專利名稱：納米隱形藝術品復制專用淋膜液及其制備方法
技術領域：
本發明涉及一種淋膜液，尤其是一種納米隱形藝術品復制專用淋膜液。
背景技術：
國畫等傳統藝術品通過噴墨打印的方式制作的復制品，由于打印機墨水的抗氧化能力不足，長時間暴露再空氣中，容易變黃、褪色。通常需要在復制品表面涂覆一層淋膜液， 以達到隔絕空氣，提高復制品的保存時間。但是，一般的淋膜液，由于其主要成分是丙烯酸樹脂，本身具有很高的光澤度，因此，涂覆過淋膜液的復制品，與傳統使用宣紙、絹絲布為基材的國畫原作品，在視覺感官上有很大的差異，無法滿足“原材質、原規格、原色調”的藝術品復制標準。
發明內容
本發明針對現有技術的不足，提供一種納米隱形藝術品復制專用淋膜液，使其既能夠達到保護藝術品的作用，又具有隱形的效果，不被肉眼看到。為實現以上的技術目的，本發明將采取以下的技術方案
一種納米隱形藝術品復制專用淋膜液，包括水性丙烯酸樹脂以及平均粒徑小于60nm 的二氧化硅，且質量份數為100的水性丙烯酸樹脂中，納米二氧化硅的質量份數為10-12。還包括分散劑，且質量份數為100的水性丙烯酸樹脂中，分散劑的質量份數為 1. 5-3。一種上述納米隱形藝術品復制專用淋膜液的制備方法，包括以下步驟首先，計量水性丙烯酸樹脂、分散劑以及二氧化硅，接著，先將水性丙烯酸樹脂以及分散劑置于分散罐中，以800-1500轉/分鐘的轉速攪拌3-6分鐘后，將部分分散劑倒入分散罐中，繼續攪拌 25-40分鐘后，將余下的分散劑全部倒入分散罐中，且提高轉速至5000-6500轉/分鐘，攪拌40-50分鐘，之后降低轉速至300-450轉/分鐘，加入消泡劑，繼續攪拌分散2_3分鐘后， 將分散罐中的分散液傾出，過200目篩網即可。根據以上的技術方案，可以實現以下的有益效果
本發明對現有的淋膜液配方，通過分散加入具有消光作用的納米二氧化硅進行改進， 丙烯酸樹脂涂層不再具有光澤，同時，納米級的二氧化硅本身粒徑很小，具有很高的透明度，故對復制品的色彩基本無影響。分散劑的加入可以提高分散速度。
具體實施例方式以下將結合實施例詳細地說明本發明的技術方案。本發明所述的技術方案不局限于實施例所公開的內容。實施例1
本發明所述納米隱形藝術品復制專用淋膜液的制備方法，包括以下步驟1、將100份水性丙烯酸樹脂倒入分散罐中；2、將分散機轉速設為1200轉/分鐘；3、加入2份分散劑；4、分散機攪拌5分鐘；5、將5份55nm的二氧化硅倒入分散罐；6、分散攪拌30分鐘；7、加入 7份55nm的二氧化硅；8、分散機轉速提高到6000轉/分鐘；攪拌45分鐘；9、分散機轉速降低至350轉/分鐘；10、加入0. 5份消泡劑；11、繼續分散2分鐘；12、關閉分散機，用200 目濾網過濾后，裝入密封容器中即可。上述制備方法制備出的納米隱形藝術品復制專用淋膜液，每100份(質量份數)水性丙烯酸樹脂中，含有12份(質量份數)55nm的二氧化硅以及2份(質量份數)分散劑。實施例2
