去污液噴霧裝置制造方法
【專利摘要】本發明提供一種去污液噴霧裝置，即使在沒有適當地向噴霧器供給空氣的情況下，也不會發生去污液的直接噴射或產生液滴。去污液噴霧裝置具備：噴霧器，其具有第一端口、第二端口及噴嘴口；第一配管，其一端連接于空氣壓縮機，另一端連接于所述第一端口；第二配管，其設于比所述第二端口靠下方的位置，一端連接于所述第二端口，另一端開放；存積部，其用于存積去污液；泵，其從所述存積部汲取去污液；及第三配管，其一端連接于所述泵，且供由所述泵汲取的去污液流動，所述噴霧器利用在從所述噴嘴口噴射自所述第一端口獲取的空氣時所述第二端口所產生的負壓，通過所述第二配管抽吸在所述第三配管中流動的去污液，使所述去污液與空氣混合而形成霧狀并從所述噴嘴口噴射。
【專利說明】去污液噴霧裝置
【技術領域】
[0001 ] 本發明涉及去污液噴霧裝置。
【背景技術】
[0002]在細胞的培養裝置、隔離器等中，設置有使過氧化氫水等去污液氣化從而產生過氧化氫氣體等去污氣體的去污氣體產生裝置。開發了各種去污氣體的產生技術(例如參照專利文獻I)。
[0003]在專利文獻I所記載的技術中，利用噴霧器將由加熱器加熱后的空氣與由泵汲取的去污液混合并霧化,從而生成去污氣體。
[0004]在先技術文獻
[0005]專利文獻
[0006]專利文獻1:日本特開2003-339829號公報發明概要
[0007]發明要解決的課題
[0008]然而，在沒有適當地向噴霧器供給空氣的情況下，從泵壓縮輸送來的去污液沒有被適當地霧化，存在去污液以液體狀態被直接噴射或從噴霧器產生液滴的可能性。
[0009]
【發明內容】
[0010]本發明是鑒于上述課題而完成的，其目的之ー在于，即使在沒有適當地向噴霧器供給空氣的情況下，也不會發生去污液的直接噴射或產生液滴。
[0011]為了實現上述目的，本發明的一個技術方案所涉及的去污液噴霧裝置具備:噴霧器，其具有第一端ロ、第二端ロ及噴嘴ロ ；第一配管，其一端連接于空氣壓縮機，另一端連接于所述第一端ロ ；第二配管，其設于比所述第二端ロ靠下方的位置，一端連接于所述第二端ロ，另一端開放；存積部，其用于存積去污液；泵，其從所述存積部汲取去污液；及第三配管，其一端連接于所述泵，且供由所述泵汲取的去污液流動，所述噴霧器利用在從所述噴嘴ロ噴射自所述第一端ロ獲取的空氣時所述第二端ロ所產生的負壓，通過所述第二配管抽吸在所述第三配管中流動的去污液，使所述去污液與空氣混合而形成霧狀并從所述噴嘴ロ噴射。
[0012]發明效果
[0013]即使在沒有適當地向噴霧器供給空氣的情況下，也不會發生去污液的直接噴射或產生液滴。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0014]圖1是示出本發明的第一實施方式中的隔離器10的結構的圖。
[0015]圖2是示出在微型計算機71中實現的功能模塊的圖。
[0016]圖3是示出本發明的第二實施方式中的隔離器10的結構的圖。[0017]圖4是示出本發明的第三實施方式中的隔離器10的結構的圖。
【具體實施方式】
[0018]根據本說明書及附圖的記載，至少可知曉以下內容。
[0019]需要說明的是，在本說明書中，去污指的是殺滅微生物、細菌等而接近無菌的情況，包含所謂的除菌、殺菌、滅菌等含義。
[0020]第一實施方式
[0021]圖1是示出本發明的第一實施方式中的隔離器10的結構的圖。隔離器10是在去污后的環境下進行細胞的作業等的裝置，包括去污液噴霧裝置20、供給裝置21、作業室22、排出裝置23、操作部24及控制裝置25。
[0022]<去污液噴霧裝置>
