速或者減速的動作，在玻璃基板100的上方，涂敷頭20例如以每秒3 5m的恒定速度移動。圖4是表示圖I所示的涂敷液貯存部24與多個噴嘴23之間的連接關系的示意圖。上述涂敷液貯存部24與用于壓送涂敷液的單獨的泵61相連接。該泵61通過分支管與多個質量流量控制器62連接。在涂敷頭20上以在副掃描方向上等間距的方式設置的多個噴嘴，各自通過作為本發明的特征部分的壓力變動吸收機構70、上述的撓性的涂敷液供給管64、電磁開關閥63，與質量流量控制器62連接。另外，各噴嘴23及壓力變動吸收機構70設置于涂敷頭20上，多個噴嘴23和壓力變動吸收機構70成為一體,在主掃描方向上往復移動。通過泵61的作用，貯存在涂敷液貯存部24的涂敷液被壓送到質量流量控制器62。然后，該涂敷液在質量流量控制器62中調整了流量之后，通過電磁開關閥63及撓性的涂敷液供給管64，被送到壓力變動吸收機構70。此時，由于涂敷頭20高速地往復移動產生的涂敷液供給管64的變形、作用于涂敷液供給管64內的涂敷液的慣性力等的影響，使通過涂敷液供給管64輸送的涂敷液的壓力變動，難以將流量維持恒定。因此，在壓力變動吸收機構70中，吸收該涂敷液的壓力變動，使從各噴嘴23噴出的涂敷液的流量恒定。接著，說明該壓力變動吸收機構70的結構。圖5是本發明的第I實施方式的壓力變動吸收機構70的概略圖。該壓力變動吸收機構70具有壓力吸收部71和流量抑制部72。在此，壓力吸收部71由薄壁的樹脂制的軟管73構成，通過隨著從涂敷液供給管64輸送的涂敷液的壓力變動而進行彈性變形，來使涂敷液容置部的體積變化。另外，流量抑制部72由內徑小于涂敷液供給管64的內徑和軟管73的內徑即具有更小的節流孔的厚壁的樹脂制的硬管74構成。軟管73通過連接器75與涂敷液供給管64相連接。另外，硬管74通過連接器77與噴嘴23相連接。并且，軟管73和硬管74通過連接器76來連接。 構成壓力吸收部71的軟管73，例如由外經為I. 5mm左右、內徑為I. Omm的PFA(四氟乙烯)制的管體構成。該軟管73隨著從涂敷液供給管64輸送的涂敷液的壓力變動而發生彈性變形，從而使該軟管73的內徑即涂敷液容置部的體積變化。因此，該軟管73由具有柔軟性及彈性的薄壁的管狀構件構成。作為該軟管73，為了能夠適當地彈性變形，優選外經為Imm 3mm左右，優選內徑為O. 5mm 2. 5mm左右。另一方面，構成流量抑制部72的硬管74由外經為I. 5mm左右、內徑為O. Imm左右的氟類樹脂制的管體構成。該硬管74具有作為微小節流孔的小的管徑，來發揮抑制流量的功能。因此，該硬管74由比較硬的厚壁的管狀構件構成。作為該硬管74，為了具有作為微小節流孔的功能，優選外經為Imm 3mm左右,優選內徑為O. 05mm O. 2mm左右。另外,該硬管74只要能夠維持作為微小節流孔的功能即可，也可以是具有柔軟性和規定彈性的管。這里所說的硬指硬度大于軟管73的硬度。在具有這樣結構的壓力變動吸收機構70中，通過壓力吸收部71和流量抑制部72分兩階段地吸收從涂敷液供給管64輸送的涂敷液的壓力變動，從而能夠使從各噴嘴23噴出的涂敷液的流量恒定。S卩，對于構成壓力吸收部71的軟管73來說，在從涂敷液供給管64供給至噴嘴23的涂敷液的壓力上升了時，軟管73膨脹而其內徑變大，從而涂敷液容置部的體積變大。另一方面，在從涂敷液供給管64供給至噴嘴23的涂敷液的壓力下降了時，軟管73收縮而其內徑變小，從而涂敷液容置部的體積減小。這樣，能夠吸收涂敷液的壓力變動。另一方面，對于構成流量抑制部72的硬管74來說，通過作為微小節流孔的小管徑的作用，吸收涂敷液的壓力變動。即，涂敷液的流路的內徑從某一值變小之后再恢復到原來的內徑時，通過此處的涂敷液的平均流速暫時變為快的速度之后恢復為原來的速度。此時，由于涂敷液和管路內壁之間的摩擦而引起的在管路中流動的涂敷液的壓力損失，與涂敷液的流速的平方成正比。因此，通過在管路內設置微小節流孔，能夠通過壓力損失來吸收壓力變動。