本發明另一種納米隱形藝術品復制專用淋膜液的制備方法，包括以下步驟1、將100 份水性丙烯酸樹脂倒入分散罐中；2、將分散機轉速設為1500轉/分鐘；3、分散機攪拌6分鐘；4、將5份55nm的二氧化硅倒入分散罐；5、分散攪拌38分鐘；6、加入6份55nm的二氧化硅；7、分散機轉速提高到6500轉/分鐘；攪拌55分鐘；8、分散機轉速降低至400轉/分鐘；9、加入0.5份消泡劑；10、繼續分散3分鐘；11、關閉分散機，用200目濾網過濾后，裝入密封容器中即可。該實施例未添加分散劑，但通過提高剪切力(提高分散機轉速，攪拌時間)實現水性丙烯酸樹脂的分散。通過該實施例獲得的納米隱形藝術品復制專用淋膜液，每100份(質量份數)水性丙烯酸樹脂中，含有11份(質量份數)55nm的二氧化硅。實施例3
本發明再一種納米隱形藝術品復制專用淋膜液的制備方法，包括以下步驟1、將100 份水性丙烯酸樹脂倒入分散罐中；2、將分散機轉速設為900轉/分鐘；3、加入1. 5份分散劑；4、分散機攪拌3分鐘；5、將4份55nm的二氧化硅倒入分散罐；6、分散攪拌25分鐘；7、 加入6份55nm的二氧化硅；8、分散機轉速提高到5000轉/分鐘；攪拌40分鐘；9、分散機轉速降低至300轉/分鐘；10、加入0.5份消泡劑；11、繼續分散2分鐘；12、關閉分散機，用 200目濾網過濾后，裝入密封容器中即可。根據實施例1-3可知，本發明所述納米隱形藝術品復制專用淋膜液，其主要原料為水性丙烯酸樹脂，通過加入納米二氧化硅、分散劑以及消泡劑完成該改良配方的制作。本發明所述的水性丙烯酸樹脂、分散劑以及消泡劑均為市售成品，其中，水性丙烯酸樹脂購自德國hdulor公司；消泡劑采用東莞市博誠化工有限公司的博誠/SP-843水性消泡劑；分散劑采用雅博色彩科技(上海)有限公司的水性分散劑。本發明所述的水性丙烯酸樹脂、消泡劑以及分散劑還可以為其他的能夠應用于噴墨打印復制品上的相應試劑。
權利要求
1.一種納米隱形藝術品復制專用淋膜液，包括水性丙烯酸樹脂，其特征在于還包括平均粒徑小于60nm的二氧化硅，且質量份數為100的水性丙烯酸樹脂中，納米二氧化硅的質量份數為10-12。
2.根據權利要求1所述納米隱形藝術品復制專用淋膜液，其特征在于還包括分散劑， 且質量份數為100的水性丙烯酸樹脂中，分散劑的質量份數為1. 5-3。
3.—種權利要求1所述納米隱形藝術品復制專用淋膜液的制備方法，其特征在于，包括以下步驟首先，計量水性丙烯酸樹脂、分散劑以及二氧化硅，接著，先將水性丙烯酸樹脂以及分散劑置于分散罐中，以800-1500轉/分鐘的轉速攪拌3-6分鐘后，將部分分散劑倒入分散罐中，繼續攪拌25-40分鐘后，將余下的分散劑全部倒入分散罐中，且提高轉速至 5000-6500轉/分鐘，攪拌40-50分鐘，之后降低轉速至300-450轉/分鐘，加入消泡劑，繼續攪拌分散2-3分鐘后，將分散罐中的分散液傾出，過200目篩網即可。
全文摘要
本發明公開了一種納米隱形藝術品復制專用淋膜液及其制備方法，該專用淋膜液包括水性丙烯酸樹脂以及平均粒徑小于60nm的二氧化硅，且質量份數為100的水性丙烯酸樹脂中，納米二氧化硅的質量份數為10-12；其主要原料為水性丙烯酸樹脂，通過加入納米二氧化硅、分散劑以及消泡劑完成該改良配方的制作。由此可知本發明通過分散加入具有消光作用的納米二氧化硅進行改進，丙烯酸樹脂涂層不再具有光澤，同時，納米級的二氧化硅本身粒徑很小，具有很高的透明度，故對復制品的色彩基本無影響。
文檔編號C09D133/00GK102391744SQ20111025757
公開日2012年3月28日 申請日期2011年9月2日 優先權日2011年9月2日
發明者張小勇 申請人:張小勇