[0023]去污液噴霧裝置20是向作業室22的內部對去污液進行噴霧的裝置單元，構成為包括噴霧器100、容器(存積部)30、瓶31、泵33、第一管道34、第二管道35、第三管道36、空氣壓縮機80、空氣濾清器90和91及過濾器92。
[0024]另外，在瓶31裝配有水位傳感器72。泵33、空氣壓縮機80由控制裝置25控制。
[0025]空氣壓縮機80當從控制裝置25接收運轉開始的指示時從外部吸入空氣(air)并壓縮輸送至第一管道34。
[0026]第一管道34的一端連接于空氣壓縮機80,另一端連接于噴霧器100的第一端口101。由此，從空氣壓縮機80壓縮輸送的空氣穿過第一管道34而供給至噴霧器100的第一端口 101。
[0027]需要說明的是，在第一管道34的路線上設有空氣濾清器90，從空氣壓縮機80送出的空氣內的灰塵、水分等雜質由空氣濾清器90除去。
[0028]噴霧器100具備第一端口 101、第二端口 102及噴嘴口 103。第一端口 101及第二端口 102分別通過形成于噴霧器100的內部的流路而與噴嘴口 103連通。
[0029]另外，噴嘴口 103的直徑形成為比第一端口 101的直徑小。因此，從第一端口 101流入至噴霧器100的空氣在噴霧器100的內部的流路中加速，并從噴嘴口 103噴射。
[0030]在噴霧器100的第二端口 102連接有第二管道35。
[0031]第二管道35配置在比第二端口 102靠下方(勢能較低的位置)的位置，一端與噴霧器100的第二端口 102連接，另一端開放。
[0032]在本實施方式中，第二管道35的另一端在設置于第二管道35的另一端的鉛垂下方的瓶31的內部空間中開放。而且，瓶31的內部空間經由空氣濾清器91向大氣開放。
[0033]在此，從空氣壓縮機80供給至噴霧器100的第一端口 101的空氣如上所述那樣在噴霧器100的內部提高流速后從噴嘴口 103噴射。當空氣的流速在噴霧器100的內部上升時，從第一端口 101到噴嘴口 103之間的流路內的壓力低于大氣壓(形成負壓)。如此一來，與該流路連通的第二端口 102的壓力也低于大氣壓，大氣穿過與第二端口 102連接的第二管道35而流入到第二端口 102。穿過第二管道35而流入到第二端口 102的大氣在噴霧器100內部的流路中與從第一端口 101流入的空氣合流，并從噴嘴口 103噴射。
[0034]另一方面，容器30儲藏例如過氧化氫水(溶解有過氧化氫(H2O2)的水溶液)作為去污液。[0035]泵33在基于控制裝置25的控制下運轉，從容器30汲取過氧化氫水并送出至第三管道36。
[0036]在第三管道36中且是在路線上設有過濾器92。過濾器92除去從泵33送出的過氧化氫水內的塵等雜質。
[0037]第三管道36的一端連接于泵33，另一端在第二管道35的路線上的合流點37與第ニ管道35合流。
[0038]由于第二管道35如上所述那樣配置在比噴霧器100的第二端ロ 102靠下方的位置，因此合流點37位于比第二端ロ 102靠下方的位置。另外，第二管道35的另一端也配置在比第二端ロ 102靠下方的位置。
[0039]因此，利用泵33通過第三管道36而送出到合流點37的過氧化氫水無法僅借助泵33的力上升至噴霧器100的第二端ロ 102。
[0040]然而，如上所述，由于噴霧器100的第二端ロ 102低于大氣壓(形成負壓)，因此利用泵33送出到合流點37的過 氧化氫水利用該壓カ差繼續朝向噴霧器100的第二端ロ 102上升。
[0041]輸送至噴霧器100的第二端ロ 102的過氧化氫水與從第一端ロ 101流入到噴霧器100內的空氣合流，并作為霧狀氣體從噴嘴ロ 103噴射。
[0042]通過這樣做，能夠高效地進行作業室22的內部的去污。例如，在使過氧化氫水霧化吋，即使不使用加熱器、應用了超聲波的氣化器等，也能夠高效地形成霧狀的過氧化氫水氣體并向作業室22內噴霧。