因此，對于該硬管74來說，能夠吸收涂敷液的壓力變動，來使從各噴嘴23噴出的涂敷液的流量恒定。在此，通常流量抑制部72的使流量變動減小的效果好于壓力吸收部71的使流量變動減小的效果，但若在流量抑制部72過度地損失壓力，則會有涂敷液的可噴出流量變小的問題。另一方面，對于壓力吸收部71來說，雖然抑制流量變動的效果不如流量抑制部72，但不會使可噴出流量變小。因此，在本實施方式中，通過在壓力吸收部71中減小了流量變動之后，再由流量抑制部72來除去剩余的流量變動，從而將涂敷液的流量維持恒定，來均勻地涂敷涂敷液。此時，在本實施方式中，因為壓力吸收部71由軟管73構成，其結構簡單，另外，能夠通過變更軟管73的長度，來容易地控制涂敷液的壓力變動。同樣，在本實施方式中，因為流量抑制部72由硬管74構成，其結構簡單，還有，能夠通過變更硬管74的長度，來容易地控制涂敷液的壓力變動。接著，說明壓力吸 收部71的其他的實施方式。圖6A及圖6B是本發明第2實施方式的壓力吸收部71的概略圖。該第2實施方式的壓力吸收部71包括涂敷液的流路82，一端與涂敷液供給管64連通，另一端與噴嘴23側連通；腔室81，在其側部形成有開口部，并且具有涂敷液的貯存部83 ;薄膜84，設置在腔室81的開口部，能夠進行彈性變形。在該壓力吸收部71中，能夠通過可彈性變形的薄膜84的作用，來吸收涂敷液的壓力變動。S卩，當供給至噴嘴23的涂敷液的壓力上升了時，如圖6A所示，薄膜84膨脹，涂敷液貯存部83體積變大，當供給至噴嘴23的涂敷液的壓力下降了時，如圖6B所示，薄膜84凹入，涂敷液貯存部83的體積變小。這樣，在該壓力吸收部71中能夠吸收涂敷液的壓力變動。因此，將圖6A及圖6B所示的壓力吸收部71設置在涂敷液供給管64和流量抑制部72之間，來代替圖5所示的壓力吸收部71，能夠將涂敷液的流量維持恒定，從而能夠均勻地涂敷涂敷液。接著，說明流量抑制部72的其他的實施方式。圖7是本發明第2實施方式的流量抑制部72的概略圖。圖7所示的流量抑制部72，一端與涂敷液供給管64側連通，另一端與噴嘴23連通，并且由管路85構成，其中，在管路85的內部形成有由間隔壁86形成的微小節流孔。本實施方式的流量抑制部72，通過微小節流孔的作用，與上述硬管74同樣，能夠吸收涂敷液的壓力變動。因此，通過將圖7所示的流量抑制部72設置在壓力吸收部71和噴嘴23之間，來代替圖5所示的流量抑制部72，能夠將涂敷液的流量維持恒定，從而能夠均勻地涂敷涂敷液。在具有以上結構的涂敷裝置中，在要開始涂敷涂敷液時，最開始玻璃基板100被保持在基板保持部10上。然后，通過拍攝部15檢測形成于玻璃基板100上的定位標記，根據該檢測結果使基板保持部10移動或者旋轉，玻璃基板100配置在圖I中用實線表示的涂敷開始位置。在這狀態下，開始從涂敷頭20上的多個噴嘴23噴出涂敷液，并且通過涂敷頭移動機構21使涂敷頭20沿著主掃描方向移動。然后，分別從多個噴嘴23向玻璃基板100的表面，以恒定的流量持續噴出涂敷液，并且，涂敷頭20以恒定的速度沿著主掃描方向連續移動，在玻璃基板100的涂敷區域的多個線狀區域涂敷條紋狀的涂敷液。此時，因為在具有壓力吸收部71和流量抑制部72的壓力變動吸收機70中，吸收涂敷液的壓力變動，所以能夠使從各噴嘴23噴出的涂敷液的流量恒定。然后，涂敷頭20移動到圖I及圖2中用雙點劃線表示的與受液部18相向的待機位置，來由涂敷液形成條紋狀的圖案。當涂敷頭20移動到待機位置時，基板移動機構11被驅動，玻璃基板100與基板保持部10 —起沿著副掃描方向移動。此時，在涂敷頭20中，從多個噴嘴23向受液部18連續噴出涂敷液。繼續以上的動作，直到需要的涂敷動作完成為止。然后，當玻璃基板100移動到涂敷結束位置時，停止從多個噴嘴23噴出涂敷液，涂敷裝置向玻璃基板100涂敷涂敷液的動作結束。涂敷結束了的玻璃基板100被搬運到其他涂敷裝置等，通過該涂敷裝置涂敷除了所涂敷的涂敷液以外的其他2個顏色的涂敷液。然后，在對玻璃基板100進行規定的涂敷工序后，與其他的部件組裝來制造有機EL裝置。此外，在上述的實施方式中，在涂敷液供給管64 —側設置壓力吸收部71，在噴嘴23 一側設置流量抑制部72，但可以相反地設置。即，在涂敷液供給管64 —側設置流量抑制部72，在噴嘴23 —側設置壓力吸收部71的情況下，也能夠使從各噴嘴23噴出的涂敷液的