[0043]另外，本實施方式的去污液噴霧裝置20例如在因某些故障而停止向噴霧器100供給空氣的情況下，即使泵33保持運轉狀態，也能夠使從泵33送出的過氧化氫水從第二管道35的另一端排出，而不上升至噴霧器100的第二端ロ 102。由此，能夠可靠地防止過氧化氫水以液體狀態被直接噴射到作業室22內。另外，也能夠不使液滴從噴霧器100產生。
[0044]因此，也不會出現過氧化氫水以液體狀態向作業室22內的試料噴射的情況，作業者能夠安全地在作業室22內進行細胞培養等作業。
[0045]另外，如圖1所示，本實施方式的去污液噴霧裝置20在第二管道35的另一端的鉛垂下方設有瓶31，使流下的過氧化氫水存積于瓶31。由此，能夠安全地回收過氧化氫水。
[0046]另外，本實施方式的去污液噴霧裝置20在瓶31中具備水位傳感器72。水位傳感器72檢測過氧化氫水在瓶31內存積至規定量和與其等同的含義，并將表示該含義的信號輸出至控制裝置25。
[0047]而且，控制裝置25在從水位傳感器72接收到表示瓶31內的過氧化氫水存積至規定量的含義的信號的情況下使泵33停止。由此，在過氧化氫水從瓶31溢出之前停止供給過氧化氫水，因此能夠提高隔離器10的安全性。
[0048]另外，過氧化氫水在瓶31內存積規定量之后使泵33的動作停止，由此，即使在空氣壓縮機80的能力例如因外部電源電壓的暫時變動等、環境條件的暫時變化而降低，因空氣不足等發生過氧化氫水的流下的情況下，也能夠不過度地使泵33停止。由此，能夠確保隔離器10的安全性并且運轉效率也不會下降。
[0049]<供給裝置>
[0050]供給裝置21是向作業室22供給隔離器10的外部的空氣的裝置，包含電磁閥40及風扇41。
[0051]電磁閥40在基于控制裝置25的控制下向風扇41供給外部的空氣。風扇41向作業室22供給從電磁閥40供給的空氣。
[0052]<作業室>
[0053]作業室22是用于進行細胞的作業等的空間，在作業室22設置有空氣濾清器50和
51、門52、噴霧器100及作業用手套53。
[0054]空氣濾清器50是用于除去從風扇41供給的空氣所包含的灰塵等雜質的濾清器。空氣濾清器51是用于除去從作業室22排出的氣體等所包含的灰塵等雜質的濾清器。此外，在空氣濾清器50、51中使用例如HEPA(High Efficiency Particulate Air)濾清器。
[0055]門52以能夠開閉的方式設于作業室22的前表面，以便將細胞等搬入作業室22。
[0056]作業用手套53安裝于設置在門52處的開口部(未圖示)，以便在門52被關閉的狀態下，作業者能夠對作業室22內的細胞等進行作業。需要說明的是，在門52被關閉的狀態下，作業室22被封閉。
[0057]噴霧器100以霧狀噴 出用于對作業室22的內部進行去污的過氧化氫氣體。
[0058]〈排出裝置〉
[0059]排出裝置23是用于從作業室22排出過氧化氫氣體、空氣等氣體的裝置，包括電磁閥60、去污氣體惰性化裝置61及風扇62。
[0060]電磁閥60根據來自控制裝置25的控制將從空氣濾清器51輸出的氣體供給至去污氣體惰性化裝置61。
[0061]去污氣體惰性化裝置61具備催化劑，使從電磁閥60輸出的氣體變得無害化并輸出至風扇62。
[0062]風扇62根據來自控制裝置25的控制向隔離器10的外部輸出從去污氣體惰性化裝置61輸出的氣體。
[0063]<操作部>
[0064]操作部24是使用者用于設定隔離器10的動作的操作面板等。操作部24的操作結果向控制裝置25發送，控制裝置25根據操作結果控制隔離器10的各組件。
[0065]<控制裝置>