流量恒定。
權利要求
1.一種涂敷裝置， 具有: 基板保持部，用于保持基板， 噴嘴，用于向被上述基板保持部保持的基板噴出涂敷液， 主掃描方向移動機構，用于使上述噴嘴沿著平行于基板的表面的主掃描方向往復移動， 副掃描方向移動機構，用于使上述基板保持部沿著副掃描方向相對于上述噴嘴移動，其中，上述副掃描方向垂直于上述主掃描方向，并且平行于基板的表面， 撓性的涂敷液供給管，用于從涂敷液貯存部向上述噴嘴輸送涂敷液； 該涂敷裝置的特征在于， 還具有壓力變動吸收機構，該壓力變動吸收機構配設在上述噴嘴與上述涂敷液供給管之間，并且與上述噴嘴形成一體來進行移動， 該壓力變動吸收機構具有 壓力吸收部，隨著從上述涂敷液供給管輸送的涂敷液的壓力變動而發生彈性變形，由此使涂敷液容置部的體積變化， 流量抑制部，具有比上述涂敷液供給管的內徑更小的節流孔。
2.根據權利要求I所述的涂敷裝置，其特征在于，上述壓力吸收部由樹脂制的軟管構成。
3.根據權利要求2所述的涂敷裝置，其特征在于，上述樹脂制的軟管的外經為Imm 3mm,上述樹脂制的軟管的內徑為O. 5mm 2. 5mm。
4.根據權利要求2所述的涂敷裝置，其特征在于，上述流量抑制部是樹脂制的硬管，該硬管的內徑小于上述涂敷液供給管的內徑及上述軟管的內徑。
5.根據權利要求4所述的涂敷裝置，其特征在于，上述硬管的外經為Imm 3mm，上述硬管的內徑為O. 05mm O. 2mm。
6.一種涂敷裝置， 具有 基板保持部，用于保持基板， 噴嘴，用于向被上述基板保持部保持的基板噴出涂敷液， 主掃描方向移動機構，用于使上述噴嘴沿著平行于基板的表面的主掃描方向往復移動， 副掃描方向移動機構，用于使上述基板保持部沿著副掃描方向相對于上述噴嘴移動，其中，上述副掃描方向垂直于上述主掃描方向，并且平行于基板的表面， 撓性的涂敷液供給管，用于從涂敷液貯存部向上述噴嘴輸送涂敷液； 該涂敷裝置的特征在于， 還具有壓力變動吸收機構，該壓力變動吸收機構配設在上述噴嘴與上述涂敷液供給管之間，并且與上述噴嘴形成一體來進行移動， 該壓力變動吸收機構具有 壓力吸收部，由壁厚薄的軟管構成，隨著從上述涂敷液供給管輸送的涂敷液的壓力變動而發生彈性變形，由此使涂敷液容置部的體積變化，流量抑制部，內徑小于上述涂敷液供給管的內徑及上述軟管的內徑，而且由壁厚比上述軟管的壁厚厚的樹脂制的硬管構成。
7.根據權利要求I至6中任一項所述的涂敷裝置，其特征在于， 上述噴嘴在上述副掃描方向上以規定的間距配設有多個，上述涂敷液供給管和上述壓力變動吸收機構與各噴嘴相對應地配設有多個，并且， 多個上述涂敷液供給管分別通過質量流量控制器與用于從上述涂敷液貯存部壓送涂敷液的泵相連接。
全文摘要
本發明提供一種涂敷裝置，涂敷裝置即使在通過撓性的涂敷液供給管，從涂敷液貯存部向進行往復移動的噴嘴輸送涂敷液的情況下，也能夠將涂敷液的流量維持恒定來均勻地涂敷涂敷液。壓力變動吸收機構(70)具有壓力吸收部(71)和流量抑制部(72)。壓力吸收部(71)由薄壁的樹脂制的軟管(73)構成，通過隨著從涂敷液供給管(64)輸送的涂敷液的壓力變動而發生彈性變形來使涂敷液容置部的體積變化。另外，流量抑制部(72)由內徑比涂敷液供給管(64)的內徑和軟管(73)的內徑小即具有更小的節流孔厚壁的樹脂制的硬管(74)構成。
文檔編號B05C9/00GK102950087SQ20121019403
公開日2013年3月6日 申請日期2012年6月13日 優先權日2011年8月25日
發明者相良秀一, 高村幸宏, 伊藤隆介, 大宅宗明 申請人:大日本網屏制造株式會社