[0066]控制裝置25是統一控制隔離器10的裝置，包括存儲裝置70及微型計算機71。
[0067]存儲裝置70存儲有由微型計算機71執行的程序數據、各種數據。微型計算機71通過執行存儲于存儲裝置70的程序數據來實現各種功能。例如，當從操作部24輸出用于產生去污氣體的指示時,微型計算機71執行用于產生去污氣體的規定的程序，并對空氣壓縮機80、泵33等進行控制。
[0068]對利用微型計算機71實現的功能模塊進行說明。
[0069]微型計算機71執行存儲于存儲裝置70的規定的程序，實現圖2所示的空氣壓縮機控制部300、泵控制部301、電磁閥控制部302、風扇控制部303的功能。
[0070](空氣壓縮機控制部)
[0071]空氣壓縮機控制部300當從操作部24輸出用于產生去污氣體的指示時開始空氣壓縮機80的動作。
[0072]另外，空氣壓縮機控制部300在泵控制部301停止泵33的動作之后，在例如經過規定時間之后使空氣壓縮機80的動作停止。通過這樣做，泵33能夠在空氣壓縮機80不進行動作的期間汲取過氧化氫水，能夠進ー步提高隔離器10的安全性。需要說明的是，當然，空氣壓縮機控制部300也可以根據來自操作部24的使處理停止的指示停止空氣壓縮機80的動作。
[0073](泵控制部)
[0074]泵控制部301在空氣壓縮機控制部300開始空氣壓縮機80的動作時使泵33進行動作。例如，泵控制部301在空氣壓縮機控制部300開始空氣壓縮機80的動作并經過規定時間之后開始泵33的動作。通過這樣做，泵33能夠在空氣壓縮機80不進行動作的期間不汲取過氧化氫水，從而能夠進ー步提高隔離器10的安全性。
[0075]另外，泵控制部301根據來自操作部24的使處理停止的指示使泵33停止。需要說明的是，泵控制部301也可以在空氣壓縮機控制部300使空氣壓縮機80的動作停止時使泵33停止。
[0076]另外，泵控制部301在從水位傳感器72接收到表示瓶31內的過氧化氫水積蓄至規定量的含義的信號的情況下使泵33停止。
[0077](電磁閥控制部)
[0078]電磁閥控制部302在從操作部24輸出例如對作業室22內進行換氣的指示時打開電磁閥40、60。另外，電磁閥控制部302在從操作部24輸出例如停止作業室22內的換氣的指示時關閉電磁閥40、60。需要說明的是，也可以使電磁閥40、60的開閉能夠分別獨立地控制。
[0079](風扇控制部)
[0080]風扇控制部303在從操作部24輸出例如對作業室22內進行換氣的指示時開始風扇41、62的動作。另外，風扇控制部303在從操作部24輸出例如停止作業室22內的換氣的指示時停止風扇41、62的動作。需要說明的是，也可以使風扇41、62的動作能夠分別獨立地控制。
[0081]第二實施方式
[0082]圖3是示出本發明的第二實施方式中的隔離器10的結構的圖。隔離器10是在去污后的環境中進行細胞的操作等的裝置，包括去污液噴霧裝置20、供給裝置21、作業室22、排出裝置23、操作部24及控制裝置25。
[0083]第二實施方式所涉及的隔離器10與第一實施方式相比不同之處在于，去污液噴霧裝置20的第二管道35的另一端被引導至過氧化氫水的容器30的內部這一點及在第二管道35的另一端與合流點37之間設置有電磁閥95這一點。
[0084]微型計算機71的電磁閥控制部302在從操作部24輸出用于產生去污氣體的指示時打開電磁閥95。另外，電磁閥控制部302在從操作部24輸出用于停止去污氣體的產生的指示時關閉電磁閥95。
[0085]在第二實施方式的去污液噴霧裝置20中，例如在因某些故障而停止向噴霧器100供給空氣的情況下，即使泵33沒有停止，利用泵33汲取的過氧化氫水也不會上升至噴霧器100，因此也不會向噴霧器100供給過氧化氫水。由此，能夠可靠地防止過氧化氫水以液體狀態直接噴射至作業室22內。
[0086]另外，通過采用第二實施方式的結構，不需要用于收納從第二管道35的另一端流下的過氧化氫水的瓶31。
[0087]另外，由于沒有以霧狀被噴出的過氧化氫水在容器30中環流而來，因此能夠容易地對過氧化氫水進行再利用。另外，由于不需要進行瓶31的管理，因此也減少維護的負擔。
[0088]另外，即使沒有從噴霧器100以霧狀噴出的過氧化氫水返回容器30，容器30內的過氧化氫水的量也不會超過最初的存積量，因此容器30不會滿溢。因此，能夠不需要水位傳感器72，并且也能夠提高隔離器10的安全性。
[0089]另外，由于在過氧化氫水沒有以霧狀從噴霧器100噴出的期間關閉電磁閥95，因此，也能夠防止外部空氣所包含的塵等雜質通過第二管道35及噴霧器100混入作業室22內。
[0090]需要說明的是，雖然圖3所示的第二管道35的另一端設置于容器30的內部，但也可以設置在容器30的鉛垂上方。在該情況下，返回容器30的過氧化氫水從第二管道35的另一端滴下到容器30內。
[0091]第三實施方式
[0092]圖4是示出本發明的第三實施方式中的隔離器10的結構的圖。隔離器10是在去污后的環境下進行細胞的操作等的裝置，包括去污液噴霧裝置20、供給裝置21、作業室22、排出裝置23、操作部24及控制裝置25。
[0093]第三實施方式所涉及的隔離器10與第一實施方式相比不同之處在于，第三管道36的另一端插入到瓶31的內部這一點。在第三實施方式中，利用泵33從容器30汲取的過氧化氫水自第三管道36的另一端注入至瓶31。
[0094]而且，在第三實施方式中，第二管道35的另一端設置于被注入瓶31的過氧化氫水的在液體中的位置。例如，第二管道35的另一端設置在瓶31內部的底面的附近位置。在該情況下，即使存積在瓶31內 的過氧化氫水的量只是微量，也能夠將第二管道35的另一端的位置設于過氧化氫水的液體中。
[0095]另外，在瓶31內預先設置檢測瓶31內的過氧化氫水的量下降了規定量的傳感器(未圖示)，在瓶31內的過氧化氫水的量下降了規定量的情況下，通過利用來自控制裝置25的指示驅動泵33而向瓶31內補充過氧化氫水，由此也可以控制為第二管道35的另一端處于瓶31內的過氧化氫水的液體中。
[0096]以上，雖然例示了第一-第三實施方式的去污液噴霧裝置20，但根據此類去污液噴霧裝置20，即使在沒有適當地向噴霧器100供給空氣的情況下，也能夠不發生過氧化氫水的直接噴射或不產生液滴。
[0097]另外，根據去污液噴霧裝置20，能夠高效地進行作業室22的內部的去污。例如，在使過氧化氫水氣化時，即使不使用加熱器、應用了超聲波的氣化器等，也能夠高效地形成霧狀的過氧化氫水氣體并以霧狀向作業室22內噴霧。
[0098]另外，即使在去污液噴霧裝置20例如因某些故障而停止向噴霧器100供給空氣的情況下，殘留在第二管道35的內部的過氧化氫水也不會上升至噴霧器100的第二端口 102，而是在自重的作用下從第二管道35的另一端落下并回收到瓶31或瓶30。另外，從泵33送出的過氧化氫水也被回收到瓶31。
[0099]因此，本實施方式的去污液噴霧裝置20能夠使過氧化氫水不會以液體狀態向作業室22的內部直接噴射。由此，作業者能夠安全地在作業室22內進行細胞培養等作業。[0100]而且，因此，能夠將噴霧器100直接設置于作業室22的內部，因此能夠高效地進行作業室22內的去污。例如，與將噴霧器100設置在作業室22的外部的情況相比，能夠以更高的濃度從噴霧器100以霧狀噴出過氧化氫，從而能夠得到更好的去污效果。
[0101]需要說明的是，本實施方式用于使本發明便于理解，并非用于限定地解釋本發明。本發明能夠在不脫離其主g的前提下進行變更、改進，并且本發明也包含與其等同的等同物。
[0102]例如，在本實施方式中例示了過氧化氫水作為去污液，但也可以是こ醇或異丙醇等醇類、次氯酸水、ニ氧化氯水、臭氧水、甲醛等。
[0103]附圖標記說明如下:
[0104]10:隔離器
[0105]20:去污液噴霧裝置
[0106]21:供給裝置
[0107]22:作業室
[0108]23:排出裝置
[0109]24:操作部
[0110]25:控制裝置
[0111]30:容器
[0112]31:瓶
[0113]33:泵
[0114]34:第一管道
[0115]35:第二管道
[0116]36:第三管道
[0117]37:合流點
[0118]40、60、95:電磁閥
[0119]41:風扇
[0120]50、51:空氣濾清器
[0121]52:門
[0122]53:手套
[0123]61:去污氣體惰性化裝置
[0124]62:風扇
[0125]70:存儲裝置
[0126]71:微型計算機
[0127]72:水位傳感器
[0128]80:空氣壓縮機
[0129]90,91:空氣濾清器
[0130]92:過濾器
[0131]100:噴霧器
[0132]101:第一端 ロ
[0133]102:第二端 ロ[0134]103:噴嘴口
[0135]300:空氣壓縮機控制部
[0136]301:泵控制部
[0137]302:電磁閥控制部
[0138]303:風 扇控制部。
【權利要求】
1.一種去污液噴霧裝置，其特征在于， 所述去污液噴霧裝置具備: 噴霧器，其具有第一端口、第二端口及噴嘴口 ； 第一配管，其一端連接于空氣壓縮機，另一端連接于所述第一端口 ； 第二配管，其設于比所述第二端口靠下方的位置，一端連接于所述第二端口，另一端開放； 存積部，其用于存積去污液； 泵，其從所述存積部汲取去污液 '及 第三配管，其一端連接于所述泵，且供由所述泵汲取的去污液流動， 所述噴霧器利用在從所述噴嘴口噴射自所述第一端口獲取的空氣時所述第二端口所產生的負壓，通過所述第二配管抽吸在所述第三配管中流動的去污液，使所述去污液與空氣混合而形成霧狀并從所述噴嘴口噴射。
2.根據權利要求1所述的去污液噴霧裝置，其特征在于， 所述第三配管的另一端在所述第二配管的路線上的合流點處與所述第二配管合流。
3.根據權利要求2所述 的去污液噴霧裝置，其特征在于， 所述去污液噴霧裝置具備設置在所述第二配管的所述另一端的鉛垂下方且容納從所述合流點流下的去污液的瓶。
4.根據權利要求3所述的去污液噴霧裝置，其特征在于， 所述去污液噴霧裝置具備: 傳感器，其對從所述第二配管流下的去污液存積于所述瓶的情況進行檢測；及泵控制部，其在從所述傳感器接收到表示在所述瓶中存積有去污液的含義的信號時停止所述泵。
5.根據權利要求2所述的去污液噴霧裝置，其特征在于， 所述第二配管的所述另一端設于所述存積部的鉛垂上方或內部。
6.根據權利要求1所述的去污液噴霧裝置，其特征在于， 所述去污液噴霧裝置具備用于存積由所述泵汲取的去污液的瓶， 所述第三配管的另一端設置在所述瓶的內部， 所述第二配管的另一端設置在存積于所述瓶的去污液的在液體中的位置。
7.根據權利要求1至6中任意一項所述的去污液噴霧裝置，其特征在于， 所述去污液為過氧化氫水。
8.根據權利要求1至7中任意一項所述的去污液噴霧裝置，其特征在于， 所述噴霧器設置在用于進行以細胞為對象的作業的作業室內。
【文檔編號】B05B7/30GK103459582SQ201180069749
【公開日】2013年12月18日 申請日期:2011年12月22日 優先權日:2011年3月29日
【發明者】中田祐志, 來棲弘一, 佐藤桂司, 巖間明文 申請人:松下健康醫療器械株式會社